JPH04283571A - 新規なシクロプロパン誘導体 - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えば抗ウイルス剤、制
癌剤等の医薬として又、試薬として期待される新規核酸
誘導体に関する。
癌剤等の医薬として又、試薬として期待される新規核酸
誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】核酸は生物の遺伝情報をつかさどり分化
、増殖と極めて密接な関係にある物質なので、その天然
由来又は非天然の核酸誘導体には生物(ウイルスも含む
)の増殖を制御するものが数多く知られている。実際に
そのいくつかは無秩序な増殖を繰り返す癌やヒト細胞内
でのみ増殖を行ない種々の疾病を引き起こすウイルス感
染症に有効な医薬として臨床に用いられている。また抗
ウイルス剤という立場から見れば、医薬品としては核酸
誘導体がほとんどである。例えば抗ウイルス剤としては
ビダラビン、アシクロヴィル、アジドチミジン等が知ら
れている。また制癌剤としては5−フルオロウラシル(
5−FU)、シトシンアラビノシド(Ara−C)等が
知られている。
、増殖と極めて密接な関係にある物質なので、その天然
由来又は非天然の核酸誘導体には生物(ウイルスも含む
)の増殖を制御するものが数多く知られている。実際に
そのいくつかは無秩序な増殖を繰り返す癌やヒト細胞内
でのみ増殖を行ない種々の疾病を引き起こすウイルス感
染症に有効な医薬として臨床に用いられている。また抗
ウイルス剤という立場から見れば、医薬品としては核酸
誘導体がほとんどである。例えば抗ウイルス剤としては
ビダラビン、アシクロヴィル、アジドチミジン等が知ら
れている。また制癌剤としては5−フルオロウラシル(
5−FU)、シトシンアラビノシド(Ara−C)等が
知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記抗ウイルス
剤はウイルスに対する適応範囲が狭く、また溶解度、経
口吸収性、代謝等の要因により投与法が限られるなどの
難点を有している。さらに骨髄毒性等の副作用により投
与量、投与期間等に制限が生じてしまうものもある。一
方予後の極めて不良な後天性免疫不全症(AIDS)、
ヒト成人T細胞白血病(ATL)や伝染性の高い風邪症
候群など有効な医薬、ワクチンのないウイルス性疾患は
数多くある。よって今後新たな抗ウイルス剤の開発が強
く望まれている。また、上記制癌剤についてもその効果
、副作用等の面で必ずしも十分でなく、新たな制癌剤の
開発が望まれている。
剤はウイルスに対する適応範囲が狭く、また溶解度、経
口吸収性、代謝等の要因により投与法が限られるなどの
難点を有している。さらに骨髄毒性等の副作用により投
与量、投与期間等に制限が生じてしまうものもある。一
方予後の極めて不良な後天性免疫不全症(AIDS)、
ヒト成人T細胞白血病(ATL)や伝染性の高い風邪症
候群など有効な医薬、ワクチンのないウイルス性疾患は
数多くある。よって今後新たな抗ウイルス剤の開発が強
く望まれている。また、上記制癌剤についてもその効果
、副作用等の面で必ずしも十分でなく、新たな制癌剤の
開発が望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(1)
【化2】
[式中Bは核酸塩基誘導体であり、R1及びR2はそれ
ぞれ独立に水素原子または水酸基の保護基を示す]で表
される新規シクロプロパン誘導体及びこれらの化合物の
生理学的に許容される塩に関する。
ぞれ独立に水素原子または水酸基の保護基を示す]で表
される新規シクロプロパン誘導体及びこれらの化合物の
生理学的に許容される塩に関する。
【0005】一般式(1)において、Bの核酸塩基とし
ては、式(2)
ては、式(2)
【0006】
【化3】
【0007】[ここで、X1 は、水素原子アミノ基、
水酸基、又はハロゲン原子であり、X2 は水素原子又
はアミノ基である。]で示されるプリン塩基、及び式(
3)
水酸基、又はハロゲン原子であり、X2 は水素原子又
はアミノ基である。]で示されるプリン塩基、及び式(
3)
【0008】
【化4】
【0009】[ここでY1 はアミノ基又は水酸基であ
り、Y2 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子又はアルコキシカルボニル基で置換されたビ
ニル基である。]で示されるピリミジン塩基があげられ
る。
り、Y2 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子又はアルコキシカルボニル基で置換されたビ
ニル基である。]で示されるピリミジン塩基があげられ
る。
【0010】ここで、ハロゲン原子としては例えばフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素などが、アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基等のC1
−C4 のアルキル基があげられる。又アルコキシカル
ボニル基としてはメトキシカルボニルなどがあげられる
。
素、塩素、臭素、ヨウ素などが、アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基等のC1
−C4 のアルキル基があげられる。又アルコキシカル
ボニル基としてはメトキシカルボニルなどがあげられる
。
【0011】一般式(1)におけるR1 の水酸基の保
護基としては一般に保護基として使用されるものならば
