JPH04242059A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH04242059A JPH04242059A JP3012898A JP1289891A JPH04242059A JP H04242059 A JPH04242059 A JP H04242059A JP 3012898 A JP3012898 A JP 3012898A JP 1289891 A JP1289891 A JP 1289891A JP H04242059 A JPH04242059 A JP H04242059A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- opened
- valve
- detector
- sample chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明はＸ線を検出するため
の冷却された検出器を有するＸ線分析装置に関する。
の冷却された検出器を有するＸ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】 Ｘ線マイクロアナライザー等におい
ては、冷却された半導体Ｘ線検出器を用いて検出したＸ
線を電気信号に変換し、変換された電気信号をマルチチ
ャンネル波高分析器に導いて試料から放射されたＸ線の
スペクトルを表示するようにしている。
ては、冷却された半導体Ｘ線検出器を用いて検出したＸ
線を電気信号に変換し、変換された電気信号をマルチチ
ャンネル波高分析器に導いて試料から放射されたＸ線の
スペクトルを表示するようにしている。
【０００３】このような装置においては、試料室側から
飛散してくる汚染物質が検出器に付着して検出器を劣化
させないように、検出器は保護筒によって試料室側から
仕切られた空間に配置されている。そして保護筒の前面
に配置されたＸ線透過薄膜を介して試料よりのＸ線は検
出器に入射するようになっている。この薄膜はＸ線の透
過能を良くするために薄く形成されており、一方保護筒
の内部も真空排気されているため、試料室の排気が充分
されてない状態では試料室と保護筒内との圧力差により
前記薄膜が破損してしまう。従って、このような事態を
防ぐため、保護筒の先端には仕切弁が配置されており、
試料室が充分排気された段階で仕切弁を開くようにして
いる。
飛散してくる汚染物質が検出器に付着して検出器を劣化
させないように、検出器は保護筒によって試料室側から
仕切られた空間に配置されている。そして保護筒の前面
に配置されたＸ線透過薄膜を介して試料よりのＸ線は検
出器に入射するようになっている。この薄膜はＸ線の透
過能を良くするために薄く形成されており、一方保護筒
の内部も真空排気されているため、試料室の排気が充分
されてない状態では試料室と保護筒内との圧力差により
前記薄膜が破損してしまう。従って、このような事態を
防ぐため、保護筒の先端には仕切弁が配置されており、
試料室が充分排気された段階で仕切弁を開くようにして
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】 前記保護筒の先端
の仕切弁を開くと前記薄膜には保護筒内部と試料室との
圧力差に応じた力が加わるため、前記薄膜のＸ線透過能
を高めるため薄膜を更に薄くすることができない。
の仕切弁を開くと前記薄膜には保護筒内部と試料室との
圧力差に応じた力が加わるため、前記薄膜のＸ線透過能
を高めるため薄膜を更に薄くすることができない。
【０００５】本発明はこのような従来の問題点を解決し
、検出器を汚染させることなくより薄い薄膜を使用でき
るＸ線分析装置を提供することを目的としている。
、検出器を汚染させることなくより薄い薄膜を使用でき
るＸ線分析装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】 そのため本発明は、
試料よりのＸ線を検出するための検出器と、該検出器を
試料室側からの汚染物質から保護するための保護筒と、
該保護筒の先端に配置され試料室と保護筒内との連通を
制御するための第１の弁と、前記検出器を冷却槽に接続
する熱伝導棒と、該検出器及び熱伝導棒を包囲するよう
に前記保護筒内に設けられた内筒と、該内筒の先端に設
けられたＸ線透過膜と、該内筒の内外の連通を制御する
ための第２の弁と、前記第１の弁を開にした際に開かれ
る第２の弁を第１の弁が開になってから所定の短い時間
経過した時点で自動的に閉にする制御手段を備えたＸ線
分析装置を特徴としている。
試料よりのＸ線を検出するための検出器と、該検出器を
試料室側からの汚染物質から保護するための保護筒と、
該保護筒の先端に配置され試料室と保護筒内との連通を
制御するための第１の弁と、前記検出器を冷却槽に接続
する熱伝導棒と、該検出器及び熱伝導棒を包囲するよう
に前記保護筒内に設けられた内筒と、該内筒の先端に設
けられたＸ線透過膜と、該内筒の内外の連通を制御する
