JPH0451416Y2 - - Google Patents
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- JPH0451416Y2 JPH0451416Y2 JP15509686U JP15509686U JPH0451416Y2 JP H0451416 Y2 JPH0451416 Y2 JP H0451416Y2 JP 15509686 U JP15509686 U JP 15509686U JP 15509686 U JP15509686 U JP 15509686U JP H0451416 Y2 JPH0451416 Y2 JP H0451416Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案はエネルギー分散型X線分析装置の改良
に関する。
に関する。
[従来技術]
例えば、電子顕微鏡には試料の微小領域を元素
分析する装置として、エネルギー分散型X線分析
装置が使用されている。このような装置は、X線
検出用半導体素子の前方にベリリウム(Be)薄
膜付ウインドーを有する所謂ウインドー型と、該
半導体素子の前方に前記薄膜付ウインドーを有し
ない所謂ウインドーレス型があり、特に後者のウ
インドーレス型は主に軽元素分析用として使用さ
れている。
分析する装置として、エネルギー分散型X線分析
装置が使用されている。このような装置は、X線
検出用半導体素子の前方にベリリウム(Be)薄
膜付ウインドーを有する所謂ウインドー型と、該
半導体素子の前方に前記薄膜付ウインドーを有し
ない所謂ウインドーレス型があり、特に後者のウ
インドーレス型は主に軽元素分析用として使用さ
れている。
ここで、前者の所謂ウインドー型を第3図に示
す。第3図において、1は液体窒素2が収納され
た冷却槽で、該冷却槽1には熱伝導棒3を介して
シリコン半導体等からなるX線検出器4が密着し
ている。5は保護容器であり、該保護容器5は冷
却槽1、熱伝導棒3、X線検出器4を真空封入す
るためのものである。又、該保護容器5は電子顕
微鏡等の真空容器6内の試料7近傍に前記X線検
出器4を配置するため、その一端は管状をしてい
る。該冷却槽1の外周には、真空低下を防止する
ための活性炭等の吸着材8が配置され、又、冷却
槽1等と保護容器5との間の間隙Aは冷却槽1等
の温度が保護容器5に伝わらないように、10-5
Torr程度に真空排気されている。9は保護容器
5の一端に支持され、真空容器6の真空シールを
行なうための、例えばベリリウム薄膜が張られた
ウインドーである。10はX線検出器4よりの信
号を外部に取り出すための出力端子、11は冷却
槽1等と保護容器5との間の間隙Aを真空排気す
るための開閉可能な排気口、12は冷却槽1内に
液化窒素2を出し入れするための栓である。前記
試料7は電子線13によつて照射され、試料7の
電子線照射部から特性X線14が放射される。こ
の特性X線14はウインドー9を透過しX線検出
器4によつて検出され電気信号に変換される。
す。第3図において、1は液体窒素2が収納され
た冷却槽で、該冷却槽1には熱伝導棒3を介して
シリコン半導体等からなるX線検出器4が密着し
ている。5は保護容器であり、該保護容器5は冷
却槽1、熱伝導棒3、X線検出器4を真空封入す
るためのものである。又、該保護容器5は電子顕
微鏡等の真空容器6内の試料7近傍に前記X線検
出器4を配置するため、その一端は管状をしてい
る。該冷却槽1の外周には、真空低下を防止する
ための活性炭等の吸着材8が配置され、又、冷却
槽1等と保護容器5との間の間隙Aは冷却槽1等
の温度が保護容器5に伝わらないように、10-5
Torr程度に真空排気されている。9は保護容器
5の一端に支持され、真空容器6の真空シールを
行なうための、例えばベリリウム薄膜が張られた
ウインドーである。10はX線検出器4よりの信
号を外部に取り出すための出力端子、11は冷却
槽1等と保護容器5との間の間隙Aを真空排気す
るための開閉可能な排気口、12は冷却槽1内に
液化窒素2を出し入れするための栓である。前記