特に制限はなく、エステル型保護基、例えばアセチル基
、ベンゾイル基等のアシル基、又はエーテル型保護基、
例えばtert−ブチルジメチルシリル基、tert−
ブチルジフェニルシリル基等の置換シリル基、メトキシ
メチル基等の(C1 −C4 アルコキシ)C1 −C
4 アルキル基、テトラヒドロビラニル基等の環状アセ
タール基、又はベンジル基、4−メトキシベンジル基、
トリチル基等の置換又は無置換フェニル基で一つ以上置
換されたメチル基が挙げられる。
護基としては一般に保護基として使用されるものならば
特に制限はなく、エステル型保護基、例えばアセチル基
、ベンゾイル基等のアシル基、又はエーテル型保護基、
例えばtert−ブチルジメチルシリル基、tert−
ブチルジフェニルシリル基等の置換シリル基、メトキシ
メチル基等の(C1 −C4 アルコキシ)C1 −C
4 アルキル基、テトラヒドロビラニル基等の環状アセ
タール基、又はベンジル基、4−メトキシベンジル基、
トリチル基等の置換又は無置換フェニル基で一つ以上置
換されたメチル基が挙げられる。
【0012】また生理学的に許容される塩とは、ナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属塩、カルシュウム、マ
グネシュウム等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩
、置換アンモニウム塩、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸塩、
酢酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、メタンスルホン
酸塩等の有機酸塩が挙げられる。
ウム、カリウム等のアルカリ金属塩、カルシュウム、マ
グネシュウム等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩
、置換アンモニウム塩、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸塩、
酢酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、メタンスルホン
酸塩等の有機酸塩が挙げられる。
【0013】次に一般式(1)が示される化合物の具体
例を示す。なおここに示した化合物については存在する
全ての異性体、光学活性体、ラセミ体を含む。また塩に
ついてはここに示していない。
例を示す。なおここに示した化合物については存在する
全ての異性体、光学活性体、ラセミ体を含む。また塩に
ついてはここに示していない。
【0014】1−1−1、9−[2,2−ビスヒドロキ
シメチル−1−シクロプロピル]アデニン1−1−2、
9−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロ
ピル]グアニン 1−1−3、2,6−ジアミノ−9−[2,2−ビスヒ
ドロキシメチル−1−シクロプロピル]プリン1−1−
4、9−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シクロ
プロピル]ヒポキサンチン 1−1−5、2−アミノ−6−クロロ−9−[2,2−
ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]プリン1
−1−6、6−クロロ−9−[2,2−ビスヒドロキシ
メチル−1−シクロプロピル]プリン
シメチル−1−シクロプロピル]アデニン1−1−2、
9−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロ
ピル]グアニン 1−1−3、2,6−ジアミノ−9−[2,2−ビスヒ
ドロキシメチル−1−シクロプロピル]プリン1−1−
4、9−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シクロ
プロピル]ヒポキサンチン 1−1−5、2−アミノ−6−クロロ−9−[2,2−
ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]プリン1
−1−6、6−クロロ−9−[2,2−ビスヒドロキシ
メチル−1−シクロプロピル]プリン
【0015】1−
2−1、1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シ
クロプロピル]シトシン1−2−2、1−[2,2−ビ
スヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]チミン 1−2−3、1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1
−シクロプロピル]ウラシル 1−2−4、5−(2−ブロモビニル)−1−[2,2
−ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]ウラシ
ル 1−2−5、5−フルオロ−1−[2,2−ビスヒドロ
キシメチル−1−シクロプロピル]ウラシル1−2−6
、5−ヨウド−1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−
1−シクロプロピル]ウラシル1−2−7、5−(2−
メチルオキシカルボニルビニル)−1−[2,2−ビス
ヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]ウラシル
