JPH0424090B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の詳細な説明〕 本発明は反応器、冷却用表面を備えた触媒床を
含む反応器に関し、またその反応器で実施される
化学反応方法に関する。

従来そのような反応器においては、冷媒、例え
ばジフエニルオキシド・ジフエニル混合物（コト
ウスキー、「ケミシエ・テクニク」1963年、第15
巻、204〜205頁）または沸騰水（英国特許第
1205156号明細書）に取巻かれた管中に触媒を配
置することにより熱交換表面を与えるのが一般的
であり、また反応剤の流動方向は冷媒の流動方向
とほぼ平行であつた。そのような管の外側に触媒
を、そして内側に冷媒を配置する可能性は既に認
識されており、また以前の高圧アンモニア合成お
よびメタノール合成反応において使用されたが、
現在の標準的な300℃以下（普通は低圧）でのメ
タノール合成においては使用されたことがない。
最近そのような触媒／冷媒位置関係、ならびに冷
媒流動方向に対して横方向の反応剤流動を採用す
る反応器が提案されているが（英国特許第
2046618号明細書）、触媒床中の半径方向外向きま
たは半径方向内向きの流動が必要とされるので、
機械的構成および工程操作の両面において可成り
の困難を与えている。

英国特許第1073118号明細書においては、触媒
床内にまたは一連の複数の触媒床内に弦方向流動
を与えることが提案されている。この英国特許明
細書には、複数のそのような触媒床がある場合に
は、反応剤を冷却または加熱するために、相隣れ
る触媒床の間の触媒のない空間中に管を配置する
ことができることも記載されている。

本発明によれば、(a) 反応体ガスの導入口及び
排出口を備え、粒状触媒の単一固定床を収納する
容器を含むか、またはそのような容器をなす耐圧
外殻、 (b) 上記触媒固定床収納容器内で反応体ガス導
入口と連通し、その触媒固定床への導入口を形成
する少なくとも一つの第１通気孔壁付ガス室、及
び上記触媒固定床収納容器内で反応体ガス排出口
と連通し、その触媒固定床からの排出口を形成す
る少なくとも一つの第２通気孔壁付きガス室、 (c) 上記触媒固定床内に実質上垂直に配置され
て冷媒を運びそして粒状触媒と接触する複数の冷
媒管、 からなり、かつそれらの通気孔壁付きガス室は、
反応体がガス導入口から第１通気孔壁付きガス室
中へ流入し、触媒固定床内を冷媒の流動方向に対
し横方向に流れ、第２通気孔壁付きガス室へ流入
し、次いでガス排出口へ流れるように配置されて
いる、発熱的、気相接触合成反応用の竪型筒式反
応器において： () それらの通気孔壁付きガス室は、反応体ガ
スが触媒固定床内を主として弦方向に流れるよ
うに配置され、そして第１通気孔壁付きガス室
から触媒固定床中への反応体流入のために有効
な合計断面積がその触媒固定床から第２通気孔
壁付きガス室への反応体流入のために有効な合
計断面積の0.5〜２倍の範囲となるような寸法
であること； () 冷媒管は触媒固定床の導入口領域及び排出
口領域において冷却を生じさせる管が存在しな
いように配置され、その導入口領域は、第１通
気孔壁付きガス室から第２通気孔壁付きガス室
までの触媒固定床を介しての反応体流動経路の
５〜50％に相当する距離まで第１通気孔壁付き
ガス室から延在しており、そしてその排出口領
域は第１通気孔壁付きガス室から第２通気孔壁
付きガス室までの触媒固定床を介しての反応体
流動経路の75〜95％に相当する距離のところか
ら第２通気孔壁付ガス室まで延在しているこ
と、 を特徴とする、上記反応器が提供される。

それらの通気孔壁付きガス室は、例えば壁面に
沿つた空間域、籠または散布器（スパージヤー）
のような穿孔室でありうる。入口の反応剤流動面
積は出口の流動面積の0.7〜1.42倍であるのが好
ましく、後者にほぼ等しいのが便宜である。

