JPH04244082A - プリニルおよびピリミジニルテトラヒドロフラン類 - Google Patents
プリニルおよびピリミジニルテトラヒドロフラン類Info
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- JPH04244082A JPH04244082A JP3161636A JP16163691A JPH04244082A JP H04244082 A JPH04244082 A JP H04244082A JP 3161636 A JP3161636 A JP 3161636A JP 16163691 A JP16163691 A JP 16163691A JP H04244082 A JPH04244082 A JP H04244082A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ニルテトラヒドロフラン類、更に詳しくは、抗ウイルス
活性を有する新規なテトラヒドロフラン化合物に関する
。
化合物は、下記式[1]で示され、その医薬的に許容し
うる塩をも包含する。
の定義は以下の通りである。R1は
ル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、2−
フルオロエチル、2−クロロエチルまたは
リフルオロメチル;R4およびR5はそれぞれ独立して
、水素、−PO3H2および R6は水素、アルキル、置換アルキルまたはアリールで
ある。
化14】 である化合物である。最も好ましい本発明化合物[1]
は、R1が
基の両方を指称する。炭素数1〜10の基が好ましい。 語句「置換アルキル」とは、少なくとも1個の置換基を
有するアルキル基を指称する。好ましい置換基は、ハロ
ゲン、アミノ、アミド、アジド、ヒドロキシ、シアノ、
各アルキル炭素数1〜6のトリアルキルアンモニウム、
アリールおよびカルボキシルである。
換基の1個、2個または3個で置換されたフェニルを指
称する。好ましい置換基は、炭素数1〜6のアルキル,
炭素数1〜6のアルコキシ,ハロゲン,トリフルオロメ
チル,アミノ,アミド,炭素数1〜6のアルキルアミノ
,各アルキル炭素数1〜6のジアルキルアミノ,ニトロ
,シアノ,炭素数2〜11のアルカノイルオキシ,カル
ボキシル,カルバモイルおよびヒドロキシルである。
容しうる塩は、抗ウイルス剤であって、哺乳動物、たと
えば家畜(イヌ、ネコ、ウマ、ウシなど)およびヒト、
並びに鳥類(たとえばニワトリおよび七面鳥)のウイル
ス感染の治療に使用することができる。
2型ウイルス並びに水痘状帯状ヘルペスウイルスの少な
くとも1つに対して有効である。またこれらの化合物は
、他の種々のDNAウイルスに対して活性を示すと思わ
れる。上記ヘルペスウイルス以外のDNAウイルスの具
体例としては、他のヘルペスウイルス(たとえばエプス
テイン−バールウイルス、ヒトヘルペスウイルス6、仮
性狂犬病ウイルスなど)、ポックスウイルス(たとえば
ワクシニア、サル痘および筋腫)、パポバウイルス(た
とえば乳頭腫ウイルス)、B型肝炎ウイルス、およびア
デノウイルスが挙げられる。他の本発明化合物[1]は
全て、単純ヘルペス1型および2型ウイルス、水痘状帯
状ヘルペスウイルス、サイトメガロウイルス、および上
述の他のDNAウイルスの少なくとも1つに対して活性
を示すと思われる。
射、腹腔内注射または筋肉内注射により)、経口または
局所投与することができる。本発明化合物は、ウイルス
感染の治療に有効な量で経口または非経口投与されてよ
い。投与量は、感染のひどさに左右されるが、1〜50
mg/体重(kg)の範囲内が適当と思われる。望まし
い用量は、適当な間隔で1日数回に分けて投与すること
ができる。
膚)の感染の場合、本発明化合物[1]を含有する抗ウ
イルス剤を、軟膏、クリーム、エアゾール、ゲル、粉末
、ローション、懸濁液または溶液(たとえば目薬)の形
状で、患者の体の感染部に局所投与することができる。 該抗ウイルス剤におけるビヒクル中の本発明化合物の濃
度は、感染のひどさに左右されるが、約0.1〜7重量
%の範囲内が適当と思われる。
基、たとえばベンジル、シリル(たとえばt−ブチルジ
フェニルシリル、(トリフェニルメチル)ジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリルまたはトリイソプロピ
ルシリルなどのヒンダードトリ置換シリル)、トリチル
、または置換トリチル(たとえば4−モノメトキシトリ
チルまたは4,4’−ジメトキシトリチル)である)か
ら製造することができる。
保護基である)の化合物[3]から合成することができ
る。 P1がアセチルである化合物[3]は当該分野で公知で
ある[J.A.モントゴメリィおよびJ.トーマスの「
J.Org.Chem.」(43、541頁、1978
年)参照]。 化合物[3]の第一ヒドロキシルを公知の方法に従い保
護基Pで保護することにより、式:
うに選定される)の化合物[4]を得ることができる。 たとえば、Pはベンジル、トリチル、置換トリチル、ま
たはシリル基であってよい。化合物[4]の遊離ヒドロ
キシル基を公知の方法に従い、脱離可能基X1、たとえ
ばメタンスルホネート、P−トルエンスルホネートまた
はトリフルオロメタンスルホネートに変換することによ
り、式:
的脱離および塩基促進エポキシド形式によって、化合物
[2]に変換することができる。たとえば、化合物[5
]の化合物[2]への変換は、炭酸カリウム/メタノー
ルまたはエタノール、ナトリウムメトキシド/メタノー
ル、ナトリウムエトキシド/エタノール、または水酸化
ナトリウムもしくはカリウム/水性テトラヒドロフラン
もしくは水性ジオキサンを使用して行うことができる。
とができる[Y.ガオおよびK.B.シャープレスの「
J.Amer.Chem.Soc.」(110、753
8頁、1988年)参照]。
選択的に保護することにより製造することができる。化
合物[28]は当該分野で公知である[F.ウェイガー
ドおよびF.ワイースの「Chem.Ber.」(85
、1000頁、1952年)参照]。
極性溶媒(たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、またはスルホラン(テトラメチレンスルホ
ン))中、塩基(たとえば水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウム、または炭酸カリウム)の存在
下、グアニンの適当な保護体、たとえば式:
:
ート剤、たとえば18−クラウン−6(1,4,7,1
0,13,16−ヘキサオキサシクロオクタデカン)ま