2−1、1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1−シ
クロプロピル]シトシン1−2−2、1−[2,2−ビ
スヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]チミン 1−2−3、1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−1
−シクロプロピル]ウラシル 1−2−4、5−(2−ブロモビニル)−1−[2,2
−ビスヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]ウラシ
ル 1−2−5、5−フルオロ−1−[2,2−ビスヒドロ
キシメチル−1−シクロプロピル]ウラシル1−2−6
、5−ヨウド−1−[2,2−ビスヒドロキシメチル−
1−シクロプロピル]ウラシル1−2−7、5−(2−
メチルオキシカルボニルビニル)−1−[2,2−ビス
ヒドロキシメチル−1−シクロプロピル]ウラシル
【0016】本発明の一般式(1)の表される化合物の
うちプリン塩基型化合物は例えば一般式(4)
うちプリン塩基型化合物は例えば一般式(4)
【001
7】
7】
【化5】
【0018】〔式中、R1 、R2 は前記と同じ〕で
示される化合物から例えばスキーム1又はスキーム2で
示される反応経路により得ることができる。
示される化合物から例えばスキーム1又はスキーム2で
示される反応経路により得ることができる。
【0019】
【化6】
【0020】
【化7】
【0021】又、ピリミジン塩基型の化合物は、例えば
一般式(5)
一般式(5)
【0022】
【化8】
【0023】〔ここでR1 、R2 は前記と同じ〕で
示される化合物から、例えばスキーム3又はスキーム4
で示される反応経路により得ることができる。
示される化合物から、例えばスキーム3又はスキーム4
で示される反応経路により得ることができる。
【0024】
【化9】
【0025】
【化10】
【0026】またスキーム1〜4の出発原料となる一般
式(4)、(5)で表される化合物は例えば以下のスキ
ーム5のように製造することが出来る。
式(4)、(5)で表される化合物は例えば以下のスキ
ーム5のように製造することが出来る。
【0027】
【化11】
【0028】即ち一般式(4)で表される化合物は一般
式(6)で表される化合物のシュミット転移、ロッセン
転移、ホフマン転移、あるいはクルチウス転移反応によ
りえられる一般式(7)で表される不安定中間体である
イソシアナート体の直接加水分解あるいは一度カルバメ
ート体に変化した後加水分解することにより製造するこ
とが出来る。また一般式(5)で表される化合物は一般
式(7)で表されるイソシアナート体にアンモニアを付
加させることにより製造することが出来る。
式(6)で表される化合物のシュミット転移、ロッセン
転移、ホフマン転移、あるいはクルチウス転移反応によ
りえられる一般式(7)で表される不安定中間体である
イソシアナート体の直接加水分解あるいは一度カルバメ
ート体に変化した後加水分解することにより製造するこ
とが出来る。また一般式(5)で表される化合物は一般
式(7)で表されるイソシアナート体にアンモニアを付
加させることにより製造することが出来る。
【0029】さらに一般式(1)で表される化合物の光
学活性体は例えば次のように製造できる。ラセミ体であ
る一般式(2)で表される化合物と光学活性なカルボン
酸等各種の酸と混合することによりえられるジアステレ
オマー塩から、各々のジアステレオマーをクロマトグラ
フィー法及び結晶化等で単離する。これらのジアステレ
オマーは通常の方法、例えば塩基を加えて塩を分解する
か、又はイオン交換樹脂等の方法で一般式(2)で表さ
れる光学活性な遊離塩基に導くことが出来る。又は一般
式(1)、(2)、(3)で表されるラセミ体の化合物
において、R1、R2のいずれか少なくとも一箇所に光
学活性な置換基を導入してジアステレオマーとし、それ
らを分割することにより光学活性を化合物に導くことが
出来る。
学活性体は例えば次のように製造できる。ラセミ体であ
る一般式(2)で表される化合物と光学活性なカルボン
酸等各種の酸と混合することによりえられるジアステレ
オマー塩から、各々のジアステレオマーをクロマトグラ
フィー法及び結晶化等で単離する。これらのジアステレ
オマーは通常の方法、例えば塩基を加えて塩を分解する
か、又はイオン交換樹脂等の方法で一般式(2)で表さ
れる光学活性な遊離塩基に導くことが出来る。又は一般
式(1)、(2)、(3)で表されるラセミ体の化合物
において、R1、R2のいずれか少なくとも一箇所に光
学活性な置換基を導入してジアステレオマーとし、それ
らを分割することにより光学活性を化合物に導くことが
出来る。
【0030】
【効果】本発明により抗ウイルス剤、制癌剤又、試薬と
して期待される新規シクロプロパン誘導体が得られる。
して期待される新規シクロプロパン誘導体が得られる。
【0031】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明化合物の製造につ
いて具体的に説明する。なおここに示す化合物はラセミ
体である。
いて具体的に説明する。なおここに示す化合物はラセミ
体である。
【0032】実施例1 9−[2,2−ビス(ヒドロ
キシメチル)−ヒクロプロピル]アデニンの製造
キシメチル)−ヒクロプロピル]アデニンの製造
【00
33】(1) 6−[2,2−ビス(ベンジルオキシ
メチル)−シクロプロピルアミノ]−4−クロロ−5−