ための第２の弁と、前記第１の弁を開にした際に開かれ
る第２の弁を第１の弁が開になってから所定の短い時間
経過した時点で自動的に閉にする制御手段を備えたＸ線
分析装置を特徴としている。
【０００７】
【実施例】 図１は本発明の一実施例を示すためのも
ので、図中１はＸ線マイクロアナライザの鏡筒壁であり
、鏡筒壁１には保護筒２が取り付けられている。保護筒
２の先端には第１の仕切弁３が取り付けられている。保
護筒２の内側には内筒４が配置されており、内筒４の先
端にはベリリウム等で形成されたＸ線透過膜５が張られ
ている。内筒４の内側にはＸ線検出器６が配置されてお
り、検出器６と冷却槽７とは熱伝導棒８によって接続さ
れている。冷却槽７内には、液体窒素９が収容されてい
る。前記内筒８の元部には第２の仕切弁１０が備えれて
いる。内筒４と保護筒２で包囲された空間を排気するた
め真空ポンプ１１が備えられている。１２は排気管であ
る。排気管１２と前記空間との接続を制御するため弁１
３が備えられている。これら弁３，１０，１３の開閉は
制御回路１４によって制御される。１５は制御回路１４
に種々の指令を与えるための操作卓である。１６は試料
であり、１７は電子線である。
ので、図中１はＸ線マイクロアナライザの鏡筒壁であり
、鏡筒壁１には保護筒２が取り付けられている。保護筒
２の先端には第１の仕切弁３が取り付けられている。保
護筒２の内側には内筒４が配置されており、内筒４の先
端にはベリリウム等で形成されたＸ線透過膜５が張られ
ている。内筒４の内側にはＸ線検出器６が配置されてお
り、検出器６と冷却槽７とは熱伝導棒８によって接続さ
れている。冷却槽７内には、液体窒素９が収容されてい
る。前記内筒８の元部には第２の仕切弁１０が備えれて
いる。内筒４と保護筒２で包囲された空間を排気するた
め真空ポンプ１１が備えられている。１２は排気管であ
る。排気管１２と前記空間との接続を制御するため弁１
３が備えられている。これら弁３，１０，１３の開閉は
制御回路１４によって制御される。１５は制御回路１４
に種々の指令を与えるための操作卓である。１６は試料
であり、１７は電子線である。
【０００８】このような構成において、内筒４内はＸ線
検出器を使用する際には真空排気されている。前記鏡筒
壁で囲まれた試料室の排気が終了すると、オペレータは
操作卓１５により分析の開始を指示する。その結果、制
御回路１４より制御信号が第２の仕切弁１０に送られ、
第２の仕切弁１０が図２（ａ）に示されるように開かれ
る。その直後、制御回路１４よりの制御信号により第１
の仕切弁３が、図２（ｂ）に示すように開かれる。その
結果、試料１６より発生したＸ線１９はＸ線透過膜５を
介してＸ線検出器６に入射できるようになる。ところで
、前記内筒４内の圧力はガス放出があるため、試料室よ
りやや高い圧力となっているが、仕切弁３が開かれる前
に仕切弁１０が開かれているため、弁１０を介して内筒
４内のガスは試料室側に流れて圧力差が解消される。 従って、Ｘ線透過膜５には圧力が殆どかからない。その
ため、Ｘ線透過膜５を極めて薄く形成できる。Ｘ線透過
膜５によるＸ線の吸収を最小限に抑え得、Ｘ線検出感度
を大きく向上できる。Ｘ線透過膜５に無理な負担がかか
らない程度に前記圧力差が解消できる予め設定した短い
時間が仕切弁１０の開放から経過したら、制御回路１４
は制御信号を前記仕切弁１０に送り、図２（ａ）に示す
ように仕切弁１０を閉じる。これにより、試料室側から
の汚染物質が前記圧力差の消失により仕切弁１０を介し
て内筒１０内に侵入し、検出器６まで移動して検出器６
を劣化させるのを防ぐことができる。又、仕切弁１０は
内筒４の元部に配置されているため、仕切弁１０を開放
した際の汚染物質の検出器側への侵入をできるだけ抑え
ることができる。
検出器を使用する際には真空排気されている。前記鏡筒
壁で囲まれた試料室の排気が終了すると、オペレータは
操作卓１５により分析の開始を指示する。その結果、制
御回路１４より制御信号が第２の仕切弁１０に送られ、
第２の仕切弁１０が図２（ａ）に示されるように開かれ
る。その直後、制御回路１４よりの制御信号により第１
の仕切弁３が、図２（ｂ）に示すように開かれる。その
結果、試料１６より発生したＸ線１９はＸ線透過膜５を
介してＸ線検出器６に入射できるようになる。ところで
、前記内筒４内の圧力はガス放出があるため、試料室よ
りやや高い圧力となっているが、仕切弁３が開かれる前
に仕切弁１０が開かれているため、弁１０を介して内筒
４内のガスは試料室側に流れて圧力差が解消される。 従って、Ｘ線透過膜５には圧力が殆どかからない。その
ため、Ｘ線透過膜５を極めて薄く形成できる。Ｘ線透過
膜５によるＸ線の吸収を最小限に抑え得、Ｘ線検出感度
を大きく向上できる。Ｘ線透過膜５に無理な負担がかか
らない程度に前記圧力差が解消できる予め設定した短い
時間が仕切弁１０の開放から経過したら、制御回路１４
は制御信号を前記仕切弁１０に送り、図２（ａ）に示す
ように仕切弁１０を閉じる。これにより、試料室側から
