JPH0424439B2 - - Google Patents
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- JPH0424439B2 JPH0424439B2 JP56091625A JP9162581A JPH0424439B2 JP H0424439 B2 JPH0424439 B2 JP H0424439B2 JP 56091625 A JP56091625 A JP 56091625A JP 9162581 A JP9162581 A JP 9162581A JP H0424439 B2 JPH0424439 B2 JP H0424439B2
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- cobalt
- nickel
- electrolyte
- current density
- stirring
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/10—Agitating of electrolytes; Moving of racks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電着ニツケル・コバルト合金の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
電着ニツケル・コバルト（以下、単にEDNi・
Coとも略称する）合金は、高大気温度引張特性
を有するので魅力のあるものである。ニツケル・
コバルト合金の共付着は、ワツト（Watts）型の
ニツケル・コバルト硫酸塩及び塩化物の電解液内
で生成される極めて硬質で脆性のある付着物と、
ニツケル・コバルトスルフアミン酸塩の電解液内
で生成される延性のある付着物とから開発された
ものである。EDNi・Coの引張特性はNi・Co組
成で決定されるものであるが、その組成は電着の
独立変数である電流密度、撹拌率、電解液組成に
よつて制御されるものと考えられていた。
Coとも略称する）合金は、高大気温度引張特性
を有するので魅力のあるものである。ニツケル・
コバルト合金の共付着は、ワツト（Watts）型の
ニツケル・コバルト硫酸塩及び塩化物の電解液内
で生成される極めて硬質で脆性のある付着物と、
ニツケル・コバルトスルフアミン酸塩の電解液内
で生成される延性のある付着物とから開発された
ものである。EDNi・Coの引張特性はNi・Co組
成で決定されるものであるが、その組成は電着の
独立変数である電流密度、撹拌率、電解液組成に
よつて制御されるものと考えられていた。
エンデイコツト（Bndicott）とクナツプ
（Knapp）とは「プレーテイング（Plating）」、
1966年１月号、において、「ニツケル・コバルト
合金の電着物（Electrodeposits of Nickel−
Cobalt Alloys）」という題名で寄稿を行い、ス
ルフアミン酸塩電解液内のニツケル・コバルトの
共付着に関連する電着変数の包括的な研究に関す
る報告を行つている。その報告によれば、合金の
含有組成は電解液内のニツケルとコバルトとの相
対的濃度及び付着電流密度で決定されることを示
している。電流密度を増加するとコバルトの含有
率が減少したことが示されている。付着物のニツ
ケルとコバルトの割合を制御する上で撹拌も又重
要な要素である。デイニイ（Dini）、ジヨンソン
（Johnson）、ヘルムズ（Helms）は、サンデイア
研究所報告書1973年３月号で、「電鋳に応用する
高強度ニツケル・コバルト付着物（High
Stength Nickel−Cobalt Deposits for
Electroforming Applications）」という題名の寄
稿を行い、スルフアミン酸塩のニツケル・コバル
ト電解液（Ni＋＋／Co＋＋≒10）及び25Amp／
ft2（＝26.9Amp／m2）の電流密度に対し（尚、
「Amp／ft2」は「asf」とも表示する）、撹拌しな
い場合にはコバルト含有率は28.5％であり、中程
度の撹拌をした場合には50％であり、激しく撹拌
した場合には53.5％であることを観察した旨報告
している。
（Knapp）とは「プレーテイング（Plating）」、
1966年１月号、において、「ニツケル・コバルト