この特徴はいくつかの方法で達成することがで
きる。触媒床が環状の横断面を有する場合には、
その床の内側壁は外側壁よりも直径を余り小さく
なくできるが、そのような構成では触媒床内の流
動経路の流さが製造される。環状床においては、
反応剤流動は円周に沿つた方向であつてもよい。
しかし、好ましい反応器では、触媒床の入口もし
くは出口または（好ましくは）両者は、触媒収納
容器の壁から離されかつその壁の相交わつている
穿孔壁を与えられる。別の態様の反応器において
は、触媒床の入口もしくは出口または（好ましく
は）両者は、単一触媒床体内において１またはそ
れ以上の散布器（多くの場合に、触媒を含まない
籠状のもの）を備える。

冷媒送管の冷却効果は、触媒床のいろいろな部
分で起こる異なる発熱生に従つて程度を変えるこ
とができる。従つて、例えば反応剤入口付近で反
応が非常に速い場合には当該域中の冷却管は、数
を多くそして小径とし、および／またはフイン付
きとし、および／または熱移動係数増大のために
内部乱流化装置付きとすることができる。所望な
らば、冷媒を触媒床に一回よりも多く通過させて
から触媒床を去らせてもよい。また１種よりも多
くの冷媒を用いることも可能であり、例えば低熱
発生域では供給用の冷たい反応剤または非沸騰性
液体を冷却として用い、そして高熱発生域では沸
騰性液体を冷媒として用いることができる。冷却
管は、所望ならば、ジクザク形にしてその冷却面
積を増大させると共に熱膨張および収縮に順応す
るようにできる。

触媒床は、実質的に断熱的であり、すなわち、
触媒床は、その導入口領域及びその排出口領域に
おいて冷却管を含まない。この導入口領域は第１
通気孔壁付きガス室から第２通気孔壁付きガス室
までの触媒床を介しての反応体流動経路の５〜50
％に相当する距離まで第１通気孔壁付きガス室か
ら延在しており、またその排出口領域は第１通気
孔壁付きガス室から第２通気孔壁付きガス室まで
の触媒床を介しての反応体流動経路の75〜95％に
相当する距離のところから第２通気孔壁付きガス
室まで延在している。この構成は、300℃以下で、
適当には銅含有触媒上で30〜120絶対バールの圧
力でのメタノール合成のための反応器として殊に
適当である。

このような構成は、合成反応の発熱が合成ガス
の温度を最適反応速度達成値（例えば240〜270
℃）にまで上昇させるのに奪われる入口帯域；合
成ガス温度を上記最適範囲に冷却用管により制御
する領域；およびさらに合成反応が小規模に起こ
る領域であるがこの領域には触媒だけ含まれるの
で合成反応速度は最大化されるような領域；を与
える。

沸騰液体による冷却を採用する場合には、沸騰
液体を蒸気／液体分離器（例えばスチームドラ
ム）へ送り、分離液体を再び冷却用管の底部へ戻
す循環系を用いるのが普通である。分離された液
体を触媒床内の冷却用管中に下向きに通過させ、
その下向通過中に沸騰させまたは沸騰させること
なく、熱を吸収することもできる。別法として、
当該領域で反応剤が目的とする発熱反応を生じさ
せるには低過ぎる温度であるような場合には、液
体を冷却用管中に下向きに通過させて、その通過
中に熱を放出するようにすることもできる。これ
は、反応剤の予熱を制限するのが望ましい場合、
あるいは触媒床の入口領域の触媒が活性を喪失し
てしまつた場合に有用である。さらに別の可能性
においては、触媒を含まない反応剤予熱帯域に、
液体を下向きに通過させることができる。冷却用
管内の気化性液体の流動は、熱サイフオン作用も
しくはポンプ圧送またはその両方で行うことがで
きる。

触媒床内に冷媒送管を触媒収納容器にリジツド
に（剛性的に）固定しないように装着することの
一利点は、合成ガスと著しくは反応せず従つて揮
発性の鉄カルボニルまたはニツケルカルボニルを
与えないが、触媒収納容器の構成のために好まし
い低合金鋼よりも大きな熱膨張係数を有するクロ
ム・ニツケル・オーステナイト系ステンレス鋼
（例えばA.I.S.I.の304または316）から、冷媒送管
（すなわち冷却用管）を製造しうることである。
殊に、そのような鋼材類が用いられる場合には、
冷却用管は膨張順応性のフレキシブル材を介して
蒸気／液体分離器に接続される。

