JPH0424393Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0424393Y2 JPH0424393Y2 JP1399887U JP1399887U JPH0424393Y2 JP H0424393 Y2 JPH0424393 Y2 JP H0424393Y2 JP 1399887 U JP1399887 U JP 1399887U JP 1399887 U JP1399887 U JP 1399887U JP H0424393 Y2 JPH0424393 Y2 JP H0424393Y2
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- JP
- Japan
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- sampling
- chute
- inner cylinder
- tubular body
- reduced product
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 25
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
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- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
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- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
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Landscapes
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、ばら物の還元プロセスに用いること
のできる高温粒状還元物のサンプリング装置に関
する。
のできる高温粒状還元物のサンプリング装置に関
する。
予熱機とロータリーキルンを組合わせて成る還
元物生成プロセスにおいては、予熱機で原料の乾
燥、予熱および一部還元を行い、これをロータリ
ーキルンに供給して本格的に高温（1000〜1300
℃）で還元し、その後冷却して成品を生産してい
る。
元物生成プロセスにおいては、予熱機で原料の乾
燥、予熱および一部還元を行い、これをロータリ
ーキルンに供給して本格的に高温（1000〜1300
℃）で還元し、その後冷却して成品を生産してい
る。
従来、ロータリーキルン内部の還元物をサンプ
リングする装置はあるが、キルンの上流側で還元
物をサンプリングする装置はなく、予熱機でどの
ような性状変化、例えば還元ペレツトの場合、還
元率、強度、組成の変化を受けているか全く不明
であり、これらの性状変化に対応する有効な操業
がなされていなかつた。
リングする装置はあるが、キルンの上流側で還元
物をサンプリングする装置はなく、予熱機でどの
ような性状変化、例えば還元ペレツトの場合、還
元率、強度、組成の変化を受けているか全く不明
であり、これらの性状変化に対応する有効な操業
がなされていなかつた。
本考案は、上記実情に鑑み予熱直後の物質の還
元率、強度、組成などの性状を把握することによ
り、還元プロセス操業上有効な情報を得て合理的
な操業を容易にするためになされたものであつ
て、簡易で操作の容易なサンプリング装置を提供
することを目的とする。
元率、強度、組成などの性状を把握することによ
り、還元プロセス操業上有効な情報を得て合理的
な操業を容易にするためになされたものであつ
て、簡易で操作の容易なサンプリング装置を提供
することを目的とする。
本考案は次の手段から成るものである。
(1) 予熱機とロータリーキルンの中間部のシユー
ト壁に外側から内側まで貫通する管状体を設
け、この管状体内を前後進する内筒を設けるこ
と。
ト壁に外側から内側まで貫通する管状体を設
け、この管状体内を前後進する内筒を設けるこ
と。
(2) 内筒にシユート内に開放する開孔を設けるこ
と。
と。
(3) 内筒が採取した高温物質（サンプル）を不活
性ガスにより直ちに常温近く迄冷却する装置を
付属すること。
性ガスにより直ちに常温近く迄冷却する装置を
付属すること。
本考案の装置によりロータリーキルン入口側の
還元物を適時にサンプリングすることができ、こ
れを不活性ガスによつて冷却するので、 高温粒状還元物は再酸化されることなく冷却さ
れ、粒状物の還元率、強度、組成はそのままの値
を把握することができ、操業上有効な情報を得る
ことができる。
還元物を適時にサンプリングすることができ、こ
れを不活性ガスによつて冷却するので、 高温粒状還元物は再酸化されることなく冷却さ
れ、粒状物の還元率、強度、組成はそのままの値
を把握することができ、操業上有効な情報を得る
ことができる。
第１図、第２図に示すようにロータリキルン１
とプレヒータ（予熱機）２を連絡するシユート３
の中間にサンプリング装置４が設置されている。
シユート３を構成している煉瓦５および鉄皮６に
貫通孔を設け管状体７（円柱状、角柱状等）を取
り付ける。管状体７の内部に内筒８を設け、内筒
８の下端にピン９を取り付けシリンダ１０と連結
する。シリンダ１０の他端は床面上のブラケツト
１１とピン１２で接続している。管状体７の中間
には仕切弁１３を取り付け、補修時に管状体の連
通を遮断する。管状体７と内筒８の間には、ガス
およびダストシールのためパツキン１４を取り付
けている。
とプレヒータ（予熱機）２を連絡するシユート３
の中間にサンプリング装置４が設置されている。
シユート３を構成している煉瓦５および鉄皮６に
貫通孔を設け管状体７（円柱状、角柱状等）を取
り付ける。管状体７の内部に内筒８を設け、内筒
８の下端にピン９を取り付けシリンダ１０と連結
する。シリンダ１０の他端は床面上のブラケツト
１１とピン１２で接続している。管状体７の中間
には仕切弁１３を取り付け、補修時に管状体の連
通を遮断する。管状体７と内筒８の間には、ガス
およびダストシールのためパツキン１４を取り付
けている。
一方、内筒８のシユート内側先端部には高温粒
状還元物１５を内筒８内へ取り込むために開孔１
６を設けている。また内筒８の中間に邪魔板１７
およびこれに隣接する開孔１８を設け、内筒の内