合金の電着物（Electrodeposits of Nickel−
Cobalt Alloys）」という題名で寄稿を行い、ス
ルフアミン酸塩電解液内のニツケル・コバルトの
共付着に関連する電着変数の包括的な研究に関す
る報告を行つている。その報告によれば、合金の
含有組成は電解液内のニツケルとコバルトとの相
対的濃度及び付着電流密度で決定されることを示
している。電流密度を増加するとコバルトの含有
率が減少したことが示されている。付着物のニツ
ケルとコバルトの割合を制御する上で撹拌も又重
要な要素である。デイニイ（Dini）、ジヨンソン
（Johnson）、ヘルムズ（Helms）は、サンデイア
研究所報告書1973年３月号で、「電鋳に応用する
高強度ニツケル・コバルト付着物（High
Stength Nickel−Cobalt Deposits for
Electroforming Applications）」という題名の寄
稿を行い、スルフアミン酸塩のニツケル・コバル
ト電解液（Ni＋＋／Co＋＋≒10）及び25Amp／
ft2（＝26.9Amp／m2）の電流密度に対し（尚、
「Amp／ft2」は「asf」とも表示する）、撹拌しな
い場合にはコバルト含有率は28.5％であり、中程
度の撹拌をした場合には50％であり、激しく撹拌
した場合には53.5％であることを観察した旨報告
している。
しかしながら、今までに、撹拌と電流密度との
両方を独立的に変化させて、電流密度と撹拌とコ
バルト含有率との相関関係乃至は相互作用を明ら
かにした研究はなされていない。例えば、電流密
度の付着物組成に与える影響は、電流密度を増加
させると濃度分極が増加することに起因するのか
も知れず、従つて、電解液に適当な撹拌を与える
ことによつて防止することができるかも知れな
い。
両方を独立的に変化させて、電流密度と撹拌とコ
バルト含有率との相関関係乃至は相互作用を明ら
かにした研究はなされていない。例えば、電流密
度の付着物組成に与える影響は、電流密度を増加
させると濃度分極が増加することに起因するのか
も知れず、従つて、電解液に適当な撹拌を与える
ことによつて防止することができるかも知れな
い。
ところで、本明細書においては、EDNi・Co組
成はコバルトの含有％で表すこととし、従つて、
45％のニツケルと55％のコバルトの合金組成の場
合にはEDNi・55Coとも表示する。所定の付着厚
さにわたりかなりの組成勾配が存在する場合で
も、組成はコバルト含有％で表示するものとす
る。従つて、50乃至55％の組成範囲のコバルトを
有する合金試料の場合にはEDNi・50／55Coと表
示する。
成はコバルトの含有％で表すこととし、従つて、
45％のニツケルと55％のコバルトの合金組成の場
合にはEDNi・55Coとも表示する。所定の付着厚
さにわたりかなりの組成勾配が存在する場合で
も、組成はコバルト含有％で表示するものとす
る。従つて、50乃至55％の組成範囲のコバルトを
有する合金試料の場合にはEDNi・50／55Coと表
示する。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであつ
て、上述したごとき従来技術の欠点を解消し、改
良した高強度電着ニツケル・コバルト合金の製造
方法であつて、特に均一な組成を有する高強度電
着ニツケル・コバルト合金の製造方法を提供する
ことを目的とする。
て、上述したごとき従来技術の欠点を解消し、改
良した高強度電着ニツケル・コバルト合金の製造
方法であつて、特に均一な組成を有する高強度電
着ニツケル・コバルト合金の製造方法を提供する
ことを目的とする。
本発明によれば、コバルト含有率が35％乃至65
％の範囲内である所望の組成を有する高強度電着
ニツケル・コバルト合金を製造する方法が提供さ
れる。所定のNi＋＋／Co＋＋の比を有する電解
液中にニツケルを収納した少なくとも１個の非反
応性バスケツトとコバルトを収納した少なくとも
１個の非反応性バスケツトを有する陽極及び陰極
基質を浸漬する。その状態で、ニツケル陽極から
第１電力源ないしは整流器を介して陰極基質へ電
流を通電し、一方コバルト陽極から第２電力源な
いしは整流器を介して陰極基質へ電流を通電し、
その場合に少なくとも陰極基質近傍の電解液を撹
拌する。本発明によれば、その場合の撹拌レベル
と電流密度との関係をgpm／ft2≧8.4×10-3asf2、
即ちリツトル／分／m2≧2.39×10-2（Amp／m2）2
の条件を維持すべく制御することを特徴としてい
る。この条件を維持することにより陰極表面にお
けるコバルトイオンの欠乏（所謂、陰極の飢え）
を防止することが可能であり、均一な組成を有す
る高強度電着ニツケル・コバルト合金を製造する
ことが可能である。更に、本発明によれば、電着
ニツケル・コバルト合金の製造において、電流密
度及び撹拌の独立変数を除去することが可能であ
り、従つてこれらの変数を独立的に制御すること
は必要ではなく、製造方法が簡単化される。
％の範囲内である所望の組成を有する高強度電着
ニツケル・コバルト合金を製造する方法が提供さ
れる。所定のNi＋＋／Co＋＋の比を有する電解
液中にニツケルを収納した少なくとも１個の非反
応性バスケツトとコバルトを収納した少なくとも
１個の非反応性バスケツトを有する陽極及び陰極
基質を浸漬する。その状態で、ニツケル陽極から
第１電力源ないしは整流器を介して陰極基質へ電
流を通電し、一方コバルト陽極から第２電力源な
いしは整流器を介して陰極基質へ電流を通電し、
その場合に少なくとも陰極基質近傍の電解液を撹
拌する。本発明によれば、その場合の撹拌レベル
と電流密度との関係をgpm／ft2≧8.4×10-3asf2、
即ちリツトル／分／m2≧2.39×10-2（Amp／m2）2
の条件を維持すべく制御することを特徴としてい
る。この条件を維持することにより陰極表面にお
けるコバルトイオンの欠乏（所謂、陰極の飢え）
を防止することが可能であり、均一な組成を有す
る高強度電着ニツケル・コバルト合金を製造する
ことが可能である。更に、本発明によれば、電着
ニツケル・コバルト合金の製造において、電流密
度及び撹拌の独立変数を除去することが可能であ
り、従つてこれらの変数を独立的に制御すること
は必要ではなく、製造方法が簡単化される。
以下、添付の図面を参考に、本発明の具体的実
施の態様について詳細に説明する。本発明は、高
強度ニツケル・コバルト合金の電着による製造方
法を提供している。基本的に、本発明方法を実施
する装置は、ニツケル・コバルト電解液を収容す
るタンクを有すると共に、電力源を介して陰極基
質に電気的に接続された陽極を有するものであ
る。本発明に使用する電解液は、例えば、ニツケ
ルのスルフオン酸塩、コバルトのスルフオン酸
塩、例えばホウ酸のごとき緩衝液、及び湿潤剤を
有している。注意すべきことは、本発明において
は、第１図に示した如く、究極的にEDNi・Coの
組成を決定するのは電解液内のNi＋＋とCo＋＋
との比であつて、電流密度や撹拌ではなく、又ニ
ツケルイオンやコバルトイオンがいかにして電解
液内に供給されるかということではないというこ
とである。従つて、EDNi・65Co合金はNi＋
＋／Co＋＋電解液の比が約10の点で得られ、
EDNi・45Co合金はNi＋＋／Co＋＋の電解液の
比が約30の点で得られる。明らかに、その他の合
金組成のものも電解液をその他のNi＋＋／Co＋
＋の比に選択することによつて得ることが可能な
ものである。
施の態様について詳細に説明する。本発明は、高
強度ニツケル・コバルト合金の電着による製造方
法を提供している。基本的に、本発明方法を実施
する装置は、ニツケル・コバルト電解液を収容す
るタンクを有すると共に、電力源を介して陰極基
質に電気的に接続された陽極を有するものであ
る。本発明に使用する電解液は、例えば、ニツケ
ルのスルフオン酸塩、コバルトのスルフオン酸
塩、例えばホウ酸のごとき緩衝液、及び湿潤剤を
有している。注意すべきことは、本発明において
は、第１図に示した如く、究極的にEDNi・Coの
組成を決定するのは電解液内のNi＋＋とCo＋＋
との比であつて、電流密度や撹拌ではなく、又ニ
ツケルイオンやコバルトイオンがいかにして電解
液内に供給されるかということではないというこ
とである。従つて、EDNi・65Co合金はNi＋
＋／Co＋＋電解液の比が約10の点で得られ、
EDNi・45Co合金はNi＋＋／Co＋＋の電解液の
比が約30の点で得られる。明らかに、その他の合
金組成のものも電解液をその他のNi＋＋／Co＋
＋の比に選択することによつて得ることが可能な
ものである。
陽極の目的は、電解液組成を一定に維持するこ
とである。本発明においては、好ましくはチタン
製の少なくとも２個の非反応性バスケツトを設
け、その一方のバスケツトが専らニツケル片を収
納しており、且つ他方のバスケツトは専らコバル
ト片を収納している。この様な陽極バスケツトを
一対設けることが望ましいが、本発明において
は、ニツケル片を収納した少なくとも１個のバス
ケツトとコバルト片を収納した少なくとも１個の
バスケツトを設ける構成とすることが可能であ
り、ニツケル片とコバルト片とを混ぜ合わせない
限り、任意の数の陽極バスケツトを使用すること
が可能である。本発明を実施する最も好適な構成
においては、電解液中に交互に二対の陽極バスケ
ツトを配設させ、最適な分散状態とさせるもので
ある。
とである。本発明においては、好ましくはチタン
製の少なくとも２個の非反応性バスケツトを設
け、その一方のバスケツトが専らニツケル片を収
納しており、且つ他方のバスケツトは専らコバル
ト片を収納している。この様な陽極バスケツトを
一対設けることが望ましいが、本発明において
は、ニツケル片を収納した少なくとも１個のバス
ケツトとコバルト片を収納した少なくとも１個の
バスケツトを設ける構成とすることが可能であ
り、ニツケル片とコバルト片とを混ぜ合わせない
限り、任意の数の陽極バスケツトを使用すること
が可能である。本発明を実施する最も好適な構成
においては、電解液中に交互に二対の陽極バスケ
ツトを配設させ、最適な分散状態とさせるもので
ある。
本発明においては、陽極バスケツトは独立した
従来の電力源ないしは整流器を介して陰極基質に
接続されており、第１の電力源はニツケル片用の
バスケツトに対するものであり、且つ第２の電力
源はコバルト片用のバスケツトに対するものであ
る。この様に電気回路を構成することにより、電
解液組成を制御することが可能である。従つて、
電解液組成を変えたい場合には、所望のNi＋
＋／Co＋＋の比になるまで夫々の陽極電流を調
節すれば良い。尚、この場合に、電解液中に溶解
するNi＋＋イオン及びCo＋＋イオンの比は、
夫々の電極により別々に制御される。定常状態に
おいて、電解液中に溶解するNi＋＋イオン及び
Co＋＋イオンの比は、電着により電解液から喪
失されるそれらのイオンの比と等しくなければな
らない。従つて、50Ni50Coの付着組成が所望さ
れる場合には、陽極用の両方の電力源ないしは整
流器が同一の電流を供給するように設定されねば
ならない。一方、75Ni25Co付着組成が所望され
る場合には、全電流が100Aである場合に、定常
状態において、Ni用の電力源ないしは整流器は
75Aの電流を供給すべく設定され一方Co用の電
力源ないしは整流器は25Aの電流を供給すべく設
定されねばならない。
従来の電力源ないしは整流器を介して陰極基質に
接続されており、第１の電力源はニツケル片用の
バスケツトに対するものであり、且つ第２の電力
源はコバルト片用のバスケツトに対するものであ
る。この様に電気回路を構成することにより、電
解液組成を制御することが可能である。従つて、
電解液組成を変えたい場合には、所望のNi＋
＋／Co＋＋の比になるまで夫々の陽極電流を調
節すれば良い。尚、この場合に、電解液中に溶解
するNi＋＋イオン及びCo＋＋イオンの比は、
夫々の電極により別々に制御される。定常状態に
おいて、電解液中に溶解するNi＋＋イオン及び
Co＋＋イオンの比は、電着により電解液から喪
失されるそれらのイオンの比と等しくなければな
らない。従つて、50Ni50Coの付着組成が所望さ
れる場合には、陽極用の両方の電力源ないしは整
流器が同一の電流を供給するように設定されねば
ならない。一方、75Ni25Co付着組成が所望され
る場合には、全電流が100Aである場合に、定常
状態において、Ni用の電力源ないしは整流器は
75Aの電流を供給すべく設定され一方Co用の電
力源ないしは整流器は25Aの電流を供給すべく設
定されねばならない。
上述した本発明方法を実施する装置構成におい
ては、更に、陰極基質の近傍に電解液を撹拌する
手段が設けられている。尚、撹拌は、従来、ニツ
ケル・コバルト合金の電着による製造方法におい
ては、独立変数として考えられていたものである
が、本発明者による鋭意研究の結果、ある最小の
体積流量に到着する迄は電流密度にのみ依存する
ものであることが解明された。ここにおいては、
陰極飢え現象を防止するために必要な最小の体積
流量のことを「陰極飢え撹拌レベル」と呼称する
こととする。この最小の電解液流量に到達する