ホルムアミド−ピリミジンの製造 1−アミノ−2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シ
クロプロパン(150mg)のジオキサン(6ml)と
トリエチルアミン(1.4ml)の溶液に4,6−ジク
ロロ−5−ホルムアミドピリミジン(133mg)を加
え、1晩加熱還流する。反応後減圧下濃縮し、得られた
残渣シリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;クロロホ
ルム−エタノール=50:1)に供し目的物(249m
g、90%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)7.94(1H,d,J1.3
Hz)、and 8.29(1H,s). IR(film) ;3250、1690、1570、
1500、1100、1030、and 740cm−
1。
33】(1) 6−[2,2−ビス(ベンジルオキシ
メチル)−シクロプロピルアミノ]−4−クロロ−5−
ホルムアミド−ピリミジンの製造 1−アミノ−2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シ
クロプロパン(150mg)のジオキサン(6ml)と
トリエチルアミン(1.4ml)の溶液に4,6−ジク
ロロ−5−ホルムアミドピリミジン(133mg)を加
え、1晩加熱還流する。反応後減圧下濃縮し、得られた
残渣シリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;クロロホ
ルム−エタノール=50:1)に供し目的物(249m
g、90%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)7.94(1H,d,J1.3
Hz)、and 8.29(1H,s). IR(film) ;3250、1690、1570、
1500、1100、1030、and 740cm−
1。
【0034】(2) 9−[2,2−ビス(ベンジル
オキシメチル)−シクロプロピル]−6−クロロプリン
の製造。 6−[2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロ
プロピルアミノ]−4−クロロ−5−ホルムアミド−ピ
リミジン(147mg)をオルトギ酸エチル(7ml)
、N,N−ジメチルホルムアミド(3ml)、12規定
塩酸(0.2ml)に溶解し反応液を室温で3日間攪拌
する。 反応後、水(10ml)に注ぎクロロホルム(10ml
×2)で抽出する。クロロホルム溶液を水、飽和食塩水
で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去
する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;
クロロホルムーメタノール=30:1)に供し目的物(
82mg,58%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)8.25(1H,s)、and
8.72(1H,s). IR(film) ;1590、1560、1500、
1090 and740cm−1。
オキシメチル)−シクロプロピル]−6−クロロプリン
の製造。 6−[2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロ
プロピルアミノ]−4−クロロ−5−ホルムアミド−ピ
リミジン(147mg)をオルトギ酸エチル(7ml)
、N,N−ジメチルホルムアミド(3ml)、12規定
塩酸(0.2ml)に溶解し反応液を室温で3日間攪拌
する。 反応後、水(10ml)に注ぎクロロホルム(10ml
×2)で抽出する。クロロホルム溶液を水、飽和食塩水
で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去
する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;
クロロホルムーメタノール=30:1)に供し目的物(
82mg,58%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)8.25(1H,s)、and
8.72(1H,s). IR(film) ;1590、1560、1500、
1090 and740cm−1。
【0035】(3) 9−[2,2−ビス(ベンジル
オキシメチル)−シクロプロピル]アデニンの製造9−
[2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロ
ピル]−6−クロロプリン(29mg)、液化アンモニ
ア(1.5ml)のメタノール溶液(5ml)を封管中
100℃で8時間加熱する。減圧下溶媒を溜去すると目
的物(22mg、81%)を得る。 IR(Nujol);3300、3120、1665、
1590 and 1560cm−1。
オキシメチル)−シクロプロピル]アデニンの製造9−
[2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロ
ピル]−6−クロロプリン(29mg)、液化アンモニ
ア(1.5ml)のメタノール溶液(5ml)を封管中
100℃で8時間加熱する。減圧下溶媒を溜去すると目
的物(22mg、81%)を得る。 IR(Nujol);3300、3120、1665、
1590 and 1560cm−1。
【0036】(4) 9−[2,2−ビス(ヒドロキ
シメチル)−シクロプロピル]アデニンの製造9−[2
,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロピル
]アデニル(10mg)の80%ギ酸(0.5ml)と
メタノール(0.5ml)の溶液にPd−ブラック(4
mg)を加え水素雰囲気下室温にて8時間反応させる。 触媒を濾別後、溶媒を減圧下濃縮し、得られた残渣を分
取用シリカゲルプレート(0.5mm)、展開溶媒;ク
ロロホルム−メタノール=4:1)で精製すると目的物
(4mg、75%)を得る。 mp228−231℃ 1H−NMR(400MHz、DMSO−d6,)、
δ(Jvalue)1.27(1H,dd,J5.74
,7.7.Hz)、1.33(1H,dd,J4.51
,5.74Hz)、3.08(1H,d,J11.18
Hz)、3.30(1H,d,J11.18Hz)、3
.47(1H,d,J11.23Hz)、3.73(1
H,d,J11.23Hz)、4.65(1H,br.
)、4.77(1H,br.)、7.24(2H,s)
、8.08(1H,s)and 8.13(1H,s.
). IR(Nujol) ;3390、3200、1670
、1610、1580 and1020cm−1。
シメチル)−シクロプロピル]アデニンの製造9−[2
,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロピル
]アデニル(10mg)の80%ギ酸(0.5ml)と
メタノール(0.5ml)の溶液にPd−ブラック(4
mg)を加え水素雰囲気下室温にて8時間反応させる。 触媒を濾別後、溶媒を減圧下濃縮し、得られた残渣を分
取用シリカゲルプレート(0.5mm)、展開溶媒;ク
ロロホルム−メタノール=4:1)で精製すると目的物
(4mg、75%)を得る。 mp228−231℃ 1H−NMR(400MHz、DMSO−d6,)、
δ(Jvalue)1.27(1H,dd,J5.74
,7.7.Hz)、1.33(1H,dd,J4.51
,5.74Hz)、3.08(1H,d,J11.18
Hz)、3.30(1H,d,J11.18Hz)、3
.47(1H,d,J11.23Hz)、3.73(1
H,d,J11.23Hz)、4.65(1H,br.
)、4.77(1H,br.)、7.24(2H,s)
、8.08(1H,s)and 8.13(1H,s.
). IR(Nujol) ;3390、3200、1670
、1610、1580 and1020cm−1。
【0037】実施例2 1−[2,2−ビス(ヒドロ
キシメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造
キシメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造
【00
38】(1) 1−[N´−(3−エトキシアクリロ
イル)−ウレイド]−2,2−ビス(ベンジルオキシメ
チル)シクロプロパンの製造 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
ウレイド(107mg)、ジクロロメタン(2ml)、
ビリジン(1ml)、β−エトキシアクリロイルクロリ
ド(178mg)の反応混合物を室温で1晩攪拌反応さ
せる。反応液を氷水(20ml)に注ぎ、クロロホルム
(10mlx3)で抽出する。クロロホルム溶液を水、
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧溜去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル=1:2)に供し目的
物(71mg、51%)を得る。 IR(film) ;3250、1710、1680、
1620 and1540cm−1。
38】(1) 1−[N´−(3−エトキシアクリロ
イル)−ウレイド]−2,2−ビス(ベンジルオキシメ
チル)シクロプロパンの製造 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
ウレイド(107mg)、ジクロロメタン(2ml)、
ビリジン(1ml)、β−エトキシアクリロイルクロリ
ド(178mg)の反応混合物を室温で1晩攪拌反応さ
せる。反応液を氷水(20ml)に注ぎ、クロロホルム
(10mlx3)で抽出する。クロロホルム溶液を水、
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧溜去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル=1:2)に供し目的
物(71mg、51%)を得る。 IR(film) ;3250、1710、1680、
1620 and1540cm−1。
【0039】(2) 1−[2,2−ビス(ベンジル
オキシメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造1−
[N´−(エトキシアクリロイル)−ウレイド]−2,
2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロパン(1
00mg)をエタノール(2ml)と4%アンモニア水
(2ml)に溶解し、80℃で5時間反応させる。反応
後減圧下濃縮し、得られた残渣を分取用シリカゲルプレ
ート(0.5mm、展開溶媒;ヘキサン−酢酸エチル=
1:1)で精製すると目的物(32mg、35%)を得
る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)1.17(1H,dd,J4.