部に取り込んだ高温粒状還元物１５を系外に出す
ために開孔１８に対応した位置にサンプリングシ
ユート１９を設け、その下端部にサンプリングケ
ース２０をセツトする。
状還元物１５を内筒８内へ取り込むために開孔１
６を設けている。また内筒８の中間に邪魔板１７
およびこれに隣接する開孔１８を設け、内筒の内
部に取り込んだ高温粒状還元物１５を系外に出す
ために開孔１８に対応した位置にサンプリングシ
ユート１９を設け、その下端部にサンプリングケ
ース２０をセツトする。
サンプリングケース２０の中にサンプリングボ
ツクス２１を設け、このボツクス２１内にN2配
管（不活性ガス冷却管）２２を導いて高温粒状還
元物１５をN2冷却できるようにしている。高温
粒状還元物１５と熱交換したN2は配管２２にて
大気中へ放散される。サンプリングボツクス２１
には取手２３が付いており、サンプルを取出し運
搬することができる。
ツクス２１を設け、このボツクス２１内にN2配
管（不活性ガス冷却管）２２を導いて高温粒状還
元物１５をN2冷却できるようにしている。高温
粒状還元物１５と熱交換したN2は配管２２にて
大気中へ放散される。サンプリングボツクス２１
には取手２３が付いており、サンプルを取出し運
搬することができる。
仕切弁１３の操作、保守用にデツキ２４を設け
ている。
ている。
実施例装置の作動について説明する。
内筒８は第１図に示す待機位置８ａに待機して
いる状態から、サンプリングする時はシリンダ１
０にて採取位置８ｂ（第１図）まで押し上げられ
開孔１６より高温粒状還元物１５を内筒８内に取
り入れる。その後内筒８はシリンダ１０にてサン
プリングボツクスに投入する位置８ｃ（第１図）
まで下げられて、内筒８内の高温粒状還元物１５
はサンプリングシユート１９を通つてサンプリン
グケース２０内のサンプリングボツクス２１内に
収納され、N2配管２２にて常温近くまでN2にて
冷却される。
いる状態から、サンプリングする時はシリンダ１
０にて採取位置８ｂ（第１図）まで押し上げられ
開孔１６より高温粒状還元物１５を内筒８内に取
り入れる。その後内筒８はシリンダ１０にてサン
プリングボツクスに投入する位置８ｃ（第１図）
まで下げられて、内筒８内の高温粒状還元物１５
はサンプリングシユート１９を通つてサンプリン
グケース２０内のサンプリングボツクス２１内に
収納され、N2配管２２にて常温近くまでN2にて
冷却される。
高温粒状還元物１５が冷却された後、サンプリ
ングボツクス２１を取手２３にて取り出し所定の
場所まで運び分析する。
ングボツクス２１を取手２３にて取り出し所定の
場所まで運び分析する。
本考案の装置により予熱直後の高温粒状還元物
を容易にサンプリングすることが可能となり、そ
の還元率、強度、組成などの性状を把握すること
ができ、操業上有効な情報を得ることができるよ
うになつた。
を容易にサンプリングすることが可能となり、そ
の還元率、強度、組成などの性状を把握すること
ができ、操業上有効な情報を得ることができるよ
うになつた。
第１図は本考案の実施例のサンプリング装置の
全体図、第２図はサンプリング装置の配置を示す
プレヒータとロータリキルン連結部の断面図であ
る。 １……ロータリキルン、２……予熱機、３……
シユート、４……サンプリング装置、５……煉
瓦、６……鉄皮、７……管状体、８……内筒、９
……ピン、１０……シリンダ、１１……ブラケツ
ト、１２……ピン、１３……仕切弁、１４……パ
ツキン、１５……高温粒状還元物、１６……開
孔、１７……邪魔板、１８……開孔、１９……サ
ンプリングシユート、２０……サンプリングケー
ス、２１……サンプリングボツクス、２２……
N2配管（不活性ガス冷却管）、２３……取手、２
４……デツキ。
全体図、第２図はサンプリング装置の配置を示す
プレヒータとロータリキルン連結部の断面図であ
る。 １……ロータリキルン、２……予熱機、３……
シユート、４……サンプリング装置、５……煉
瓦、６……鉄皮、７……管状体、８……内筒、９
……ピン、１０……シリンダ、１１……ブラケツ
ト、１２……ピン、１３……仕切弁、１４……パ
ツキン、１５……高温粒状還元物、１６……開
孔、１７……邪魔板、１８……開孔、１９……サ
ンプリングシユート、２０……サンプリングケー
ス、２１……サンプリングボツクス、２２……
N2配管（不活性ガス冷却管）、２３……取手、２
４……デツキ。
Claims (1)
- 予熱機とロータリキルンの組合わせから成る還
元物生成装置において、予熱機とロータリキルン
とを連結する傾斜シユート壁に該シユートの外側
から内側に貫通する管状体を設け、該管状体内
に、先端が開孔した内筒を前後進自在に配設する
と共に、該内筒が収納した高温還元物サンプルを
系外に取出すサンプリングシユートを前記管状体
に連結し、該サンプリングシユートの下端部にサ
ンプリングボツクスを設け、該サンプリングボツ
クスに冷却用不活性ガス冷却管を連結してなるこ
とを特徴とする高温粒状還元物のサンプリング装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1399887U JPH0424393Y2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1399887U JPH0424393Y2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63123997U JPS63123997U (ja) | 1988-08-12 |
| JPH0424393Y2 true JPH0424393Y2 (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=30803580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1399887U Expired JPH0424393Y2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0424393Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP1399887U patent/JPH0424393Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63123997U (ja) | 1988-08-12 |
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