の汚染物質が前記圧力差の消失により仕切弁１０を介し
て内筒１０内に侵入し、検出器６まで移動して検出器６
を劣化させるのを防ぐことができる。又、仕切弁１０は
内筒４の元部に配置されているため、仕切弁１０を開放
した際の汚染物質の検出器側への侵入をできるだけ抑え
ることができる。
【０００９】尚、液体窒素９を空にして保護筒内を常温
に戻した後、再度検出器を使用する際や、保護筒内の真
空度が劣化した際には以下のように動作させる。
に戻した後、再度検出器を使用する際や、保護筒内の真
空度が劣化した際には以下のように動作させる。
【００１０】即ち、図３（ｂ）に示すように仕切弁３は
閉じたままにしておく一方、図３（ａ）に示すように仕
切弁１０を開き、更に図３（ｃ）に示すように弁１３を
開いて内筒及び保護筒内をポンプ１１により真空排気す
る。これにより、保護筒及び内筒内は検出器を動作でき
る程度まで真空排気される。
閉じたままにしておく一方、図３（ａ）に示すように仕
切弁１０を開き、更に図３（ｃ）に示すように弁１３を
開いて内筒及び保護筒内をポンプ１１により真空排気す
る。これにより、保護筒及び内筒内は検出器を動作でき
る程度まで真空排気される。
【００１１】
【発明の効果】 上述した説明から明らかなように、
本発明によれば、該保護筒の先端に配置され試料室と保
護筒内との連通を制御するための第１の弁を開にした際
に、内筒の内外の連通を制御する第２の弁を開くように
しているため、内筒側からのガスは試料室側に流れて圧
力差が解消される。そのため、Ｘ線透過膜には圧力が殆
どかからない。従って、Ｘ線透過膜を極めて薄く形成で
きるため、Ｘ線透過膜によるＸ線の吸収を最小限に抑え
得、Ｘ線検出感度を大きく向上できる。この際、第１の
弁が開になってから所定の短い時間経過した時点で第２
の弁は自動的に閉じられる為、試料室側からの汚染物質
によって検出器が汚染されることはない。
本発明によれば、該保護筒の先端に配置され試料室と保
護筒内との連通を制御するための第１の弁を開にした際
に、内筒の内外の連通を制御する第２の弁を開くように
しているため、内筒側からのガスは試料室側に流れて圧
力差が解消される。そのため、Ｘ線透過膜には圧力が殆
どかからない。従って、Ｘ線透過膜を極めて薄く形成で
きるため、Ｘ線透過膜によるＸ線の吸収を最小限に抑え
得、Ｘ線検出感度を大きく向上できる。この際、第１の
弁が開になってから所定の短い時間経過した時点で第２
の弁は自動的に閉じられる為、試料室側からの汚染物質
によって検出器が汚染されることはない。
【図１】 本発明の一実施例を示す。
【図２】 一実施例装置の第１の仕切弁開放に伴う動
作を説明するためのものである。
作を説明するためのものである。
【図３】 一実施例装置の再使用時の動作を説明する
ためのものである。
ためのものである。
１：鏡筒壁
２：保護筒３：第１の仕切弁
４：内筒５：Ｘ線透過窓
６：検
出器７：冷却槽
８：内筒９：液体窒素
１０：第２の仕切
弁
２：保護筒３：第１の仕切弁
４：内筒５：Ｘ線透過窓
６：検
出器７：冷却槽
８：内筒９：液体窒素
１０：第２の仕切
弁
Claims (1)
- 【請求項１】 試料よりのＸ線を検出するための検出
器と、該検出器を試料室側からの汚染物質から保護する
ための保護筒と、該保護筒の先端に配置され試料室と保
護筒内との連通を制御するための第１の弁と、前記検出
器を冷却槽に接続する熱伝導棒と、該検出器及び熱伝導
棒を包囲するように前記保護筒内に設けられた内筒と、
該内筒の先端に設けられたＸ線透過膜と、該内筒の内外
の連通を制御するための第２の弁と、前記第１の弁を開
にした際に開かれる第２の弁を第１の弁が開になってか
ら所定の短い時間経過した時点で自動的に閉にする制御
手段を備えたことを特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3012898A JPH04242059A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3012898A JPH04242059A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04242059A true JPH04242059A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11818206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3012898A Withdrawn JPH04242059A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04242059A (ja) |
-
1991
- 1991-01-10 JP JP3012898A patent/JPH04242059A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |