JPH04245461A - Glass sealed semiconductor package - Google Patents
Glass sealed semiconductor packageInfo
- Publication number
- JPH04245461A JPH04245461A JP988991A JP988991A JPH04245461A JP H04245461 A JPH04245461 A JP H04245461A JP 988991 A JP988991 A JP 988991A JP 988991 A JP988991 A JP 988991A JP H04245461 A JPH04245461 A JP H04245461A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass layer
- melting point
- base
- point glass
- lid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明はガラス封止型半導体パッ
ケージに係り、特に、半導体チップを収容したセラミッ
ク製のベースにセラミック製のリッドを被覆し、両者間
をガラスの融着によって封止したガラス封止型半導体パ
ッケージに関する。[Industrial Application Field] The present invention relates to a glass-sealed semiconductor package, and more particularly, a ceramic base containing a semiconductor chip is covered with a ceramic lid, and the space between the two is sealed by glass fusing. This invention relates to a glass-sealed semiconductor package.
【0002】0002
【従来の技術】図3は、従来のガラス封止型半導体パッ
ケージを示したもので、セラミック製のベース1の外周
囲には低融点ガラス層2がプリントされ、この低融点ガ
ラス層2にはリードフレーム3が融着されている。セラ
ミック製のベース1の中央部にはICチップ4が収容さ
れ、このICチップ4とリードフレーム3とはボンディ
ングワイヤ5によってボンディングされている。セラミ
ック製のリッド6には外周囲に低融点ガラス層7がプリ
ントされている。これらのセラミック製ベース1とセラ
ミック製リッド6は、低融点ガラス層2と7とを圧接し
た状態でシール炉内で加熱され、低融点ガラス層2と7
の融着により封止される。2. Description of the Related Art FIG. 3 shows a conventional glass-sealed semiconductor package, in which a low melting point glass layer 2 is printed around the outer periphery of a ceramic base 1. A lead frame 3 is fused. An IC chip 4 is housed in the center of the ceramic base 1, and the IC chip 4 and the lead frame 3 are bonded to each other by bonding wires 5. A low melting point glass layer 7 is printed on the outer periphery of the ceramic lid 6. These ceramic base 1 and ceramic lid 6 are heated in a sealing furnace with the low melting point glass layers 2 and 7 pressed together, and the low melting point glass layers 2 and 7 are heated in a sealing furnace.
It is sealed by fusion bonding.
【0003】0003
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来のガラス封止型半導体パッケージの低融点ガラス層2
は、リードフレーム3の固定とパッケージのシールとの
両方の機能を達成する必要があるため、比較的厚くする
必要があるため、プリントが均一でなくその表面の平坦
性が悪い。また、低融点ガラス層2と7の融着時にボン
ディングペーストからガスが比較的多量に発生してパッ
ケージ内が高圧になりがちである。このような低融点ガ
ラス層2のプリントの不均一性及びボンディングペース
トからのガスの多量発生のために、従来のガラス封止型
半導体パッケージはシール後に、図4に示したようにシ
ール部に内部ヒケ8や内部空隙、即ち内部ボイド9が発
生し易く、シール不良が多発するという問題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, the low melting point glass layer 2 of the conventional glass-sealed semiconductor package described above
Since it is necessary to achieve both the functions of fixing the lead frame 3 and sealing the package, it is necessary to make it relatively thick, resulting in uneven printing and poor surface flatness. Further, when the low melting point glass layers 2 and 7 are fused together, a relatively large amount of gas is generated from the bonding paste, which tends to create high pressure inside the package. Due to the non-uniformity of the printing of the low melting point glass layer 2 and the generation of a large amount of gas from the bonding paste, conventional glass-sealed semiconductor packages have internal parts inside the sealing area after sealing, as shown in FIG. There was a problem in that sink marks 8 and internal voids, that is, internal voids 9, were likely to occur, resulting in frequent seal failures.
【0004】更に、低融点ガラス層2は上述のように比
較的厚いため、パッケージのシール時における低融点ガ
ラス層2と7との加熱及び圧接によって溶融状態の低融
点ガラス2と7が流動し、これによってリードフレーム
3が変位・変形してしまい、ボンディングワイヤ5に悪
影響を及ぼすといった問題もある。Furthermore, since the low melting point glass layer 2 is relatively thick as mentioned above, the low melting point glasses 2 and 7 in a molten state flow due to heating and pressure contact between the low melting point glass layers 2 and 7 during package sealing. This also causes the problem that the lead frame 3 is displaced and deformed, which adversely affects the bonding wire 5.