たは15−クラウン−5(1,4,7,10,13−ペ
ンタオキサシクロペンタデカン)または12−クラウン
−4(1,4,7,10−テトラオキサシクロドデカン
)の存在下で行うことができる。化合物[7]から保護
基を脱離して、R1が
る。
、ナトリウム/アンモニア水の使用、水添分解(たとえ
ば水酸化パラジウム/炭素、シクロヘキセン、およびエ
タノール)、または三塩化ホウ素/ジクロロメタンの使
用により、P基とプリンのO−ベンジル基の同時脱離を
行うことができる。別法として、先ず水性アルコール性
鉱酸を使用してプリンのO−ベンジル基を脱離した後、
たとえばナトリウム/アンモニア水の使用または水添分
解によってP基を脱離することができる。
イオン(たとえばフッ化テトラブチルアンモニウム/テ
トラヒドロフラン)を使用して、P基の脱離を行うこと
ができる。次に水性アルコール性鉱酸、水添分解、また
はナトリウム/アンモニア水でプリンのO−ベンジル基
を脱離することができる。別法として、先ず水添分解で
プリンのO−ベンジル基を脱離した後、フッ化物イオン
の使用でシリルP基を脱離することができる。
のとき、水性/アルコール性鉱酸の使用でP基とプリン
のO−ベンジル基の同時の脱離を行うことができる。
7]の製造で採用したのと類似の条件下で、式:
7】 の化合物[8]と反応させ、ワークアップを行って、式
:
化合物[9]から製造することができる。たとえば、化
合物[9]のP基がベンジルのとき、水素添加(たとえ
ばアンモニウムホルメートおよびパラジウム/炭素/メ
タノール;水酸化パラジウム/炭素、シクロヘキセンお
よびエタノール;またはパラジウム/炭素、水素および
エタノール)によって、クロロ基の脱保護および還元を
同時に行うことができる。P基がシリルのとき、先ず水
素添加でクロロ基を還元し、次いでフッ化物イオンの使
用で保護基の脱離を行うことができる。別法として、先
ずシリル保護基を脱離し、次いでクロロ基を還元するこ
とができる。P基がトリチルまたは置換トリチルのとき
、水性酸の使用でP基の脱保護を行い、次いで水素添加
でクロロ基を還元することができる。
以下の手順で製造することができる。式:
で採用したのと類似の操作に従って、化合物[2]また
は[26]と反応させた後、公知の方法で保護基を脱離
する。なお、化合物[10]の任意保護体において、ア
シル(たとえば、アセチルまたはベンゾイル)、トリチ
ル、または置換トリチルなどの具体的な基でアミノ基(
−NH2)を保護することができる。
化合物[9]から公知の方法に従って製造することがで
きる[たとえばJ.C.マーチンらの「J.Med.C
hem.」(28、358頁、1985年)参照]。す
なわち、たとえば、化合物[9]を温メタノール性アン
モニアで処理すると、クロロ基とアミノ基の置換が起る
。保護基Pがベンジル基のとき、後の脱保護は、水添分
解、ナトリウム/アンモニア水、または三塩化ホウ素の
使用によって行うことができる。保護基Pがシリル基の
とき、後の脱保護はフッ化物イオンの使用によって行う
ことができる。 保護基Pがトリチルまたは置換トリチル基のとき、後の
脱保護は水性酸の使用によって行うことができる。
以下の手順で製造することができる。式:
で採用したのと類似の操作に従って、化合物[2]また
は[26]と反応させた後、公知の方法で保護基を脱離
する。 化合物[11]の任意保護体において、トリチル、置換
トリチルまたはアシル(たとえばアセチルまたはベンゾ
イル)などの具体的な基でアミノ基(−NH2)を保護
することができる。
7]の製造で採用したのと類似の方法で、式:
】 の化合物[12]と反応させた後、P保護基を脱離して
、R1が
1]を得る。
式:
と類似の方法で、化合物[2]または[26]と反応さ
せることにより製造することができる。この反応は、対
応する式:
ア/アルコール(たとえばメタノールまたはエタノール
)で処理した後、P保護基を脱離して、R1が
】 およびR4とR5が水素である対応する本発明化合物[
1]を得る。
7]の製造で採用したのと類似の方法で、式:
】 の化合物[15]と反応させた後、保護基Pを脱離して
、R1が
1]を得る。
R1が
アデノシンデアミナーゼまたは亜硝酸で処理することに
より製造することができる。
化合物[14]から、P保護基を脱離した後(または同
時に)、クロロ基を加水分解することによって製造する
ことができる。たとえば、Pがベンジル基のとき、三塩
化ホウ素でこのベンジル基を選択的に脱離することがで
きる。後続のクロロ基の加水分解は、酸(たとえば水性
塩化水素酸)または塩基(たとえば水性メタノール性水
酸化ナトリウム)の使用によって行うことができる。P
がシリル保護基のとき、この基をフッ化物で選択的に脱
離した後、クロロ基の加水分解を行うか、またはシリル
基とクロロ基を、加水分解条件下で同時に脱離すること
ができる。Pがトリチルまたは置換トリチル基のとき、
酸加水分解によってP保護基とクロロ基を同時に脱離す
ることができる。
n−プロピル、または2−フルオロエチルである式:
化41】 の化合物[16]は、以下の手順で製造することができ
る。対応する式:
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはスルホ
ラン)中、塩基(たとえば炭酸カリウム、水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、または水素化カリウム)および
必要に応じて18−クラウン−6、15−クラウン−5
または12−クラウン−4の存在下、化合物[2]また
は[26]と反応させ、ワークアップを行って、式:
化43】 の中間体[18]を得る。保護基Pを脱離して、対応す
る化合物[16]を得る。
基は水添分解(たとえば水酸化パラジウム/炭素、シク
ロヘキセンおよびエタノール)または三塩化ホウ素処理
で脱離することができる。Pがシリルのとき、フッ化物
イオンで脱保護を行うことができる。Pがトリチルまた
は置換トリチルのとき、水性酸で脱保護を行うことがで
きる。
17]は、公知の方法で製造することができる[H.グ
リエングルらの「J.Med.Chem.」(30、1
199頁、1987年)参照]。
]は、R2が水素で、ヒドロキシ基がアシル(たとえば
アセチルまたはベンゾイル)などの基で任意に保護され
ている対応化合物[16]から、公知の方法に従い、次
亜フッ素酸トリフルオロメチルによるフッ素化によって
も製造することができる[たとえばM.J.ロビンスら
の「J.Amer.Chem.Soc.」(93、52
77頁、1971年)および「Chem.Commun
.」(18、1972年);T.S.Linらの「J.
Med.Chem.」(26、1691頁、1983年
)参照]。
ロエチルである化合物[16]は、式:
びP3の存在下で選択的に脱離しうる基である)の化合
物[19]から製造することができる。なお、保護基P
およびP3は同一もしくは異っていてもよい。たとえば
、P2がシリル基のとき、Pはトリチル、置換トリチル
またはベンジルで、P3はトリチル、置換トリチル、ベ
ンジルまたはアシル(たとえばアセチルまたはベンゾイ
ル)であってよい。別法として、P2がアシル基のとき
、PおよびP3はそれぞれ独立して、トリチル、置換ト
リチル、シリルまたはベンジルであってよい。別法とし
て、P2がトリチルまたは置換トリチル基のとき、Pは
シリルまたはベンジルで、P3はシリル、ベンジルまた
はアシルであってよい。保護基P2の選択的脱離により
、式:
/四塩化炭素または三フッ化ジエチルアミノ硫黄で処理
した後、保護基PおよびP3を脱離して、それぞれR2
が2−クロロエチルまたは2−フルオロエチルである化
合物[16]を得る。別法として、化合物[20]をト
リフェニルホスフィン/N−ブロモスクシンイミド、ト
リフェニルホスフィン/N−ブロモスクシンイミド/ヨ
ウ化テトラブチルアンモニウムまたはp−トルエンスル
ホニルクロリドで処理して[H.グリエングルらの「J
.Med.Chem.」(28、1679頁、1985
年)参照]、それぞれX2がブロモ、ヨードまたはp−
トルエンスルホネートである、式:
理した後、保護基PおよびP3を脱離して、R2が2−
フルオロエチルである化合物[16]を得る。
ばR2は水素、メチルまたはエチル)の製造で採用した
のと類似の方法で、化合物[2]または[26]と反応
させた後、公知の方法によりP3基で保護することによ
って製造することができる。化合物[22]は、対応す
るフリーなアルコールから、公知の方法で製造すること
ができる。
n−プロピル、2−クロロエチルまたは2−フルオロエ
チルである、式:
イル)などの保護基である)の化合物[24]から、公
知の方法で製造することができる[たとえばI.ウェン
プナーらの“核酸化学における合成手順”、Vol.1
、W.W.ゾルバーチおよびR.S.チプソン著、イン
ターサイエンス・パブリッシャーズ、N.Y.、299
頁、1968年;W.L.サングの「J.Org.Ch
em.」(47、3623頁、1982年);T.S.
リンらの「J.Med.Chem.」(26、1961
頁、1983年);P.ハーデウィンらの「J.Med
.Chem.」(28、550頁、1985年);ヨー
ロッパ特許第204264A(1985年)参照]。化
合物[24]は、対応する化合物[16]から、公知の
方法で製造することができる。
ル、エチル、n−プロピルまたは2−フルオロエチルで
ある化合物[23]は、対応する式:
アミド、ジメチルスルホキシドまたはスルホラン)中、
塩基(たとえば炭酸カリウム、水素化リチウム、水素化
ナトリウムまたは水素化カリウム)および必要に応じて
18−クラウン−6、15−クラウン−5または12−
クラウン−4の存在下、化合物[2]または[26]と
反応させた後、保護基Pを脱離することにより製造する
ことができる。必要に応じて、化合物[25]のアミノ
基(−NH2)をたとえばアシル基で保護することがで
きる。この保護基の脱離は、ナトリウムメトキシド/メ
タノールまたはメタノール性アンモニアの使用で行うこ
とができる。
[23]は、対応するR2が水素である化合物[23]
から、公知の方法に従い、次亜フッ素酸トリフルオロメ
チルでフッ素化することにより製造することができる。 またフッ素化は、R2が水素であり、ヒドロキシル基お
よび/またはアミノ基がたとえばアセチルまたはベンゾ
イルなどのアシル基で保護されている化合物[23]に
対応しても行うことができる。フッ素化後、メタノール
性アンモニアまたは水性水酸化物を用いてアシル基を脱
保護することにより、R2がフルオロである化合物[2
3]を得る[たとえばM.J.ロビンスらの「J.Am
er.Chem.Soc.」(93、5277頁、19
71年)および「Chem.Commun.」(18、
1972年);T.S.リンらの「J.Med.Che
m.」(26、1691頁、1983年)参照]。
化合物[16]または[23]は、対応するR2が水素
である化合物[16]または[23]から、公知の方法
に従って製造することができる[たとえば“核酸化学の
基本原理”、Vol.,P.O.P.Ts’O編、アカ
デミック・プレス、N.Y.、146頁、1974年:
P.K.チャングの“核酸化学”、パート3、L.B.
タウンセンドおよびR.S.チプソン著、ジョーン・ウ
ィリィ・アンド・サンズ、N.Y.、46頁、1986
年参照]。
16]または[23]は、R2がヨードであり、ヒドロ
キシ基およびアミノ基(−NH2)がたとえばアセチル
またはベンゾイルなどのアシル基で保護されている。対
応化合物[16]または[23]から、公知の操作に従
って、ヨウ化トリフルオロメチルおよび銅で処理するこ
とにより製造することができる。次いで、メタノール性
アンモニアまたはナトリウムメトキシド/メタノールを
用いて脱保護を行い、対応するR2がトリフルオロメチ
ルである化合物[16]または[23]を得る[たとえ
ばY.コバヤシらの「J.Chem.Soc.Perk
in」(1、2755頁、1980年);S.リンらの
「J.Med.Chem.」(26、1691頁、19
83年)参照]。
たはトリフルオロメチルである化合物[16]または[
23]は、対応するR2がヨードまたは−HgClであ
る化合物[16]または[23]から、オルガノパラジ
ウム中間体を経由して製造することができる。R2が−
HgClである化合物[16]または[23]は、対応
するR2が水素である化合物[16]または[23]か
ら、公知の方法で製造することができる[たとえばM.
E.パールマンらの「J.Med.Chem.」(28
、741頁、1985年);P.ハーデウィンらの「J
.Med.Chem.」(28、550頁、1985年
);D.E.ベルグストロームらの「J.Med.Ch
em.」(27、279頁、1984年)およびE.デ
クラークらの文献「Pharmac.Ther.」(2
6、1頁、1984年)参照]。
公知の方法に従って製造することができる。
“核酸化学における合成手順”、Vol.1、W.W.
ゾルバーチおよびR.S.チプソン著、ジョーン・ウィ
リィ・アンド・サンズ、1968年;“核酸化学”,パ
ート1、L.B.タウンセンドおよびR.S.チプソン
著、ジョーン・ウィリィ・アンド・サンズ、1978年
;Y.イシドらの「Nucleosides and
Nucleotides」(5、159頁、198
6年);J.C.マーチンらの「J.Pharm.Sc
i.」(76、180頁、1987年);A.マツダら
の「Synthesis」(385頁、1986年)を
参照。R4および/またはR5が−PO3H2である本
発明化合物[1]は、対応するR4およびR5が水素で
ある本発明化合物[1]から、公知の操作に従って製造
することができる[たとえばH.シャラーらの「J.A
mer.Chem.Soc.」(85、3821頁、1
963年);J.ベレスらの「J.Med.Chem.
」(29、494頁、1986年);R.ノヨリらの「
Tet.Lett.」(28、2259頁、1987年
);W.フェイデラーらの「Helv.Chim.Ac
ta.」(70、1286頁、1987年):“核酸化
学”、パート2、L.B.タウンセンドおよびR.S.
チプソン著、ジョーン・ウィリィ・アンド・サンズ、1
978年参照]。
絶対である。このことは、本発明化合物において、絶対
立体化学がキラル先駆物質のD−ソルビトールまたは1
,4−アンヒドロ−D−リビトールから誘導されること
から引き出される。
酸付加塩を形成しうる。具体例としては、ハライド(た
とえばクロリドおよびブロミド)、アルキルスルホネー
ト、スルフェート、ホスフェートおよびカルボキシレー
ト塩が挙げられる。
に塩基性を形成しうる。具体例としては、アルカリ金属
(たとえばナトリウムおよびカリウム)、アルカリ土類
金属塩(たとえばカルシウムおよびマグネシウム)、ア
ンモニウム塩および置換アンモニウム塩が挙げられる。
ある本発明化合物[1]は、無機または有機塩基と共に
塩基性塩を形成しうる。具体例としては、アルカリ金属
塩(たとえばナトリウムおよびカリウム)、アルカリ土
類金属塩(たとえばカルシウムおよびマグネシウム)、
アンモニウム塩および置換アンモニウム塩が挙げられる
。
である。全ての温度単位は℃で示す。 実施例1 [3R−(3α,4β,5α)]−2−アミノ−1,9
−ジヒドロ−9−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−
(ヒドロキシメチル)−3−フラニル]−6H−プリン
−6−オンの製造:− A.[2R−[2α(S*),3α,4β]]−テトラ
ヒドロ−β,3,4−トリヒドロキシ−2−フランエタ
ノールこの化合物は、S.ソルツベルグの「J.Ame
r.Chem.Soc.」(68、919頁、1946
年)に記載の方法を改変して製造した。すなわち、50
0mlの丸底フラスコおいて、1.5mlのH2O中の
110mgの濃H2SO4の溶液に、D−ソルビトール
(10.0g、54.9ミリモル)を加える。フラスコ
を100℃油浴にて、固体が溶けはじめるまで加温する
。次いでフラスコを排気し(約18mmHg)、140
℃油浴に入れる。反応液を減圧下135〜145℃で2
5分間撹拌する。反応フラスコを室温まで冷却し、50
mlのH2Oおよび約5gのノリット(Norit)を
加える。フラスコを100℃油浴で3分間加温し、混合
物を濾過する。室温まで冷却後、濾液を酢酸バリウムで
pH7に中和し、1時間静置せしめる。次いで沈澱物を
濾去し、溶媒を除去して、粘稠シロップ(10g)を得
る。このシロップの一部(8g)を100mlの2−プ
ロパノールに懸濁し、濾過する。濾液を濃縮し、シリカ
ゲルにてクロマトグラフィー(0〜30%CH3OH/
CHCl3)で精製し、2.50gの[2R−[2α(
S*),3α,4β]]−テトラヒドロ−β,3,4−
トリヒドロキシ−2−フランエタノールを得る。
トラヒドロ−3,4−ジヒドロキシ−2−フランカルボ
キシアルデヒド この化合物は、ヘッドグレイの「J.Am.Chem.
Soc.」(86、1576頁、1964年)に記載の
オリジナル操作を改変して製造した。すなわち、上記A
の[2R−[2α(S*),3α,4β]]−テトラヒ
ドロ−β,3,4−トリヒドロキシ−2−フランエタノ
ール(1.90g、11.6ミリモル)を24mlのH
2Oに懸濁する。30mlのH2O中の2.48gのN
aIO4の溶液を滴下する。滴下終了後、反応液を室温
で3時間撹拌する。溶媒を減圧除去し、残渣を温エタノ
ール(75℃)と共に3回トリチュレートする。エタノ
ール抽出物を冷却し、濾過する。 溶媒を回転蒸発で濃縮し、粗標記B化合物(1.85g
)を無色油状物で得る。
トラヒドロ−3,4−ジヒドロキシ−2−フランメタノ
ール[2S−(2α,3α,4β)]−テトラヒドロ−
3,4−ジヒドロキシ−2−フランカルボキシアルデヒ
ド(1.85g)を30mlのH2Oに溶解し、300
mgのNaBH4で処理する。反応液を窒素雰囲気下で
60時間撹拌し、次いでAG MP−50(H+)イ
オン交換樹脂でpH2に酸性化する。混合物を濾過し、
残渣をH2Oおよびメタノールで洗う。コンバインした
濾液を回転蒸発で濃縮して、無色シロップとする。メタ
ノール(50ml)を加え、減圧除去する。このメタノ
ールの添加および蒸発を5回繰返す。生成物を0.2m
mHgで乾燥して、1.51gの粗標記C化合物を無色
油状物で得る。
]−テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H−フロ[3
,2−d]−1,3−ジオキシン−7−オール 粗[2R−(2α,3α,4β)]−テトラヒドロ−3
,4−ジヒドロキシ−2−フランメタノール(1.50
g、11.2ミリモル)に急撹拌下、100mlの乾燥
蒸留アセトン、2,2−ジメトキシプロパン(5.83
g)およびp−トルエンスルホン酸・モノ水和物(10
6mg、0.56ミリモル)の混合物を加える。反応液
をアルゴン雰囲気下、室温にて5時間撹拌する。溶液を
0℃に冷却し、湿pH紙により溶液のpHが7.5にな
るまで、NaHCO3固体を加える。次いで溶媒を回転
蒸発で除去し、残渣をクロロホルムとH2O間に分配す
る。水溶液を同量のCHCl3で7回抽出し、抽出物を
コンバインし、濃縮して、1.30gの無色油状物を得
る。シリカゲル(60g)にてクロマトグラフィー(1
〜3%CH3OH/CHCl3)を行い、901mgの
純標記D化合物を無色油状物で得、これを0℃で貯蔵し
て固化せしめる。
]−テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H−フロ[3
,2−d]−1,3−ジオキシン−7−オール・アセテ
ートエステルこの化合物は、モントゴメリィの「J.O
rg.Chem.」(43、541頁、1978年)に
記載の方法に従って製造した。すなわち、(4aR−(
4aα,7α,7aα)]−テトラヒドロ−2,2−ジ
メチル−4H−フロ[3,2−d]−1,3−ジオキシ
ン−7−オール(620mg、3.56ミリモル)を2
.3mlの乾燥ピリジンに溶解し、アルゴン下0℃に冷
却する。無水酢酸(0.67ml)を注射器で加え、冷
却浴を取除く。室温で20時間撹拌後、反応混合物を3
0mlの飽和NaHCO3および30gの粉砕氷に注ぐ
。この混合物を同量のCHCl3で3回抽出する。コン
バインした抽出物を飽和NaHCO3溶液で、およびH
2Oで3回洗う。溶液を無水MgSO4上で乾燥し、濃
縮する。70℃で45分間排気(約5mmHg)して、
残った溶媒を除去する。これによって、620mgの標
記E化合物が無色シロップで得られる。
トラヒドロ−3,4−ジヒドロキシ−2−フランメタノ
ール・4−アセテートエステル この化合物は、モントゴメリィの「J.Org.Che
m.」(43、541頁、1978年)に記載の方法に
従って製造した。すなわち、[4aR−(4aα,7α