試料7は電子線13によつて照射され、試料7の
電子線照射部から特性X線14が放射される。こ
の特性X線14はウインドー9を透過しX線検出
器4によつて検出され電気信号に変換される。
又、後者のウインドーレス型は、前記したウイ
ンドー型と略同様であるが、第4図に示すように
X線検出器4の前方にゲートバルブ15を設け、
X線分析を行なわない時は、該ゲートバルブ15
を閉状態として冷却槽1等と保護容器5との間の
間隙Aの真空を保持するようにし、X線分析を行
なう場合には、該ゲートバルブ15を開状態とし
て試料7よりの特性X線14をX線検出器4に直
接入射させるようにしている。
ンドー型と略同様であるが、第4図に示すように
X線検出器4の前方にゲートバルブ15を設け、
X線分析を行なわない時は、該ゲートバルブ15
を閉状態として冷却槽1等と保護容器5との間の
間隙Aの真空を保持するようにし、X線分析を行
なう場合には、該ゲートバルブ15を開状態とし
て試料7よりの特性X線14をX線検出器4に直
接入射させるようにしている。
このように構成されたいずれの装置において
も、出力端子、排気口、ゲートバルブ等よりの微
少リークによつて間隙Aの真空度が低下するた
め、前記吸着材8により間隙Aに溜るガスを吸着
して真空低下を防止している。
も、出力端子、排気口、ゲートバルブ等よりの微
少リークによつて間隙Aの真空度が低下するた
め、前記吸着材8により間隙Aに溜るガスを吸着
して真空低下を防止している。
[考案が解決しようとする問題点]
しかしながら、このように構成された前者のウ
インドー型の装置では、該装置を長時間使用する
と、吸着材8の吸着能力が徐々に低下するため、
間隙Aにガスが滞留し、真空度が低下してしま
う。そのため、該保護容器内のX線検出器4の表
面に霜や汚れが付着する。この場合、X線検出器
を使用することができなくなる。エネルギー分散
型X線分析装置の通常のユーザーは、前記間隙A
を排気するためのポンプやポンプとの接続治具な
どを所有していない上、作業も繁雑となるため、
このような場合、次のようにしている。すなわ
ち、通常のユーザーは、排気設備のある工場等に
保護容器5を封じたまま送り、該容器5内を排気
することによりX線検出器を再生してから使用す
るようにしている。
インドー型の装置では、該装置を長時間使用する
と、吸着材8の吸着能力が徐々に低下するため、
間隙Aにガスが滞留し、真空度が低下してしま
う。そのため、該保護容器内のX線検出器4の表
面に霜や汚れが付着する。この場合、X線検出器
を使用することができなくなる。エネルギー分散
型X線分析装置の通常のユーザーは、前記間隙A
を排気するためのポンプやポンプとの接続治具な
どを所有していない上、作業も繁雑となるため、
このような場合、次のようにしている。すなわ
ち、通常のユーザーは、排気設備のある工場等に
保護容器5を封じたまま送り、該容器5内を排気
することによりX線検出器を再生してから使用す
るようにしている。
又、後者のウインドーレス型では、ゲートバル
ブ15を開状態にして真空容器6と保護容器5と
連通させ、該真空容器6側の真空ポンプ(図示し
ない)によつて間隙Aを排気すると、間隙Aに滞
留しているガスが保護容器5とX線検出器4の間
の微小間隙Bを通過して排気されるため、X線検
出器4がガスによつて汚染されて劣化を早める欠
点があつた。
ブ15を開状態にして真空容器6と保護容器5と
連通させ、該真空容器6側の真空ポンプ(図示し
ない)によつて間隙Aを排気すると、間隙Aに滞
留しているガスが保護容器5とX線検出器4の間
の微小間隙Bを通過して排気されるため、X線検
出器4がガスによつて汚染されて劣化を早める欠
点があつた。
本考案は以上の点に鑑みなされたもので、前者
のウインドー型及び後者のウインドーレス型のい
ずれの装置においても、間隙Aの真空度低下によ
るX線検出器への霜や汚れの付着を防止すると共
にX線検出器の劣化を防止した装置を提供するこ
とを目的としている。
のウインドー型及び後者のウインドーレス型のい
ずれの装置においても、間隙Aの真空度低下によ
るX線検出器への霜や汚れの付着を防止すると共
にX線検出器の劣化を防止した装置を提供するこ
とを目的としている。
[問題点を解決するための手段]
以上の目的を達成するための本考案は、真空筐
体内に配置された試料と、該試料よりのX線を検
出するためのX線検出器と、該X線検出器を冷却
するための冷媒を収容する冷却槽と、該冷却槽と
前記検出器を接続するための熱伝導棒と、該冷却
槽、熱伝導棒及びX線検出器を収容し少なくとも
前記検出器の使用中は内部が真空に保持される保
護容器とを備え、該保護容器の一端は管状をして
おり、該管状部分が前記X線検出器を前記真空筐
体内の試料近傍に配置するため前記真空筐体内に
挿入されているエネルギー分散型X線分析装置に
おいて、前記保護容器内に溜つたガスを前記真空
筐体に接続された真空ポンプにより排気するため
前記保護容器と前記真空筐体とを接続する排気管
が設けられており、該排気管の前記保護容器への
接続位置は該排気管を介して前記真空筐体側へ流
出するガスが前記検出器近傍を通過しないよう該
検出器位置から離されており、前記排気管にガス
の通過を制御する弁が備えられていることを特徴
としている。
体内に配置された試料と、該試料よりのX線を検
出するためのX線検出器と、該X線検出器を冷却
するための冷媒を収容する冷却槽と、該冷却槽と
前記検出器を接続するための熱伝導棒と、該冷却
槽、熱伝導棒及びX線検出器を収容し少なくとも
前記検出器の使用中は内部が真空に保持される保
護容器とを備え、該保護容器の一端は管状をして
おり、該管状部分が前記X線検出器を前記真空筐
体内の試料近傍に配置するため前記真空筐体内に
挿入されているエネルギー分散型X線分析装置に
おいて、前記保護容器内に溜つたガスを前記真空
筐体に接続された真空ポンプにより排気するため
前記保護容器と前記真空筐体とを接続する排気管
が設けられており、該排気管の前記保護容器への
接続位置は該排気管を介して前記真空筐体側へ流
出するガスが前記検出器近傍を通過しないよう該
検出器位置から離されており、前記排気管にガス
の通過を制御する弁が備えられていることを特徴
としている。
[実施例]
以下本考案の実施例を図面に基づき詳述する。
第1図は本考案をウインドー型に適用した場合
の一実施例の構成略図であり、第2図は本考案を
ウインドーレス型に適用した場合の一実施例の構
成略図である。尚、第1図及び第2図において
は、第3図及び第4図に示した従来装置と同一構
成要素には同一番号を付してその説明を省略す
る。
の一実施例の構成略図であり、第2図は本考案を
ウインドーレス型に適用した場合の一実施例の構
成略図である。尚、第1図及び第2図において
は、第3図及び第4図に示した従来装置と同一構
成要素には同一番号を付してその説明を省略す
る。
第1図のウインドー型の装置において、保護容
器5と真空容器(真空筐体)6とが排気管16に
よつて接続され、該排気管16には真空バルブ1
7が設けられ、間隙Aが真空容器6を排気するた
めの真空ポンプ18によつて排気されるようにな
つている。19は間隙Aの真空度を測定するため
の真空計、20は電子線13を放射する電子銃で
ある。
器5と真空容器(真空筐体)6とが排気管16に
よつて接続され、該排気管16には真空バルブ1
7が設けられ、間隙Aが真空容器6を排気するた
めの真空ポンプ18によつて排気されるようにな
つている。19は間隙Aの真空度を測定するため
の真空計、20は電子線13を放射する電子銃で
ある。
このように構成された装置においては、間隙A
の真空度の低下が真空計19によつて確認された
場合、間隙Aの真空度が低下して冷却槽1内の液
体窒素2の単位時間あたりの消費量が多くなつた
場合、或いは、真空バルブ17を開状態にした際
に、真空容器1に取り付けられている真空計(図
示しない)によつて真空度の低下が確認された場
合には、真空バルブ17を開状態にし、真空ポン
プ18によつて排気して間隙Aの真空度を向上さ
せた後、真空バルブ17を閉状態にして使用す
る。又、X線検出器4の表面に水蒸気が霜となつ
て付着してしまつた場合には、真空バルブ17を
開状態にして、冷却槽1内の液体窒素2を取り出
して室温状態にし、真空ポンプ18によつて充分
排気し、X線検出器4の表面に付着した霜を取り
除いた後、真空バルブ17を閉状態にして、該冷
却槽1内に液体窒素を再度注入し使用する。この
様にすれば、従来装置のように保護容器5ごと排
気設備のある工場等にその都度送らなくてもX線
検出器を再生して使用することができる。
の真空度の低下が真空計19によつて確認された
場合、間隙Aの真空度が低下して冷却槽1内の液
体窒素2の単位時間あたりの消費量が多くなつた
場合、或いは、真空バルブ17を開状態にした際
に、真空容器1に取り付けられている真空計(図
示しない)によつて真空度の低下が確認された場
合には、真空バルブ17を開状態にし、真空ポン
プ18によつて排気して間隙Aの真空度を向上さ
せた後、真空バルブ17を閉状態にして使用す
る。又、X線検出器4の表面に水蒸気が霜となつ
て付着してしまつた場合には、真空バルブ17を
開状態にして、冷却槽1内の液体窒素2を取り出
して室温状態にし、真空ポンプ18によつて充分
排気し、X線検出器4の表面に付着した霜を取り
除いた後、真空バルブ17を閉状態にして、該冷
却槽1内に液体窒素を再度注入し使用する。この
様にすれば、従来装置のように保護容器5ごと排
気設備のある工場等にその都度送らなくてもX線
検出器を再生して使用することができる。
又、第2図のウインドーレス型の装置において
は、前記したように間隙Aの真空度の低下が確認
された場合には、ゲートバルブ15を閉状態と
し、真空バルブ17を開状態にして真空ポンプ1
8によつて排気する。そして、間隙Aの真空度の
向上を真空計19によつて確認した後、真空バル
ブ17を閉状態にし、ゲートバルブ15を開状態
にして使用する。この様にすれば、真空容器6内
の真空度を低下させないばかりか、間隙Aに滞留
しているガスは、保護容器5とX線検出器4の間
の微小間隙Bを通過することなく排気管16を通
過して排気されるため、従来装置のようにX線検
出器4が間隙Bを通過してゲートバルブ15を介
して排出されるガスによつて汚染されることがな
いため、X線検出器の劣化を早めることは無い。
は、前記したように間隙Aの真空度の低下が確認
された場合には、ゲートバルブ15を閉状態と
し、真空バルブ17を開状態にして真空ポンプ1
8によつて排気する。そして、間隙Aの真空度の
向上を真空計19によつて確認した後、真空バル
ブ17を閉状態にし、ゲートバルブ15を開状態
にして使用する。この様にすれば、真空容器6内
の真空度を低下させないばかりか、間隙Aに滞留
しているガスは、保護容器5とX線検出器4の間
の微小間隙Bを通過することなく排気管16を通
過して排気されるため、従来装置のようにX線検
出器4が間隙Bを通過してゲートバルブ15を介
して排出されるガスによつて汚染されることがな
いため、X線検出器の劣化を早めることは無い。
尚、上記実施例においては、保護容器5と真空
容器6を連結する排気管16を冷却槽1の近傍に
設けたが、この位置に限定されるものではなく、
真空容器側へ流出するガスがX線検出器の近傍を
通過しないような位置であれば良い。
容器6を連結する排気管16を冷却槽1の近傍に
設けたが、この位置に限定されるものではなく、
真空容器側へ流出するガスがX線検出器の近傍を
通過しないような位置であれば良い。
[考案の効果]
以上詳述した様に本考案によれば、ウインドー
型及びウインドーレス型のいずれの装置において
も、保護容器と真空容器が真空バルブを介して連
結され、該真空バルブの操作のみによつて間隙A
の真空度を向上させることができるため、間隙A
の真空度低下によるX線検出器への霜や汚れの付
着を防止し、それによりX線検出器の劣化を防止
した装置が提供される。
型及びウインドーレス型のいずれの装置において
も、保護容器と真空容器が真空バルブを介して連
結され、該真空バルブの操作のみによつて間隙A
の真空度を向上させることができるため、間隙A
の真空度低下によるX線検出器への霜や汚れの付
着を防止し、それによりX線検出器の劣化を防止
した装置が提供される。
第1図は本考案をウインドー型に適用した場合
の一実施例の構成略図、第2図は本考案をウイン
ドーレス型に適用した場合の一実施例の構成略
図、第3図及び第4図は従来装置を説明するため
の図である。 1……冷却槽、2……液体窒素、3……熱伝導
棒 4……X線検出器、5……保護容器、6……
真空容器、7……試料、8……吸着材、9……ウ
インドー、10……出力端子、11……排気口、
12……栓、13……電子線、14……特性X
線、15……ゲートバルブ、16……排気管、1
7……真空バルブ、18……真空ポンプ、19…
…真空計、20……電子銃。
の一実施例の構成略図、第2図は本考案をウイン
ドーレス型に適用した場合の一実施例の構成略
図、第3図及び第4図は従来装置を説明するため
の図である。 1……冷却槽、2……液体窒素、3……熱伝導
棒 4……X線検出器、5……保護容器、6……
真空容器、7……試料、8……吸着材、9……ウ
インドー、10……出力端子、11……排気口、
12……栓、13……電子線、14……特性X
線、15……ゲートバルブ、16……排気管、1
7……真空バルブ、18……真空ポンプ、19…
…真空計、20……電子銃。
Claims (1)
- 真空筐体内に配置された試料と、該試料よりの
X線を検出するためのX線検出器と、該X線検出
器を冷却するための冷媒を収容する冷却槽と、該
冷却槽と前記検出器を接続するための熱伝導棒
と、該冷却槽、熱伝導棒及びX線検出器を収容し
少なくとも前記検出器の使用中は内部が真空に保
持される保護容器とを備え、該保護容器の一端は
管状をしており、該管状部分が前記X線検出器を
前記真空筐体内の試料近傍に配置するため前記真
空筐体内に挿入されているエネルギー分散型X線
分析装置において、前記保護容器内に溜つたガス
を前記真空筐体に接続された真空ポンプにより排
気するため前記保護容器と前記真空筐体とを接続
する排気管が設けられており、該排気管の前記保
護容器への接続位置は該排気管を介して前記真空
筐体側へ流出するガスが前記検出器近傍を通過し
ないように該検出器位置から離されており、前記
排気管にガスの通過を制御する弁が備えられてい
ることを特徴とするエネルギー分散型X線分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15509686U JPH0451416Y2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15509686U JPH0451416Y2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6360263U JPS6360263U (ja) | 1988-04-21 |
| JPH0451416Y2 true JPH0451416Y2 (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=31075491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15509686U Expired JPH0451416Y2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0451416Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128635A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Shimadzu Corp | 電子冷却型半導体x線検出器 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP15509686U patent/JPH0451416Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6360263U (ja) | 1988-04-21 |
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