8,6.7Hz)、1.34(1H,dd,J6.7,
7.8Hz)、3.09(1H,dd,J4.8,7.
8Hz)、and 5.54(1H,d,J8.4Hz
).IR(film) ;3190、1710、169
0、1380、1290、and 1090cm−1。
オキシメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造1−
[N´−(エトキシアクリロイル)−ウレイド]−2,
2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロパン(1
00mg)をエタノール(2ml)と4%アンモニア水
(2ml)に溶解し、80℃で5時間反応させる。反応
後減圧下濃縮し、得られた残渣を分取用シリカゲルプレ
ート(0.5mm、展開溶媒;ヘキサン−酢酸エチル=
1:1)で精製すると目的物(32mg、35%)を得
る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)1.17(1H,dd,J4.
8,6.7Hz)、1.34(1H,dd,J6.7,
7.8Hz)、3.09(1H,dd,J4.8,7.
8Hz)、and 5.54(1H,d,J8.4Hz
).IR(film) ;3190、1710、169
0、1380、1290、and 1090cm−1。
【0040】(3) 1−[2,2−ビス(ヒドロキ
シメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造1−[2
,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロピル
]ウラシル(10mg)の80%ギ酸(0.5ml)と
メタノール(0.5ml)の溶液にPd−ブラック(4
mg)を加え水素雰囲気下室温にて4時間反応させる。 触媒を濾別後、溶媒を減圧下濃縮し、得られた残渣を分
取用シリカゲルプレート(0.5mm、展開溶媒;クロ
ロホルム−メタノール=4:1)で精製すると目的物(
5mg、93%)を得る。 mp165−167℃ 1H−NMR(400MHz、CD3 OD)、δ(
Jvalue)1.11(1H,dd,J4.6,6.
6Hz)、1.24(1H,dd,J6.6,7.6H
z)、3.09(1H,dd,J4.6,7.6Hz)
、3.50(2H,s)、3.58(1H,d,J10
.5Hz)、3.73(1H,d,J10.5Hz)、
5.64(1H,d,J7.8Hz)、and 7.5
7(1H,d,J7.8Hz)IR(Nujol) ;
3400、1705、1670、and 1620
cm−1。
シメチル)−シクロプロピル]ウラシルの製造1−[2
,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−シクロプロピル
]ウラシル(10mg)の80%ギ酸(0.5ml)と
メタノール(0.5ml)の溶液にPd−ブラック(4
mg)を加え水素雰囲気下室温にて4時間反応させる。 触媒を濾別後、溶媒を減圧下濃縮し、得られた残渣を分
取用シリカゲルプレート(0.5mm、展開溶媒;クロ
ロホルム−メタノール=4:1)で精製すると目的物(
5mg、93%)を得る。 mp165−167℃ 1H−NMR(400MHz、CD3 OD)、δ(
Jvalue)1.11(1H,dd,J4.6,6.
6Hz)、1.24(1H,dd,J6.6,7.6H
z)、3.09(1H,dd,J4.6,7.6Hz)
、3.50(2H,s)、3.58(1H,d,J10
.5Hz)、3.73(1H,d,J10.5Hz)、
5.64(1H,d,J7.8Hz)、and 7.5
7(1H,d,J7.8Hz)IR(Nujol) ;
3400、1705、1670、and 1620
cm−1。
【0041】参考例1 2,2−ビス(ベンジルオキ
シメチル)シクロプロピルイソシアナートの製造
シメチル)シクロプロピルイソシアナートの製造
【00
42】(1) 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル
)シクロプロピルカルボン酸の製造2,2−ビス(ベン
ジルオキシメチル)シクロプロピルカルボン酸エチルエ
ステル(5.4g)のメタノール溶液(20ml)の5
規定水酸化カリウム/メタノール溶液を4当量分加え、
室温にて一晩攪拌する。減圧下溶媒を溜去し、残渣に水
(60ml)を加え、水溶液を酢酸エチル(50mlx
2)で抽出する。水層を濃塩酸で酸性にした後酢酸エチ
ル(50mlx3)で抽出する。酢酸エチル溶液を水、
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧下溜去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル=1:1)に供し目
的物(4g、80%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)1.19(1H,dd,J4.
59,7.81Hz)、1.28(1H,dd,J4.
59,5.85Hz)、1.79(1H,dd,J5.
85,7.81Hz)、3.34(1H,d,J9.7
7Hz)、3.59(1H,d.9.77Hz)、3.
71(1H,d,J9.76Hz)、3.86(1H,
d,J9.76Hz)、4.43(2H,s)、4.5
0(2H,s)and 7.24(10H,compl
ex).
42】(1) 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル
)シクロプロピルカルボン酸の製造2,2−ビス(ベン
ジルオキシメチル)シクロプロピルカルボン酸エチルエ
ステル(5.4g)のメタノール溶液(20ml)の5
規定水酸化カリウム/メタノール溶液を4当量分加え、
室温にて一晩攪拌する。減圧下溶媒を溜去し、残渣に水
(60ml)を加え、水溶液を酢酸エチル(50mlx
2)で抽出する。水層を濃塩酸で酸性にした後酢酸エチ
ル(50mlx3)で抽出する。酢酸エチル溶液を水、
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧下溜去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル=1:1)に供し目
的物(4g、80%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)1.19(1H,dd,J4.
59,7.81Hz)、1.28(1H,dd,J4.
59,5.85Hz)、1.79(1H,dd,J5.
85,7.81Hz)、3.34(1H,d,J9.7
7Hz)、3.59(1H,d.9.77Hz)、3.
71(1H,d,J9.76Hz)、3.86(1H,
d,J9.76Hz)、4.43(2H,s)、4.5
0(2H,s)and 7.24(10H,compl
ex).
【0043】(2) 2,2−ビス(ベンジ
ルオキシメチル)シクロプロピルイソシアナートの製造
2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
カルボン酸(128.2mg)のアセトン溶液(3ml
)に氷冷下トリエチルアミン(54mg)のアセトン溶
液(1ml)加え、次いでクロルギ酸エチル(0.4m
l)を滴下し1時間攪拌する。反応溶液にアジ化ナトリ
ウム(39mg)の水溶液(2ml)を加え、氷冷下一
時間攪拌する。 反応後、氷水(40ml)に注ぎ、生成物をエーテル(
50mlx2)で抽出する。エーテル溶液を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去し、得られた残渣を
無水トルエン(20ml)を加え、1時間加熱還流する
。溶媒を減圧溜去すると目的物(111.6mg、88
%)を得る。不安定のため精製することなく次の反応に
用いる。 IR(film) ;2275cm−1。
ルオキシメチル)シクロプロピルイソシアナートの製造
2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
カルボン酸(128.2mg)のアセトン溶液(3ml
)に氷冷下トリエチルアミン(54mg)のアセトン溶
液(1ml)加え、次いでクロルギ酸エチル(0.4m
l)を滴下し1時間攪拌する。反応溶液にアジ化ナトリ
ウム(39mg)の水溶液(2ml)を加え、氷冷下一
時間攪拌する。 反応後、氷水(40ml)に注ぎ、生成物をエーテル(
50mlx2)で抽出する。エーテル溶液を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を減圧溜去し、得られた残渣を
無水トルエン(20ml)を加え、1時間加熱還流する
。溶媒を減圧溜去すると目的物(111.6mg、88
%)を得る。不安定のため精製することなく次の反応に
用いる。 IR(film) ;2275cm−1。
【0044】参考例2 1−アミノ−2,2−ビス(
ベンジルオキシメチル)シクロプロパンの製造
ベンジルオキシメチル)シクロプロパンの製造
【004
5】(1) 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)
シクロプロピルカルバミン酸tert−ブチルエステル
の製造 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
イソシアナート(121mg)のtert−ブタノール
(5ml)の溶液にトリエチルアミンを3滴加え40時
間加熱還流する。反応後溶媒を減圧溜去し、得られる残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサン
−酢酸エチル=2:1)に供し、目的物(101mg、
68%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)0.71(1H,t,J5.6
Hz)、1.00(1H,dd,J5.6,7.5Hz
)、1.45(9H,s)、and 2.57(1H,
complex).IR(film) ;3430、3
350、1700、1100、1025、740、70
0cm−1。
5】(1) 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)
シクロプロピルカルバミン酸tert−ブチルエステル
の製造 2,2−ビス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピル
イソシアナート(121mg)のtert−ブタノール
(5ml)の溶液にトリエチルアミンを3滴加え40時
間加熱還流する。反応後溶媒を減圧溜去し、得られる残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサン
−酢酸エチル=2:1)に供し、目的物(101mg、
68%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)0.71(1H,t,J5.6
Hz)、1.00(1H,dd,J5.6,7.5Hz
)、1.45(9H,s)、and 2.57(1H,
complex).IR(film) ;3430、3
350、1700、1100、1025、740、70
0cm−1。
【0046】(2) 1−アミノ−2,2−ビス(ベ
ンジルオキシメチル)シクロプロパンの製造2,2−ビ
ス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピルカルバミン
酸tert−ブチルエステル(51.1mg)のジクロ
ロメタン溶液(1ml)にトリフルオロ酢酸(0.5m
l)を加え室温で20分間攪拌する。反応後減圧下濃縮
し残渣に飽和炭素水素ナトリウム水溶液を加えアルカリ
性にした後酢酸エチル(30mlx2)で抽出する。酢
酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減
圧溜去すると目的物(39mg、100%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)0.48(1H,dd,J4.
4,5.3Hz)、0.74(1H,dd,J5.3,
7.0Hz)、and 2.37(1H,dd,J4.
4,7.0Hz). IR(film) ;3400、1600、1500、
1450、1090、1070、740、700cm−
1。
ンジルオキシメチル)シクロプロパンの製造2,2−ビ
ス(ベンジルオキシメチル)シクロプロピルカルバミン
酸tert−ブチルエステル(51.1mg)のジクロ
ロメタン溶液(1ml)にトリフルオロ酢酸(0.5m
l)を加え室温で20分間攪拌する。反応後減圧下濃縮
し残渣に飽和炭素水素ナトリウム水溶液を加えアルカリ
性にした後酢酸エチル(30mlx2)で抽出する。酢
酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減
圧溜去すると目的物(39mg、100%)を得る。 1H−NMR(400MHz、CDCl3 、TMS
)、δ(Jvalue)0.48(1H,dd,J4.
4,5.3Hz)、0.74(1H,dd,J5.3,
7.0Hz)、and 2.37(1H,dd,J4.
4,7.0Hz). IR(film) ;3400、1600、1500、
1450、1090、1070、740、700cm−
1。
【0047】参考例3 2,2−ビス(ベンジルオキ
シメチル)シクロプロピルウレイドの製造2,2−ビス
(ベンジルオキシメチル)シクロプロピルイソシアナー
ト(300mg)のエーテル溶液(5ml)に氷冷下ア
ンモニアガスを飽和して1時間放置する。析出する結晶
物質を濾別し、エーテル(2ml)を洗浄すると目的物
(180mg、57%)を得る。 mp;126−128℃ IR (Nujol) ;3445、3180、168
0、1620、1095、800、730、and 6
95cm−1。
シメチル)シクロプロピルウレイドの製造2,2−ビス
(ベンジルオキシメチル)シクロプロピルイソシアナー
ト(300mg)のエーテル溶液(5ml)に氷冷下ア
ンモニアガスを飽和して1時間放置する。析出する結晶
物質を濾別し、エーテル(2ml)を洗浄すると目的物
(180mg、57%)を得る。 mp;126−128℃ IR (Nujol) ;3445、3180、168
0、1620、1095、800、730、and 6
95cm−1。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 [式中Bは核酸塩基誘導体であり、R1及びR2はそれ
ぞれ独立に水素原子または水酸基の保護基を示す]で表
される新規シクロプロパン誘導体及びこれらの化合物の
生理学的に許容される塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3070443A JPH04283571A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 新規なシクロプロパン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3070443A JPH04283571A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 新規なシクロプロパン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283571A true JPH04283571A (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=13431644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3070443A Pending JPH04283571A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 新規なシクロプロパン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04283571A (ja) |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP3070443A patent/JPH04283571A/ja active Pending
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