【0005】そこで、本発明の目的はシール不良を防止
することができ、かつ低融点ガラス層の溶融時のリード
フレームの変位・変形を防止することができるガラス封
止型半導体パッケージを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a glass-sealed semiconductor package that can prevent sealing defects and also prevent displacement and deformation of a lead frame when a low melting point glass layer melts. It is in.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明によるガラス封止型半導体パッケージは、セ
ラミック製のベースと、このセラミック製ベースの外周
囲に、上記セラミック製ベースの中央部を取囲むように
輪帯状に積層されたベース側高融点ガラス層と、このベ
ース側高融点ガラス層の上に接合されたリードフレーム
と、このリードフレームが接合された上記ベース側高融
点ガラス層の一部に、上記セラミック製ベースの中央部
を取囲むように輪帯状に積層されたベース側低融点ガラ
ス層と、上記セラミック製ベースに被覆されたセラミッ
ク製のリッドと、このセラミック製リッドの外周囲に輪
帯状に積層され上記ベース側低融点ガラス層に融着され
たリッド側低融点ガラス層とを具備したものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve this object, a glass-sealed semiconductor package according to the present invention includes a ceramic base, a central portion of the ceramic base, and a ceramic base. a base-side high-melting-point glass layer laminated in an annular shape surrounding the base-side high-melting-point glass layer, a lead frame bonded onto the base-side high-melting-point glass layer, and the base-side high-melting point glass layer to which the lead frame is bonded. , a base-side low-melting glass layer laminated in an annular shape surrounding the center of the ceramic base, a ceramic lid covered with the ceramic base, and a ceramic lid that covers the ceramic base. The lid side low melting point glass layer is laminated in an annular shape around the outer periphery and is fused to the base side low melting point glass layer.
【0007】なお、上記構成のうち、望ましい態様は次
の通りである。上記セラミック製リッドと上記リッド側
低融点ガラス層との間にリッド側高融点ガラス層が介在
積層されている。上記ベース側低融点ガラス層は、上記
リードフレームにボンディングされたボンディングワイ
ヤに接触しないように、上記ベース側高融点ガラス層の
少なくとも内周部を除いた部分に積層されている。[0007] Among the above configurations, desirable aspects are as follows. A lid side high melting point glass layer is interposed and laminated between the ceramic lid and the lid side low melting point glass layer. The base-side low-melting point glass layer is laminated on at least a portion of the base-side high-melting point glass layer excluding an inner peripheral portion so as not to contact the bonding wire bonded to the lead frame.
【0008】[0008]
【作用】セラミック製ベース上のガラス層はベース側高
融点ガラス層とベース側低融点ガラス層とから構成され
ている。このベース側高融点ガラス層はリードフレーム
を固定する役割を果たし、他方、ベース側低融点ガラス
層はリッド側低融点ガラス層と共にシールの役割を果し
ている。このようにセラミック製ベース側のガラス層を
二層構造にすることによってベース側低融点ガラス層を
比較的薄くすることができ、その平坦性が良くなる。[Operation] The glass layer on the ceramic base is composed of a base side high melting point glass layer and a base side low melting point glass layer. This base side high melting point glass layer plays a role of fixing the lead frame, while the base side low melting point glass layer plays a sealing role together with the lid side low melting point glass layer. By forming the glass layer on the ceramic base side into a two-layer structure in this way, the base-side low melting point glass layer can be made relatively thin and its flatness can be improved.
【0009】また、ベース側低融点ガラス層はベース側
高融点ガラス層の一部にのみ積層され、従来に比べて積
層領域を小さくできるため、ボンディングペーストから
発生するガスによる内圧上昇に起因する内部ヒケの発生
が少なくなる。ベース側低融点ガラス層は比較的薄くで
きるためパッケージのシール時に加熱及び加圧されても
流動性が少なく、かつまたベース側高融点ガラス層がリ
ードフレームを固定しているため、ベース側及びリッド
側低融点ガラス層の融着シール時に発生しがちであった
リードフレームの変位や変形が抑制される。Furthermore, the base-side low-melting point glass layer is laminated only on a part of the base-side high-melting point glass layer, and the laminated area can be made smaller than in the past. The occurrence of sink marks is reduced. The base-side low-melting glass layer can be made relatively thin, so it has little fluidity even when heated and pressurized during package sealing, and since the base-side high-melting glass layer fixes the lead frame, the base side and lid Displacement and deformation of the lead frame, which tends to occur when the side low melting point glass layer is fused and sealed, is suppressed.