,7aα)]−テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H
−フロ[3,2−d]−1,3−ジオキシン−7−オー
ル・アセテートエステル(600mg、2.77ミリモ
ル)を14mlのエタノールに溶解し、0℃に冷却し、
2.77mlの1N−HClで処理する。反応液を室温
まで加温し、約4時間撹拌する。溶媒を減圧除去し、残
渣を30mlのCHCl3に溶かす。CHCl3溶液を
Na2CO3固体で中和し、濾過し、MgSO4上で乾
燥し、減圧濃縮して、410mgの標記F化合物を無色
油状物で得る。
トラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェ
ニルメトキシ]メチル]−3,4−フランジオール・4
−アセテートエステル アルゴン雰囲気下、[2R−(2α,3α,4β)]−
テトラヒドロ−3,4−ジヒドロキシ−2−フランメタ
ノール・4−アセテートエステル(375mg、2.1
3ミリモル)を11mlのCH2Cl2/ジメチルホル
ムアミド(10:1)に溶解し、0℃に冷却し、4−モ
ノメトキシトリチルクロリド(658mg、2.13ミ
リモル)で処理する。 1mlのCH2Cl2中のトリエチルアミン(0.44
ml、3.2ミリモル)の溶液を、急撹拌下2分にわた
って滴下する。反応液を0〜5℃にて4時間撹拌せしめ
、次いで15mlのCH2Cl2で希釈する。塩化メチ
レン溶液を飽和NaHCO3(20ml×1)およびH
2O(20ml×2)で洗い、次いでNa2SO4上で
乾燥する。溶媒を減圧除去して、残渣を60gのシリカ
ゲルにて、クロマトグラフィー(100mlのヘキサン
、次いで1lのヘキサン/アセトン(80:20)で溶
離)に付す。溶媒を蒸発し、高減圧下で乾燥して、84
7mgの標記G化合物を無色泡状物で得る。
トラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェ
ニルメトキシ]メチル]−3,4−フランジオール−4
−アセテート・3−メタンスルホネートエステル 上記Gの[2R−(2α,3α,4β)]−テトラヒド
ロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメト
キシ]メチル]−3,4−フランジオール・4−アセテ
ートエステルの全量を、アルゴン下8.3mlの乾燥ピ
リジンに溶解し、0℃に冷却する。メタンスルホニルク
ロリド(0.30ml、3.9ミリモル)を注射器で加
え、反応混合物を室温まで加温せしめる。5時間後、反
応混合物を氷水およびクロロホルムの混合物に注ぎ、得
られる混合物をクロロホルムで2回抽出する。コンバイ
ンした有機層を、飽和NaHCO3で2回、水で3回洗
い、無水MgSO4上で乾燥する。溶媒を減圧除去して
、980mgの無色泡状物を得、これを精製せずに使用
する。
,4−エポキシテトラヒドロ−2−[[(4−メトキシ
フェニル)ジフェニルメトキシ]メチル]フラン [2R−(2α,3α,4β)]−テトラヒドロ−2−
[[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメトキシ]メ
チル]−3,4−フランジオール・4−アセテート・3
−メタンスルホネートエステル(930mg、1.76
ミリモル)を10mlの乾燥メタノールに溶解し、無水
K2CO3(293mg、2.1ミリモル)で処理する
。反応液をTLC(ヘキサン/アセトン=7:3)に付
し、アセテートの加メタノール分解によって形成される
中間体アルコールの消失を注意深く監視する。3時間後
、エポキシドの形成が完全に現出し、溶媒を減圧除去す
る。残渣をCHCl3と5%NaHCO3間に分配し、
水性層をCHCl3で抽出する。 有機抽出物をコンバインし、MgSO4上で乾燥し、濃
縮して淡黄色シロップとする。フラッシュクロマトグラ
フィー(30gのシリカゲル、ヘキサン/アセトン=8
:2)に付し、565mgの標記I化合物を白色泡状物
で得る。
−(フェニルメトキシ)−9−[テトラヒドロ−4−ヒ
ドロキシ−5−[[(4−メトキシフェニル)ジフェニ
ルメトキシ]メチル]−3−フラニル]−9H−プリン
−2−アミン[2R−(2α,3β,4β)]−3,4
−エポキシテトラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェ
ニル)ジフェニルメトキシ]メチル]フラン(520m
g、1.34ミリモル、トルエンと共に3回共沸乾燥す
る)、18−クラウン−6(266mg、1.00ミリ
モル)、6−(フェニルメトキシ)−9H−プリン−2
−アミン(549mg、2.27ミリモル)、およびN
aH(60%分散液、32.2mg、1.34ミリモル
)を、アルゴン下3mlの乾燥スルホランに懸濁し、反
応容器を110℃油浴に入れる。反応液をアルゴン下1
10℃で20時間撹拌する。反応混合物を室温まで冷却
し、10gのシリカゲルで処理し、15mlのCH2C
l2中でスラリー化し、CH2Cl2にパックしたシリ
カゲル(80g)カラムに適用する。このカラムを、3
00mlのCH2Cl2、次いで0〜3%CH3OH/
CH2Cl2のステップ勾配でゆっくりと(自重により
)溶離する。混合画分を再度クロマトグラフィーに付し
、トータル348mgの標記J化合物を淡黄色油状物で
得る。
−アミノ−1,9−ジヒドロキシ−9−[テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−5−(ヒドロキシメチル)−3−フ
ラニル]−6H−プリン−6−オン [3R−(3α,4β,5α)]−6−(フェニルメト
キシ)−9−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[
[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメトキシ]メチ
ル]−3−フラニル]−9H−プリン−2−アミン(3
00mg、0.476ミリモル)を、窒素下10mlの
メタノールおよび10mlのテトラヒドロフランに溶解
する。この混合物を5mlの3N−HClで処理する。 反応容器を65℃油浴に入れ、窒素雰囲気下65℃で1
時間加熱する。室温で2時間撹拌後、溶液をNaHCO
3固体でpH7.5に調整し、溶媒を減圧除去する。逆
相クロマトグラフィー(CHP−20P樹脂、75〜1
50μ、三菱化学工業(株)、水で溶離)を行い、減圧
下で水を除去した後、メタノールを加え、3回濃縮乾固
して、標記化合物を白色固体で得る。m.p.227℃
(分解)。 1H−NMR(270MHz、DMSO):δ7.72
(s、1H)、6.63(s、2H)、5.74(ブロ
ードs、1H)、4.86(ブロードs、1H)、4.