触媒床の入口断面積と出口断面積との差を限定
することによつて下記の利点が得られる： (a) 入口および出口における反応剤の流動速度が
著しく異なるので、冷却用管の間隙または熱移
動特性の差を与える設計が一層簡単であり、ま
た断面積が一層大きくても穿孔スクリーンによ
つて局部的高速度を導入する必要がない。

(b) 入口および出口の断面における反応剤の分布
を容易に均衡化できる。

(c) 所望ならば、例えば不均等な触媒失活を補償
するために、触媒床内の流れの方向を反転でき
る。

好ましくは、本発明の反応器は、 (a) 触媒床、その触媒床内の管状の熱交換表面、
それらの表面の低温側に気化性液体を供給する
手段、およびその低温側から蒸気／液体混合物
を取り出すための手段；ならびに (b) 上記蒸気／液体混合物を収受し、蒸気をある
別の用途へ配送し、そして液体を上記熱交換表
面の低温側へ供給する蒸気／液体分離器； を組合せて含み、かつ触媒床を収容する容器を蒸
気／液体分離器を収容する容器とが一つの共通な
構造枠組内に接近して装着されていることを特徴
とするものである。

上記の如き一つの共通な構造枠組内に接近して
装着することの効果は、熱損失と曲折流動経路と
による蒸気中の圧力の損失が著しく低減され、か
くして、中圧スチームの形での高効率の熱回収が
達成されうることである。これは、触媒反応（例
えばメタノール合成反応）が300℃以下で起こり、
従つてスチーム圧力がスチーム／炭化水素改質に
よる合成ガス発生に必要とされる圧力よりも余り
高くなり得ない場合に、特に重要である。

好ましくは、上記の共通構造枠組は、触媒床お
よび蒸気／液体分離器を一つの共通な外殻内に収
納することによつて与えられる。その分離器は外
殻の上部または上方延長部中に設置しうる。触媒
床中の垂直な熱交換管は外殻の外側を通ることな
く分離器と接続できる。

反応器は、それが運転される温度および圧力に
応じてホツト・ウオール型、コンクリート内張り
型またはカートリツジ型でありうる。

本発明によれば、特に、上記反応器を用いるメ
タノール合成方法が提供される。このような合成
方法において、圧力は適当には30〜120絶対バー
ル、さらに適切には40〜100絶対バールの範囲で
ある。また温度は160〜300℃の範囲が適当であ
り、触媒床出口温度は240〜290℃が好ましく、到
達最高温度よりも、出口において５〜30℃だけ低
い。そのような温度は、それよりも高い温度での
運転からもたらされるような高い不純物含量を生
ずることなく、満足なメタノール生産速度（好ま
しい平衡による）を与える。メタノール生産速度
は、典型的には毎時触媒１当り0.3〜3.0Kgの範
囲である。触媒床から出る反応剤のガスのメタノ
ール含量は、50絶対バールでの方法については３
〜10％（ｖ／ｖ）の範囲が適当であり、運転圧力
が高まれば比較的に増大する。全触媒を介しての
容積空間速度（１時間当たりの流入原料容積を反
応器容積で割つた値）は5000〜50000／時の範囲
が適当である。触媒に通されるガスは、通常は、
新鮮合成ガスと、冷却、凝縮および分離によるメ
タノール回収から再循環される未反応ガスと、の
混合物であるが、反応工程とメタノール回収工程
とを交番に用いて行う多段式単通過操作方式も適
当である。

メタノール合成用の触媒は、銅を含み、通常は
酸化亜鉛および１種またはそれ以上の他の酸化物
をも含む。そのような他の酸化物は、クロム
（我々の英国特許第1010871号）、第〜族の元
素、殊にアルミニウム（我々の英国特許第
1159035号）もしくは、多分マンガン、バナジウ
ム、ホウ素および稀土類金属等の酸化物である。