【0010】0010
【実施例】以下に本発明によるガラス封止型半導体パッ
ケージの一実施例を図3及び図4と同部分には同一符号
を付して示した図1及び図2を参照して説明する。図1
において、セラミック製のベース1の外周囲にはベース
側高融点ガラス層10がプリントされ、このベース側高
融点ガラス層10には炉通しによってリードフレーム3
が融着される。セラミック製ベース1の中央部にはIC
チップ4が収容され、このICチップ4とリードフレー
ム3とはボンディングワイヤ5によってボンディングさ
れている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a glass-sealed semiconductor package according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2, in which the same parts as in FIGS. 3 and 4 are denoted by the same reference numerals. Figure 1
A base-side high melting point glass layer 10 is printed on the outer periphery of a ceramic base 1, and a lead frame 3 is attached to this base-side high melting point glass layer 10 by passing through a furnace.
are fused. There is an IC in the center of the ceramic base 1.
A chip 4 is accommodated therein, and this IC chip 4 and lead frame 3 are bonded together by bonding wires 5.
【0011】リードフレーム3が融着されたベース側高
融点ガラス層10にはベース側低融点ガラス層11がプ
リントされ、このベース側低融点ガラス層11のプリン
トは、ベース側高融点ガラス層10の外周部側に行われ
る、具体的にはベース側低融点ガラス層11がリードフ
レーム3とボンディングワイヤ5とのボンディング部に
接触しないように、ベース側高融点ガラス層10の内周
部を除いた領域に行われる。A base-side low-melting-point glass layer 11 is printed on the base-side high-melting-point glass layer 10 to which the lead frame 3 is fused. Specifically, in order to prevent the base-side low-melting glass layer 11 from coming into contact with the bonding portion between the lead frame 3 and the bonding wire 5, the base-side high-melting-point glass layer 10 is removed except for the inner peripheral portion thereof. It is done in the area where the
【0012】セラミック製のリッド6には外周囲にリッ
ド側高融点ガラス層12がプリントされ、このリッド側
高融点ガラス層12にはリッド側低融点ガラス層13が
プリントされる。なお、ベース側及びリッド側低融点ガ
ラス層11、13の厚さは、従来の図3の低融点ガラス
層2、7よりも充分薄く定められおり、プリント後のツ
ール炉通しの際に低融点ガラス11、13が高融点ガラ
ス層10、12の表面の凹凸を埋めて自身の表面の平坦
性を良好にすることができる。A lid side high melting point glass layer 12 is printed on the outer periphery of the ceramic lid 6, and a lid side low melting point glass layer 13 is printed on this lid side high melting point glass layer 12. The thickness of the base side and lid side low melting point glass layers 11 and 13 is determined to be sufficiently thinner than the conventional low melting point glass layers 2 and 7 shown in FIG. The glasses 11 and 13 can fill in the irregularities on the surfaces of the high melting point glass layers 10 and 12, thereby improving the flatness of their own surfaces.