62(m、1H)、4.28(t、J=5.3Hz)、
4.11(dd、J=9.4,6.45Hz、1H)、
3.93(dd、J=9.4,5.3Hz、1H)、3
.50〜3.70(m、3H)
テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−(ヒドロキシメチ
ル)−3−フラニル]−2,4(1H、3H)ピリミジ
ンジオンの製造:− A.[2R−[2α(S*),3α,4β]]−テトラ
ヒドロ−β,3,4−トリヒドロキシ−2−フランエタ
ノールこの化合物は、S.ソルツベルグの「J.Ame
r.Chem.Soc.」(68、919頁、1946
年)に記載の方法を改変して製造した。すなわち、2l
の丸底フラスコおいて、19.5mlのH2O中の1.
43gの濃H2SO4の溶液に、D−ソルビトール(1
30g)を加える。フラスコを100℃油浴にて、固体
が溶けはじめるまで加温する。次いでフラスコを排気し
(約20〜25mmHgに維持)、140℃油浴に入れ
る。反応液を減圧下125〜145℃で30分間撹拌す
る。反応フラスコを室温まで冷却し、500mlのH2
Oおよび約25gのノリット(Norit)を加える。 フラスコを80℃油浴で数分間加温し、混合物を濾過す
る。室温まで冷却後、濾液を酢酸バリウムでpH6.5
に中和し、1時間静置せしめる。次いで沈澱物を濾去し
、溶媒を除去して、無色の油状固体を得る。シリカゲル
(750g)にてクロマトグラフィー(0〜30%CH
3OH/CHCl3)を行い、30.0gの不純な[2
R−[2α(S*),3α,4β]]−テトラヒドロ−
β,3,4−トリヒドロキシ−2−フランエタノールを
得、これをそのまま次工程に使用する。
]−テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H−フロ[3
,2−d]−1,3−ジオキシン−7−オール 上記Aの油状混合物の一部(23.3g)を250ml
のH2Oに懸濁する。300mlのH2O中の30.4
gのNaIO4の溶液を滴下する。滴下終了後、反応液
を室温で3時間撹拌する。溶媒を減圧除去し、残渣を温
エタノール(75℃)と共に3回トリチュレートする。 エタノール抽出物を冷却し、濾過する。溶媒を回転蒸発
で濃縮して、15.5gの無色油状物を得る。この粗混
合物を370mlのH2Oに溶解し、5.0gのNaB
H4で処理する。反応液を室温で約15時間撹拌し、次
いでAG MP−50(H+)イオン交換樹脂でpH
2に酸性化する。混合物を濾過し、残渣をH2Oおよび
メタノールで十分に洗う。 コンバインした濾液を回転蒸発で濃縮して、無色シロッ
プとする。メタノール(500ml)を加え、減圧除去
する。このメタノールの添加と蒸発を3回繰返す。生成
物を0.5mmHgで乾燥して、14.0gの無色油状
物を得る。この油状物の大半(13.9g)を900m
lのアセトンに懸濁し、アルゴン下撹拌しながら、p−
トルエンスルホン酸・モノ水和物(982mg、5.1
2ミリモル)および2,2−ジメトキシプロパン(63
.1ml)を加える。反応液を室温で4時間撹拌する。 約10gのNaHCO3固体を加え、溶媒を減圧除去す
る。残渣をCHCl3/H2O混合物に懸濁し、混合物
をCHCl3で数回抽出する。コンバインしたCHCl
3抽出物をMgSO4上で乾燥し、濃縮して無色油状物
とする。シリカゲル(450g)にてクロマトグラフィ
ー(0〜5%CH3OH/CHCl3)を行い、4.4
4gの純標記B化合物を無色油状物で得、冷凍下で固化
せしめる。
]−テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H−フロ[3
,2−d]−1,3−ジオキシン−7−オール・アセテ
ートエステル[4aR−(4aα,7α,7aα)]−
テトラヒドロ−2,2−ジメチル−4H−フロ[3,2
−d]−1,3−ジオキシン−7−オール(4.20g
、24.1ミリモル)を、窒素下30mlの酢酸エチル
に溶解し、4−ジメチルアミノピリジン(0.294g
、0.241ミリモル)で処理する。次いで無水酢酸(
10ml)を加え、反応液を室温で1時間撹拌する。反
応混合物を120mlの酢酸エチルで希釈し、飽和Na
HCO3溶液および塩水で洗う。酢酸エチル溶液を無水
MgSO4上で乾燥し、濃縮する。減圧下トルエンより
濃縮を繰返して、残った溶媒を除去する。約5mmHg
、70℃にて最終乾燥を1時間行い、3.70gの標記
C化合物を無色シロップで生成する。
トラヒドロ−3,4−ジヒドロキシ−2−フランメタノ
ール・4−アセテートエステル [4aR−(4aα,7α,7aα)]−テトラヒドロ
−−2,2−ジメチル−4H−フロ[3,2−d]−1
,3−ジオキシン−7−オール(3.70g)を90m
lのエタノールに溶解し、0℃に冷却し、17.8ml
の1N−HClで処理する。反応液を室温まで加温し、
約4時間撹拌する。溶媒を減圧除去する。残渣を30m
lのCHCl3に溶かし、Na2CO3固体で中和し、
濾過し、MgSO4上で乾燥し、減圧濃縮して1.95
gの標記D化合物を無色油状物で得る。
トラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェ
ニルメトキシ]メチル]−3,4−フランジオール・4
−アセテートエステル [2R−(2α,3α,4β)]−テトラヒドロ−3,
4−ジヒドロキシ−2−フランメタノール・4−アセテ
ートエステル(1.75g、9.94ミリモル)をアル
ゴン雰囲気下、50.6mlのCH2Cl2/ジメチル
ホルムアミド(10:1)溶液に溶解し、0℃に冷却し
、4−メトキシトリチルクロリド(3.07g。9.9
4ミリモル)で処理する。急撹拌下、3mlのCH2C
l2中のトリエチルアミン(2.09ml、14.9ミ
リモル)の溶液を2分にわたって滴下する。反応液を0
〜5℃で4時間撹拌し、100mlのCH2Cl2で希
釈し、飽和NaHCO3(100ml×1)およびH2
O(100ml×2)で洗い、次いでNa2SO4上で
乾燥する。溶媒を減圧除去し、残渣を200gのシリカ
ゲルにて、500mlのヘキサン、次いでヘキサン/ア
セトン(80:20)で溶離するクロマトグラフィーに
付す。溶媒蒸発および高減圧乾燥を行って、3.11g
の標記E化合物を無色泡状物で得る。
トラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェ
ニルメトキシ]メチル]−3,4−フランジオール・4