メタノール合成ガスは触媒に通されるときに、
水素と一酸化炭素と、そして好ましくは１〜20％
ｖ／ｖ程度、殊に３〜12％ｖ／ｖ程度の二酸化炭
素をも含む。その水素含量は、炭素酸化物全量を
メタノールに変えるのに必要充分以上であるのが
好ましいが、その量の半分程の少なさであつても
よく、あるいはその量よりもはるかに多い量例え
ば1.4〜10倍であるのが適当である。上記の化学
量論的な水素含量は、新鮮合成ガスが化学量論量
よりも多くの水素を含む（例えば炭素１原子当り
２個よりも多くの水素を含む炭化水素をスチーム
改質して製造、または二酸化炭素除去工程を含む
プロセスで製造）場合の再循環式プロセスにおい
て生ずる。新鮮合成ガスにおいていずれかの反応
成分が過剰であると、その成分は再循環の結果と
して濃度が増大するので、パージにより所定の水
準にまで低下維持する。ガスは、シフト反応によ
つて、上記比率の二酸化炭素を生成するに足る量
の水蒸気を含んでいてよく、あるいは水素：一酸
化炭素の比を少なくとも2.0とするに足る量の水
蒸気を含んでいてよい。二酸化炭素そのものとし
て、またはシフト反応の結果として、存在する二
酸化炭素の割合は、５〜30％（ｖ／ｖ）の水を含
む粗メタノールを生成させるような割合であるの
が普通である。

所望ならば、本発明の反応器は、いわゆる「乾
式」メタノール合成において用いることができ、
乾式メタノール合成においては、出発ガスは既述
の二酸化炭素に加えてスチーム（スチーム：乾燥
ガスの容量比；0.1〜0.3）を含む。このような乾
式メタノール合成方法はメタノールおよび水分を
分離した後の未反応ガスの一酸化炭素含量を最大
限度まで低減させようとする場合に有用である
（我々の欧州特許出願11404；公開済；参照）。

本発明の反応器を慣用の乾式メタノール合成法
において使用する場合には、断熱床を含む反応器
での乾式メタノール合成をさらに一段階後続させ
うる。このような操作により、大きな触媒床容積
を経済的に与える単純な反応器でメタノール生産
量の可成りの増加が達成できる。

160〜300℃でのメタノール合成において、好ま
しい冷媒は沸騰水であり、スチームは、好ましく
は20〜50絶対バールの範囲の圧力で発生される。
冷却用管に供給される補充水は、反応器、または
後続の断熱反応器が用いられる場合には後者、か
ら出る反応済の合成ガスとの熱交換により加圧下
で予熱するのが好ましい。発生スチームは、ター
ビン駆動に、合成ガス発生用原料スチームとし
て、スチーム発生用給水を加熱するのに、あるい
は加湿器用供給スチームとして、使用しうる。

本発明を応用しうるその他の合成反応として
は、下記のものがある。

(a) ジメチルエーテル；この場合触媒はメタノー
ル合成触媒と類似であるが、アルミナのような
脱水剤が添加されている。

(b) 高級アルコール類；この場合、触媒はメタノ
ール合成触媒と同類でありうるが、普通は、ア
ルカリ金属酸化物もしくはマンガン酸化物また
は両者を含む。

(c) 混合炭化水素類および／または酸素化炭化水
素類；この場合には鉄、またはコバルト、また
はルテニウムまたはその他の金属に基く触媒
が、フイツシヤー・トロプシユ反応、シントー
ル反応等のように、用いられる。

(d) “OXO法”（例えばカーク・オスマー
「Encyclopedia of Chemical Technology」第
３版第16巻第637頁参照）またはカルボニル化
反応；（アルデヒド、カルボン酸、エステルま
たは無水物の製造）、この場合には、触媒は不
均一系または均一系であつてよい。

(e) メタノール合成、または上記(a)もしくは(d)
を、後続工程として芳香族化、オレフイン生成
（ゼオライト触媒使用）またはエーテル化と組
合せた場合。

(f) 炭素酸化物および水素を含むガスのメタン
化、またはメタンよりも高分子量の炭化水素の
メタン化；出発ガスは、上記(a)〜(e)の合成のい
ずれかの副生物であつてよい。