と、陰極飢え現象は除去され、従来独立変数とし
て考えられていた撹拌は、もはや、独立変数とし
て取り扱う必要性はなくなる。同様に、このこと
は、合金組成を変化させることなしに、電流密度
を変化させて電着速度を制御することを可能とす
る。第２図に示した如く、電流密度が増加する
と、陰極飢え現象を防止するのに必要な流量即ち
撹拌も同様に増加する。従つて、処理中に陰極飢
え現象が発生していることを知得した場合には、
撹拌を増加させるか、又は電流密度を減少させれ
ば良い。
ては、更に、陰極基質の近傍に電解液を撹拌する
手段が設けられている。尚、撹拌は、従来、ニツ
ケル・コバルト合金の電着による製造方法におい
ては、独立変数として考えられていたものである
が、本発明者による鋭意研究の結果、ある最小の
体積流量に到着する迄は電流密度にのみ依存する
ものであることが解明された。ここにおいては、
陰極飢え現象を防止するために必要な最小の体積
流量のことを「陰極飢え撹拌レベル」と呼称する
こととする。この最小の電解液流量に到達する
と、陰極飢え現象は除去され、従来独立変数とし
て考えられていた撹拌は、もはや、独立変数とし
て取り扱う必要性はなくなる。同様に、このこと
は、合金組成を変化させることなしに、電流密度
を変化させて電着速度を制御することを可能とす
る。第２図に示した如く、電流密度が増加する
と、陰極飢え現象を防止するのに必要な流量即ち
撹拌も同様に増加する。従つて、処理中に陰極飢
え現象が発生していることを知得した場合には、
撹拌を増加させるか、又は電流密度を減少させれ
ば良い。
本発明方法により製造される高強度ニツケル・
コバルト合金は、約35％乃至約65％コバルト含有
率の組成を有している。この範囲内のコバルト含
有率においては、電着ニツケル・コバルト合金の
グレイン寸法は極めて小さいままであり、従つて
その結果得られる物質は所望の物理特性を発揮す
ることが可能である。約35％から約65％の範囲内
のコバルト含有率を有するものは良好なグレイン
寸法を持つた高強度合金を与えるものではある
が、コバルト含有率の好適な範囲は約40％乃至約
55％の範囲である。
コバルト合金は、約35％乃至約65％コバルト含有
率の組成を有している。この範囲内のコバルト含
有率においては、電着ニツケル・コバルト合金の
グレイン寸法は極めて小さいままであり、従つて
その結果得られる物質は所望の物理特性を発揮す
ることが可能である。約35％から約65％の範囲内
のコバルト含有率を有するものは良好なグレイン
寸法を持つた高強度合金を与えるものではある
が、コバルト含有率の好適な範囲は約40％乃至約
55％の範囲である。
次の具体例に本発明を限定するわけではない
が、本発明の具体例として参考に説明すると、
EDNi・65Coは、電解液のNi＋＋／Co＋＋の比
を約10に維持し、電流密度を約40Amp／ft2（＝
430Amp／m2）に設定し、且つ陰極表面での撹拌
を約13.5ｇmp／ft2（＝550リツトル／分／m2）と
した場合に得られる。
が、本発明の具体例として参考に説明すると、
EDNi・65Coは、電解液のNi＋＋／Co＋＋の比
を約10に維持し、電流密度を約40Amp／ft2（＝
430Amp／m2）に設定し、且つ陰極表面での撹拌
を約13.5ｇmp／ft2（＝550リツトル／分／m2）と
した場合に得られる。
第２図は、電解液のNi＋＋／Co＋＋の比を10
に設定した場合の電流密度と陰極でのCo＋＋の
欠乏（陰極飢え現象）を防止するのに必要な電解
液の流れとの関係を表した直線を示している。実
験結果から分かることであるが、種々のNi＋
＋／Co＋＋の比に対して１組の第２図に示した
様な直線を得ることが可能である。この様な場合
に、電解液のNi＋＋／Co＋＋の比が増加すると、
電解液から電着されるコバルトの量が減少する。
尚、第２図における縦軸の単位は、単位面積当た
りの単位時間当たりの電解液の流量の平方根であ
り、この様に、電流密度が増加する場合にNi＋
＋イオン及びCo＋＋イオンに対する要求が増加
され、その様な要求を充足するために必要とされ
る電解液の流速がこの様な平方根関係式で表され
ることは、流体力学考察から予測されることと一
致する。
に設定した場合の電流密度と陰極でのCo＋＋の
欠乏（陰極飢え現象）を防止するのに必要な電解
液の流れとの関係を表した直線を示している。実
験結果から分かることであるが、種々のNi＋
＋／Co＋＋の比に対して１組の第２図に示した
様な直線を得ることが可能である。この様な場合
に、電解液のNi＋＋／Co＋＋の比が増加すると、
電解液から電着されるコバルトの量が減少する。
尚、第２図における縦軸の単位は、単位面積当た
りの単位時間当たりの電解液の流量の平方根であ
り、この様に、電流密度が増加する場合にNi＋
＋イオン及びCo＋＋イオンに対する要求が増加
され、その様な要求を充足するために必要とされ
る電解液の流速がこの様な平方根関係式で表され
ることは、流体力学考察から予測されることと一
致する。
以上詳説した如く、本発明によれば、高信頼性
をもつて且つ確実に所望の設定したニツケル・コ
バルト組成を有し且つ一様な組成を有するニツケ
ル・コバルト合金を電着させることが可能であ
る。更に、電着速度の電流密度のみによつて制御
することが可能であるから、制御が極めて容易と
なる。更に、撹拌レベルは常時最小値に設定する
ことが可能であるから、無駄な電力消費を回避す
ることも可能である。又、本発明の陰極飢え撹拌
レベル条件を充足するように撹拌レベルを維持す
る限り、所望の合金組成を変化させずに電流密度
を変化させて電着速度を制御することを可能とし
ている。
をもつて且つ確実に所望の設定したニツケル・コ
バルト組成を有し且つ一様な組成を有するニツケ
ル・コバルト合金を電着させることが可能であ
る。更に、電着速度の電流密度のみによつて制御
することが可能であるから、制御が極めて容易と
なる。更に、撹拌レベルは常時最小値に設定する
ことが可能であるから、無駄な電力消費を回避す
ることも可能である。又、本発明の陰極飢え撹拌
レベル条件を充足するように撹拌レベルを維持す
る限り、所望の合金組成を変化させずに電流密度
を変化させて電着速度を制御することを可能とし
ている。
以上、本発明の具体的実施の態様について詳細
に説明したが、本発明はこれらの特定の具体的実
施例に限定されるべきものではなく、特許請求の
範囲の記載に基づく技術的範囲を逸脱することな
しに種々の変形例が可能であることは勿論であ
る。
に説明したが、本発明はこれらの特定の具体的実
施例に限定されるべきものではなく、特許請求の
範囲の記載に基づく技術的範囲を逸脱することな
しに種々の変形例が可能であることは勿論であ
る。
第１図は電解液のNiとCoとの比と付着物内の
Co含有％との関係を表したグラフ図、第２図は
ASF単位で表した電流密度と陰極でのCo＋＋欠
乏を防止するのに必要な電解液流量との関係を表
したグラフ図、である。
Co含有％との関係を表したグラフ図、第２図は
ASF単位で表した電流密度と陰極でのCo＋＋欠
乏を防止するのに必要な電解液流量との関係を表
したグラフ図、である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ コバルト含有率が35％乃至65％の範囲内であ
る所望の組成を有する高強度電着ニツケル・コバ
ルト合金の製造方法において、所定のNi＋＋／
Co＋＋の比を有する電解液中にニツケルを収納
した少なくとも１個の非反応性バスケツトとコバ
ルトを収納した少なくとも１個の非反応性バスケ
ツトを有する陽極及び陰極基質を浸漬し、前記ニ
ツケル陽極から第１電力源ないしは整流器を介し
て前記陰極基質へ電流を通電し、前記コバルト陽
極から第２電力源ないしは整流器を介して前記陰
極基質へ電流を通電し、少なくとも前記陰極基質
近傍の電解液を撹拌し、その撹拌レベルと電流密
度との関係をgpm／ft2≧8.4×10-3asf2、即ちリ
ツトル／分／m2≧2.39×10-2（Amp／m2）2の条件
を維持すべく制御することを特徴とする高強度電
着ニツケル・コバルト合金の製造方法。 ２ 特許請求の範囲第１項において、前記電着ニ
ツケル・コバルトは40％乃至55％のコバルト含有
率を有することを特徴とする高強度電着ニツケ
ル・コバルト合金の製造方法。 ３ 特許請求の範囲第２項において、前記電着ニ
ツケル・コバルトは45％乃至55％のコバルト含有
率を有することを特徴とする高強度電着ニツケ
ル・コバルト合金の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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