−アセテート・3−メタンスルホネートエステル [2R−(2α,3α,4β)]−テトラヒドロ−2−
[[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメトキシ]メ
チル]−3,4−フランジオール・4−アセテートエス
テル(3.11g、6.92ミリモル)を、アルゴン下
30mlの乾燥ピリジンに溶解し、0℃に冷却する。メ
タンスルホニルクロリド(1.07ml、13.8ミリ
モル)を注射器で加え、反応混合物を室温まで加温せし
める。5時間後、反応混合物を氷水/クロロホルム混合
物に注ぎ、得られる混合物をクロロホルムで2回抽出す
る。コンバインした有機層を飽和NaHCO3で2回、
水で3回洗い、無水MgSO4上で乾燥する。溶媒を減
圧除去し、残渣をトルエン(3倍量)に懸濁し、溶媒を
減圧除去して、3.36gの標記F化合物を無色泡状物
で得、これを精製せずに使用する。
,4−エポキシテトラヒドロ−2−[[(4−メトキシ
フェニル)ジフェニルメトキシ]メチル]−3,4−フ
ランジオール・4−アセテート・3−メタンスルホネー
トエステル(3.36g、6.39ミリモル)を、窒素
下36mlの乾燥メタノールに溶解し、無水K2CO3
(1.06g、7.67ミリモル)で処理する。反応液
をTLC(ヘキサン/アセトン=7:3)に付し、アセ
テートの加メタノール分解で形成される中間体アルコー
ルの消失を注意深く監視する。3時間後、エポキシドの
形成が完全に現出し、溶媒を減圧除去する。残渣をCH
Cl3と5%NaHCO3中に分配し、水性層をさらに
CHCl3で抽出する。有機層をコンバインし、MgS
O4上で乾燥し、濃縮して淡黄色シロップとする。フラ
ッシュクロマトグラフィー(シリカゲル200g、ヘキ
サン/アセトン=8:2)を行い、2.13gの標記G
化合物を白色泡状物で得る。
−メチル−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−
[[(4−メトキシフェニル)ジフェニルメトキシ]メ
チル]−3−フラニル]−2,4(1H、3H)ピリミ
ジンジオン[2R−(2α,3β,4β)]−3,4−
エポキシテトラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニ
ル)ジフェニルメトキシ]メチル]フラン(1.05g
、2.70ミリモル、トルエンと共に3回共沸乾燥する
)、18−クラウン−6(607mg、2.29ミリモ
ル)、乾燥チミン(1.46g、11.6ミリモル)お
よびNaH(60%分散液、64.8mg、1.6ミリ
モル)を、アルゴン下8mlの乾燥スルホランに懸濁し
、反応容器を110℃油浴に入れる。反応液をアルゴン
下110℃にて3.5日間撹拌する。さらに64.8m
gの60%NaHを加え、反応液を24時間加熱する。 混合物を室温まで冷却し、15gのシリカゲルで処理し
、15mlのCH2Cl2中でスラリー化し、CH2C
l2にパックした100gのシリカゲルカラムに適用す
る。このカラムを600mlのCH2Cl2、次いでス
テップ勾配の0〜3%MeOH/CH2Cl2でゆっく
りと(重力により)溶離する。適切な画分をコンバイン
し、不純物を再度、100gのシリカゲルにてクロマト
グラフィー(ヘキサン/アセトン=60:40で溶離)
に付して、トータル458mgの純標記H化合物を得る
。
−メチル−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−
(ヒドロキシメチル)−3−フラニル]−2,4(1H
、3H)ピリミジンジオン [3R−(3α,4β,5α)]−5−メチル−1−[
テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[[(4−メトキ
シフェニル)ジフェニルメトキシ]メチル]−3−フラ
ニル]−2,4(1H、3H)ピリミジンジオン(45
0mg、0.875ミリモル)を、5mlのメタノール
および5mlのテトラヒドロフランに溶解する。この混
合物を2.2mlの1N−HClで処理する。反応容器
を60℃油浴に入れ、窒素雰囲気下60℃で1.5時間
加熱する。溶液を0.1N−NaOHでpH5.5に調
整し、溶媒を減圧除去する。残渣を10mlのH2Oと
10mlのエーテル間に分配する。水性層を約3mlに
濃縮し、逆相クロマトグラフィーカラム(HP−20P
)に適用し、H2Oで溶離する。 適切画分をコンバインし、凍結乾燥して185mgの標
記化合物を潮解性固体で得る。 1H−NMR(270MHz、DMSO):δ11.2
5(ブロードs、1H)、7.53(s、1H)、5.
58(ブロードs、1H)、4.89(ブロードt、1
H)、4.81(m、1H)、4.15(m、1H)、
4.20(dd、J=9,6.5Hz、1H)、3.8
5(dd、J=9,5Hz)、3.61〜3.72(m
、1H)、3.48〜3.61(m、2H)、1.78
(s、3H)
テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−(ヒドロキシメチ
ル)−3−フラニル]−2(1H)−ピリミジンオンの
製造:−A.[3R−(3α,4β,5α)]−4−ア
ミノ−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[[
(4−メトキシフェニル)ジフェニルメトキシ]メチル
]−3−フラニル]−2(1H)−ピリミジンオン [2R−(2α,3β,4β)]−3,4−エポキシテ
トラヒドロ−2−[[(4−メトキシフェニル)ジフェ
ニルメトキシ]メチル]フラン(0.920g、2.3
7ミリモル、トルエンと共に3回共沸乾燥する)、18
−クラウン−6(0.470g、1.78ミリモル)、
シトシン(0.540g、4.86ミリモル)および無
水炭酸カリウム(0.164g、1.19ミリモル)を
、アルゴン下10mlの乾燥スルホランに懸濁する。反
応容器を115℃油浴に入れる。反応液をアルゴン下1
15℃で5日間撹拌し、TLC(ヘキサン/アセトン=
60:40)により、エポキシドの消失および所望生成
物の現出(CHCl3/MeOH=80:20)を監視
する。反応混合物を室温まで冷却し、15gのシリカゲ
ルで処理し、15mlのCH2Cl2中でスラリー化し
、CH2Cl2にパックしたシリカゲル(100g)カ
ラムに適用する。このカラムを300mlのCH2Cl
2、次いでステップ勾配の3〜9%MeOH/CH2C
l2でゆっくりと溶離する。純粋な標記A化合物(0.