(g) アンモニア合成；および (h) エチレンと酸素との反応によるエチレンオキ
サイド合成。

本発明の好ましい一態様を添付図により説明す
る。

反応器の外殻１０は上方室１２と下方部分１４
を有している。下方部分１４は垂直な、弦方向格
子１６によつて三つの部分に分割され、触媒床領
域１８が封入され、またガス室２０Ａおよび２０
Ｂが与えられている。一方のガス室２０Ａにはガ
ス導入口２２からガスが供給され、他方の２０Ｂ
からガス排出口２４を介してガスが排出される。
導入および排出口２２および２４は、空間２０の
両反対端部にあるので、反応器内を通過するガス
の経路の長さは、触媒床１８のすべての部分にお
いてほぼ同一である。反応器を使用しようとする
場合に、触媒床領域１８は、外殻１０の閉鎖しう
る孔から斜め内向きに伸びている一またはそれ以
上のパイプ（図示せず）によつて、高さ位置２６
まで仕込まれる。触媒は閉鎖しうる孔２８を介し
て排除しうる。触媒床領域内には、上方室１２か
ら一次ヘツダー３２まで下向に伸びる軸方向管３
０があり、ヘツダー３２は、管３０の底から放射
状になつている複数の水平管より構成され、それ
らの水平管は触媒の仕込および排除中に粒状触媒
が通り抜けられるような間隔で配列されている。
一次ヘツダー３２から二次ヘツダー３４まで立ち
上がつているパイプがあり、二次ヘツダーの各々
からは冷管用管の一組（各組を３６で示す）が伸
びて上方ヘツダー３８で終つている。上方二次ヘ
ツダー３８の各々から一本のパイプが、膨張補償
手段（例えばアングルまたはピツグテイル）を介
して上方室１２下のバツフル４２まで伸びてい
る。上方室１２は、蒸気／液体分離器（スチー
ム・ドラム）であり、通常のボイラーにおけるよ
うにバツフル４２に加え、またはその代りに、分
離表面を含んでいてよい。上方室１２は、スチム
排出口４４を有し、またその液体排口は管３０へ
直結している。触媒床の冷却部分をガスが迂回す
るのを防ぐために、一組の垂直バツフル４０が下
方二次ヘツダーの間、および上方二次ヘツダーの
間に配置されている。その上方バツフル４０は、
たとえ触媒の収縮が生じてもその先端がなお触媒
床１８の中にあるような位置まで充分に下向きに
伸びている。冷却部分の下の迂回を制限する手段
として、触媒床１８の底部において、冷却部分
（すなわち熱交換部分）の触媒粒子よりも小寸法
の粒径の粒子（触媒または非触媒）を仕込んでも
よい。

格子１６および室２０Ａ，２０Ｂの代りに、触
媒床１８の中にその全高にわたつて伸長している
導入および排出多孔管を存在させてもよい。この
ような配置例を第３図に平面で示す。

所望ならば、上方室１２は下方部分１４へ構造
的に接続された別個の外殻中に入れてもよい。

第２図の横断平面図は第１図における線２−２
におけるものである。冷却用管３６のうちの２列
だけを示してあるが、冷却用管は触媒床１８の全
体にわたつて（例えば第３図のように）存在する
ものである。

第３図の反応器において、格子１６は存在せ
ず、従つて触媒床１８は外殻１４の内周面全体に
まで拡大されている。ガスの上流室２０Ａの代り
に、四本の導入多孔管２３があり、このものは外
殻１４のガス導入口２２または同様な入口からガ
スを供給される。同様にガスの下流室２０Ｂの代
りに、四本の排出多孔管２５が存在し、このもの
は外殻１４のガス排出口２４または同様な出口へ
ガスを供給している。冷却用管３６は、非対称に
配列されており、多孔管２３から触媒床１８へ入
つたばかりのガスに対して冷却されていない比較
的大きな触媒床部分を与え、次いで冷却部分を与
え、そしてガスが多孔管２５を経て退出する前に
そのガスに対して比較的小さな冷却されてない触
媒床部分を与えるようになつている。冷却用管３
６は、触媒の仕込および排除中の触媒の流動を促
進するように、空隙を与えられた接近した群の形
で存在する。軸方向冷媒下向き供給管３０の代り
に、蒸気／液体分離器（上方室１２）から冷却用
管３６の底部のヘツダーへの接続は、複数（図面
では６本）の下向流管３１によつて与えられる。
下向流管３１は、触媒床１８の非冷却部分（下向
流管自体による冷却は除く）中の弦方向平面に配
列されている。

第１〜３図には、外殻１４が耐圧容器であるホ
ツト・ウオール反応器が示されているが、反応器
はその外殻１４が比較的薄手の金属から製造され
たカートリツジであり、外側の耐圧殻内に架設さ
れる型式（かくしてカートリツジの外側のガス圧
力がその内側のガス圧力とほぼ等しい）のもので
あつてもよい。このような構成は、反応器が触媒
床の入口部分と出口部との間の著しい温度差で運
転される場合には、好ましいことがある。