【0013】これらのセラミック製ベース1とセラミッ
ク製リッド6は、図2に示されたようにベース側及びリ
ッド側低融点ガラス層11と13とを圧接した状態でシ
ール炉内で加熱され、両低融点ガラス層11と13の融
着により封止される。この時、ベース側及びリッド側低
融点ガラス層11、13の表面は夫々良好な平坦性を有
しているため、シール部における内部巣の発生が大幅に
抑制される。また、シール時に溶融されるベース側低融
点ガラス層11の積層領域は従来に比べて小さいため、
ボンディングペーストの分解ガスによる内圧上昇に起因
する内部ヒケの発生も充分に抑えられる。更に、ベース
側及びリッド側低融点ガラス層11と13は比較的薄く
かつ積層領域が小さいのでシール時の加熱及び加圧を受
けても流動性が小さく、かつまたベース側高融点ガラス
層10がリードフレーム3を固定しているため、上記シ
ール時の加熱及び加圧によるリードフレーム3の変位・
変形を充分小さく抑えることができる。These ceramic base 1 and ceramic lid 6 are heated in a sealed furnace with the base side and lid side low melting point glass layers 11 and 13 pressed together, as shown in FIG. The low melting point glass layers 11 and 13 are fused together for sealing. At this time, since the surfaces of the base-side and lid-side low-melting glass layers 11 and 13 each have good flatness, the occurrence of internal cavities in the seal portion is greatly suppressed. In addition, since the laminated area of the base-side low melting point glass layer 11 that is melted during sealing is smaller than in the past,
The occurrence of internal sink marks due to an increase in internal pressure due to decomposition gas of the bonding paste is also sufficiently suppressed. Furthermore, since the base side and lid side low melting point glass layers 11 and 13 are relatively thin and have a small laminated area, their fluidity is low even when subjected to heat and pressure during sealing. Since the lead frame 3 is fixed, there is no possibility of displacement of the lead frame 3 due to the heating and pressurization during the sealing process.
Deformation can be kept sufficiently small.
【0014】[0014]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によるガラス封止型半導体パッケージは、セラミック製
のベースと、このセラミック製ベースの外周囲に、上記
セラミック製ベースの中央部を取囲むように輪帯状に積
層されたベース側高融点ガラス層と、このベース側高融
点ガラス層の上に接合されたリードフレームと、このリ
ードフレームが接合された上記ベース側高融点ガラス層
の一部に、上記セラミック製ベースの中央部を取囲むよ
うに輪帯状に積層されたベース側低融点ガラス層と、上
記セラミック製ベースに被覆されたセラミック製のリッ
ドと、このセラミック製リッドの外周囲に輪帯状に積層
され上記ベース側低融点ガラス層に融着されたリッド側
低融点ガラス層とを具備したものであるため、ベース側
低融点ガラス層が比較的薄くかつその積層領域を小さく
することができ、シール部の内部ヒケや内部ボイドの発
生を抑制することができ、良好なシール性を得ることが
できる。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, the glass-sealed semiconductor package according to the present invention includes a ceramic base, an outer periphery of the ceramic base, and a central portion of the ceramic base that surrounds the ceramic base. A base-side high melting point glass layer laminated in an annular shape as shown in FIG. a base-side low melting point glass layer laminated in an annular shape surrounding the center of the ceramic base, a ceramic lid covered with the ceramic base, and a ceramic lid around the outer periphery of the ceramic lid. Since the lid side low melting point glass layer is laminated in an annular shape and is fused to the base side low melting point glass layer, the base side low melting point glass layer is relatively thin and its laminated area is made small. This makes it possible to suppress the occurrence of internal sink marks and internal voids in the sealing part, and to obtain good sealing performance.
【0015】更に、リードフレームがベース側高融点ガ
ラス層の上に接合され、かつベース側低融点ガラス層を
比較的薄くすることができるため、ベース側低融点ガラ
ス層とベース側低融点ガラス層との融着シール時に発生
しがちなリードフレームの変位や変形を充分に小さくす
ることができる。Furthermore, since the lead frame is bonded onto the base side high melting point glass layer and the base side low melting point glass layer can be made relatively thin, the base side low melting point glass layer and the base side low melting point glass layer are bonded to each other. Displacement and deformation of the lead frame that tends to occur during fusion sealing with the lead frame can be sufficiently reduced.
【図1】本発明によるガラス封止型半導体パッケージの
一実施例を示した断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a glass-sealed semiconductor package according to the present invention.
【図2】上記実施例のシール状態を示した断面図。FIG. 2 is a sectional view showing the sealed state of the above embodiment.
【図3】従来のガラス封止型半導体パッケージを示した
断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a conventional glass-sealed semiconductor package.
【図4】従来のガラス封止型半導体パッケージを示した
平面図。FIG. 4 is a plan view showing a conventional glass-sealed semiconductor package.
1 セラミック製のベース 3 リードフレーム 6 セラミック製のリッド 10 ベース側高融点ガラス層 11 ベース側低融点ガラス層 12 リッド側高融点ガラス層 13 リッド側低融点ガラス層 1 Ceramic base 3 Lead frame 6 Ceramic lid 10 Base side high melting point glass layer 11 Base side low melting point glass layer 12 Lid side high melting point glass layer 13 Lid side low melting point glass layer
Claims (3)
製ベースの外周囲に、上記セラミック製ベースの中央部
を取囲むように輪帯状に積層されたベース側高融点ガラ
ス層と、このベース側高融点ガラス層の上に接合された
リードフレームと、このリードフレームが接合された上
記ベース側高融点ガラス層の一部に、上記セラミック製
ベースの中央部を取囲むように輪帯状に積層されたベー
ス側低融点ガラス層と、上記セラミック製ベースに被覆
されたセラミック製のリッドと、このセラミック製リッ
ドの外周囲に輪帯状に積層され上記ベース側低融点ガラ
ス層に融着されたリッド側低融点ガラス層とを具備する
ことを特徴とするガラス封止型半導体パッケージ。1. A ceramic base; a base-side high melting point glass layer laminated around the outer periphery of the ceramic base in an annular shape so as to surround the center portion of the ceramic base; A lead frame bonded onto the melting point glass layer and a part of the base side high melting point glass layer to which this lead frame is bonded are laminated in an annular shape so as to surround the central portion of the ceramic base. A base-side low-melting glass layer, a ceramic lid covered with the ceramic base, and a lid-side low-melting glass layer laminated in an annular shape around the outer periphery of the ceramic lid and fused to the base-side low melting glass layer. A glass-sealed semiconductor package characterized by comprising a melting point glass layer.
融点ガラス層との間にリッド側高融点ガラス層が介在積
層されていることを特徴とする請求項1に記載のガラス
封止型半導体パッケージ。2. The glass-sealed semiconductor package according to claim 1, wherein a lid side high melting point glass layer is interposed and laminated between the ceramic lid and the lid side low melting point glass layer. .
ドフレームにボンディングされたボンディングワイヤに
接触しないように、上記ベース側高融点ガラス層の少な
くとも内周部を除いた部分に積層されていることを特徴
とする請求項1に記載のガラス封止型半導体パッケージ
。3. The base-side low-melting point glass layer is laminated on at least a portion of the base-side high-melting point glass layer excluding an inner peripheral portion so as not to contact the bonding wire bonded to the lead frame. The glass-sealed semiconductor package according to claim 1, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP988991A JPH04245461A (en) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | Glass sealed semiconductor package |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP988991A JPH04245461A (en) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | Glass sealed semiconductor package |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04245461A true JPH04245461A (en) | 1992-09-02 |
Family
ID=11732710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP988991A Pending JPH04245461A (en) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | Glass sealed semiconductor package |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04245461A (en) |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP988991A patent/JPH04245461A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4697203A (en) | Semiconductor device and manufacturing method therefor | |
| JP4385062B2 (en) | Infrared detector manufacturing method | |
| CN105281706A (en) | Surface acoustic wave filter encapsulation structure and manufacturing method | |
| JP2013171907A (en) | Electronic device encapsulation method and electronic device | |
| JP2006145610A (en) | Optical component storage package | |
| JPS5992552A (en) | semiconductor equipment | |
| JPH01244651A (en) | Ceramic package type semiconductor device | |
| JPH0342699B2 (en) | ||
| JPH04129253A (en) | Semiconductor package | |
| JP2823063B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| JP3374395B2 (en) | Package for electronic components | |
| JPS6222456B2 (en) | ||
| JPS5917270A (en) | Semiconductor device | |
| JP2818506B2 (en) | Manufacturing method of electronic component storage package | |
| JPH03108361A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
| KR930006591B1 (en) | Low melting point glass sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JP2531445B2 (en) | Glass-sealed IC package | |
| JP2522165B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPS595635A (en) | Semiconductor device and manufacture thereof | |
| JP2810551B2 (en) | Semiconductor package | |
| JPS607751A (en) | Semiconductor device | |
| JPS635251Y2 (en) | ||
| US5237206A (en) | Low-melting point glass sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JPS63275147A (en) | Manufacture of hermetically sealed type semiconductor device | |
| JP3060645B2 (en) | Chip-in-glass type fluorescent display panel |