650g)を黄色がかった泡状物で得る。
−アミノ−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−
(ヒドロキシメチル)−3−フラニル]−2(1H)−
ピリミジンオン [3R−(3α,4β,5α)]−4−アミノ−1−[
テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[[(4−メトキ
シフェニル)ジフェニルメトキシ]メチル]−3−フラ
ニル]−2(1H)−ピリミジンオン(0.610g、
1.22ミリモル)を25mlのMeOHに溶解し、6
.1mlの1N−HClで処理する。反応容器を60℃
油浴に入れ、アルゴン雰囲気下60℃で1時間加熱する
。得られる溶液を0.5N−NaOHでpH8に調整し
、溶媒を減圧除去する。 残渣をH2O/エーテル間に分配し、水層をもう1回エ
ーテルで洗う。エーテル洗液を水で逆抽出し、コンバイ
ンした水性層を約3mlに濃縮する。逆相クロマトグラ
フィー(水で溶離)を行い、水を減圧除去した後、メタ
ノールの添加および濃縮乾固を3回行って、標記化合物
(201mg)を白色固体で得る。m.p.235℃。 1H−NMR(270MHz、DMSO):δ7.59
(d、1H、J=7.0Hz)、7.00(ブロードs
、2H)、5.68(d、1H、J=7.0Hz)、5
.51(d、1H、J=5.9Hz)、4.79〜4.
85(m、2H)、4.04〜4.13(m、1H)、
4.00(dd、1H、J=7.0,10.1Hz)、
3.76(dd、1H、J=4.1,10.1Hz)、
3.48〜3.67(m、3H)、3.17(d、J=
5.3Hz)
−4−ヒドロキシ−5−(ヒドロキシメチル)−3−フ
ラニル]−2,4(1H、3H)ピリミジンジオンの製
造:−A.[2R−(2α,3β,4β)]−テトラヒ
ドロ−2−[(トリフェニルメトキシ)メチル]−3,
4−フランジオール 45mlの無水ジメチルホルムアミド中の5g(37.
3ミリモル)の1,4−アンヒドロ−D−リビトール(
Chem.Ber.85、1000〜1007頁、19
52年)の撹拌溶液に、トリエチルアミン(7.8ml
、55ミリモル)、塩化トリチル(12.48g、44
.8ミリモル)および4−ジメチルアミノピリジン(0
.228g、1.87ミリモル)を連続して加える。得
られる混合物を周囲温度で3時間撹拌し、55℃に加温
し、同温度で5時間撹拌する。アリコートの1H−NM
Rにより、出発物質の目的生成物への完全な変換が認め
られる。反応混合物を300mlの塩化メチレンで希釈
し、水(200ml×3)で洗う。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、減圧濃縮する。粗残渣をフラッシュ
クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン〜50%酢
酸エチル/ヘキサンで溶離)に付して、7.1g(収率
51%)の標記A化合物を得る。[α]D=+35.5
゜(C=1、塩化メチレン)。
]−テトラヒドロ−4−[(トリフェニルメトキシ)メ
チル]フロ[3,4−d]−1,3,2−ジオキサチオ
ール・2,2−ジオキシド 550mlの無水エーテル中の[2R−(2α,3β,
4β)]−テトラヒドロ−2−[(トリフェニルメトキ
シ)メチル]−3,4−フランジオール(7.0g、1
8.6ミリモル)およびトリエチルアミン(9.1ml
、65.2ミリモル)の撹拌溶液に、周囲温度で塩化チ
オニル(1.63ml、22.3ミリモル)を滴下する
。混合物を同程度で45分間撹拌し、セライト(cel
ite)で濾過し、減圧濃縮する。粗残渣を200ml
のアセトニトリルに溶解した後、NaIO4(5.97
g、27.9ミリモル)、RuCl3・3H2O(15
4.4mg、0.74ミリモル)および水(300ml
)を連続して加える。混合物を周囲温度で1時間撹拌し
、500mlのエーテルで希釈する。有機層を分離し、
200mlの飽和NaHCO3溶液、200mlの塩水
で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、シリカゲルで濾
過する。濾液を減圧濃縮して、7.8g(収率96%)
の標記B化合物を白色固体で得る。 部分的1H−NMR(CDCl3):δ5.48(m、
1H)、5.23(dd、J=1.75,6.45Hz
、1H)
)]−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[(
トリフェニルメトキシ)メチル]−3−フラニル]−2
,4(1H、3H)ピリミジンジオン 225mlの乾燥ジメチルホルムアミド中の[3aR−
(3aα,4α,6aα)]−テトラヒドロ−4−[(
トリフェニルメトキシ)メチル]フロ[3,4−d]−
1,3,2−ジオキサチオール・2,2−ジオキシド(
3.5g、8ミリモル)。 ウラシル(4.48g、39.95ミリモル)および無
水炭酸カリウム(3.31g、23.97ミリモル)の
混合物を、90℃で8時間加熱し、室温まで冷却し、濾
過し、減圧濃縮する。残渣を500mlのジオキサンに
溶解した後、1mlの水および0.25mlの20%H
2SO4を加える。反応混合物を室温で1時間撹拌後、
硫酸マグネシウムと共に5分間撹拌し、炭酸カリウムで
濾過する。 濾液を減圧濃縮し、粗残渣をフラッシュクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、ヘキサン〜酢酸エチルのステップ勾
配溶離)に付して、1.45g(収率45%)の標記C
化合物を白色泡状物で得る。[α]D=−30.5゜(
C=1、塩化メチレン)。
−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−(ヒドロキシ
メチル)−3−フラニル]−2,4(1H、3H)ピリ
ミジンジオンメタノール中の[3R−(3α,4β,5
α)]−1−[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−5−[
(トリフェニルメトキシ]メチル]−3−フラニル]−
2,4(1H、3H)ピリミジンジオンの混合物に、室
温で10%HCl水溶液を加える。混合物を室温で10
時間撹拌し、次いで濃縮する。残渣を水と混合し、1N
水酸化カリウムでpH7に調整する。得られる混合物を
HP−20P逆相樹脂にて、クロマトグラフィーに付し
て標記化合物を得る。
細胞培養システムにおいて、数種のウイルス感染の予防
に有効な化合物濃度を測定する検定を行った。検定法は
以下の通りであり、結果を下記表1に示す。 略語:HSV−1(単純ヘルペス1型ウイルス、スクー
ラー(Schooler)株)、HSV−2(単純ヘル
ペス2型ウイルス、186株)、VZV(水痘状帯状ヘ
ルペスウイルス、エレン(ELLEN)株) 細胞培養検定(HSV−1、HSV−2およびVZV抗
ウイルス検定):6枚のウエル培養平板(マサチューセ
ッツ州ケンブリッジ、コウスター)のWI−38細胞培
養単層に、ウイルスを1時間吸着せしめた後、2倍希釈
の試験化合物を含有する維持培地を加える。HSV−1
およびHSV−2の場合37℃で4日間の培養、VZV
の場合37℃で6〜7日間の培養を行った後、固定およ
び染色単層におけるプラグ発育の抑制を評価する。ウイ
ルス対照と比較して、少なくとも50%プラグ減少を付
与する薬物濃度から、ID50値(μg/ml)を測定
した。なお、試験化合物は式:
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