上記のメタノール合成法については、入口の断
熱部分、冷却部分（熱交換部分）および出口の断
熱部分におけるガス流動経路のそれぞれの長さ
は、40：50：10の比率である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明反応器の一例の縦断面図であ
り、第２図は第１図の２−２線における横断面図
である。第３図は第１図の反応器の改変態様の縦
断面図である。 触媒床；１８、冷媒送管；３６、触媒床入口；
２０Ａ，２３、触媒床出口；２０Ｂ，２５。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (a) 反応体ガスの導入口２２及び排出口２４
   を備え、粒状触媒の単一固定床１８を収納する
   容器を含むか、またはそのような容器をなす耐
   圧外殻１０、 (b) 上記触媒固定床収納容器内で反応体ガス導入
   口２２と連通し、その触媒固定床１８への導入
   口を形成する少なくとも一つの第１通気孔壁付
   ガス室２０Ａ；２３、及び上記触媒固定床収納
   容器内で反応体ガス排出口２４と連通し、その
   触媒固定床１８からの排出口を形成する少なく
   とも一つの第２通気孔壁付きガス室２０Ｂ；２
   ５、 (c) 上記触媒固定床内に実質上垂直に配置されて
   冷媒を運びそして粒状触媒と接触する複数の冷
   媒管３６、 からなり、かつそれらの通気孔壁付きガス室２０
   Ａ，２０Ｂ，２３，２５は、反応体がガス導入口
   ２２から第１通気孔壁付きガス室２０Ａ；２３中
   へ流入し、触媒固定床１８内を冷媒の流動方向に
   対し横方向に流れ、第２通気孔壁付きガス室２０
   Ｂ；２５へ流入し、次いでガス排出口２４へ流れ
   るように配置されている、発熱的、気相接触合成
   反応用の竪型筒式反応器において： () それらの通気孔壁付きガス室２０Ａ；２０
   Ｂ，２３，２５は、反応体ガスが触媒固定床１
   ８内を主として弦方向に流れるように配置さ
   れ、そして第１通気孔壁付きガス室２０Ａ；２
   ３から触媒固定床１８中への反応体流入のため
   に有効な合計断面積がその触媒固定床から第２
   通気孔壁付きガス室２０Ｂ；２５への反応体流
   入のために有効な合計断面積の0.5〜２倍の範
   囲となるような寸法であること； () 冷媒管３６は触媒固定床１８の導入口領域
   及び排出口領域において冷却を生じさせる管が
   存在しないように配置され、その導入口領域
   は、第１通気孔壁付きガス室２０Ａ；２３から
   第２通気孔壁付きガス室２０Ｂ；２５までの触
   媒固定床１８を介しての反応体流動経路の５〜
   50％に相当する距離まで第１通気孔壁付きガス
   室２０Ａ；２３から延在しており、そしてその
   排出口領域は第１通気孔壁付きガス室２０Ａ；
   ２３から第２通気孔壁付きガス室２０Ｂ；２５
   までの触媒固定床１８を介しての反応体流動経
   路の75〜95％に相当する距離のところから第２
   通気孔壁付ガス室２０Ｂ；２５まで延在してい
   ること、 を特徴とする、上記反応器。 ２ 触媒固定床１８収納容器の壁１４から離れて
   いるがその壁１４と交差する多孔壁１６が第１及
   び第２通気孔壁付きガス室２０Ａ，２０Ｂの少な
   くとも一方が備えている請求項１記載の反応器。 ３ 第１及び第２通気孔壁付きガス室２３，２５
   の少なくとも一方が、触媒固定床１８収納容器１
   ４内の１またはそれ以上のスパージヤーからなる
   請求項１記載の反応器。 ４ 管３６から蒸気／液体混合物を収受し、その
   混合物を分離し、蒸気をある用途へ配送し、液体
   を管３６へ返送するための蒸気／液体分離器１２
   を、触媒固定床収納容器に接近して、しかも一つ
   の共通な構造枠組内に設けてある請求項１〜３の
   いずれかに記載の反応器。 ５ 触媒固定床１８及び蒸気／液体分離器１２の
   両者が耐圧外殻１０内に収容されている請求項４
   記載の反応器。