JPH04249343A - 基板分断方法 - Google Patents

基板分断方法

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JPH04249343A
JPH04249343A JP3014218A JP1421891A JPH04249343A JP H04249343 A JPH04249343 A JP H04249343A JP 3014218 A JP3014218 A JP 3014218A JP 1421891 A JP1421891 A JP 1421891A JP H04249343 A JPH04249343 A JP H04249343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
adhesive
sheet
adhesive sheet
dicing
Prior art date
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Pending
Application number
JP3014218A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshichika Teraoka
寺岡 義親
Masahiro Ikehara
正博 池原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP3014218A priority Critical patent/JPH04249343A/ja
Publication of JPH04249343A publication Critical patent/JPH04249343A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は基板分断方法に関し、
より詳しくは、半導体またはガラス等からなる基板をダ
イシングして分断する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程においては、素子を作り
込んだ半導体基板やホログラムを形成したガラス基板(
以下、単に「基板」という。)を分断してチップ化する
ことが多い。従来の基板分断方法は、例えば図2(a)
に示すように、まず紫外線硬化型粘着剤(樹脂)が塗布
されてなる粘着シート(以下「UVシート」という。)
1に(粘着面1aに)分断すべき基板2を当接して貼り
着ける。次に上記UVシート1に紫外線を照射すること
なく、粘着性が高い状態のまま上記基板2(およびUV
シート1)をダイシング装置にセットする。そして、図
2(b)に示すように、回転ブレード3を用いて、基板
2の表面2a側から切断すべき所定の箇所(以下「ダイ
シングライン」という。)2dをダイシング(フルダイ
シング)する。これにより、所定の大きさのチップ4を
形成する。なお、切り残しが生じないように、UVシー
ト1を所定の深さまで切り込むようにしている。次に、
図2(c)に示すように、上記UVシート1の上記基板
2に貼着している領域全体に紫外線UVを照射して、U
Vシート1の粘着性を低下させる。この後、図示しない
吸着コレットによって、形成したチップ4を個々に吸い
上げてUVシート1から取り外す。このように、従来の
基板分断方法は、基板2をダイシングする時はUVシー
ト1を粘着性が高い状態に維持してチップ4が脱落する
のを防止する一方、形成したチップ4を取り外す時はU
Vシート1を粘着性が低い状態に変化させてチップ4を
容易に取り外せるようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、基板2をフ
ルダイシングする時には、切り込んだUVシート1の粘
着剤が回転ブレード3によって巻き上げられる。従来の
基板分断方法は、ダイシング時にUVシート1を粘着性
が高い状態に維持しているため、粘着性が高いままの粘
着剤が巻き上げられる。このため、粘着剤が基板2の表
面2aまたは形成したチップ4の表面4aに付着して、
作製すべき素子や部品の品質,特性,歩留に悪影響を及
ぼすという問題があった。
【0004】そこで、この発明の目的は、作製すべき素
子や部品の品質,特性,歩留に悪影響を及ぼすことなく
基板を分断できる基板分断方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の基板分断方法は、紫外線硬化型粘着剤が
塗布されてなる粘着シートの粘着面に、分断すべき基板
を当接して貼り着ける工程と、上記粘着シートの上記粘
着面と反対側の面に所定のパターンを有するマスクを上
記基板に粘着シートを介して重ねて当接し、上記粘着シ
ートのうち上記基板のダイシングラインに貼着している
領域に上記マスクを通して紫外線を照射して、上記領域
の粘着剤を硬化させて粘着性を低下させる一方、上記粘
着シートのうち上記基板に貼着している残りの領域の粘
着性を維持する工程と、上記基板の上記ダイシングライ
ンを上記基板側から上記粘着シートの上記粘着面に至る
までダイシングする工程と、上記粘着シートの上記基板
に貼着している領域全体に紫外線を照射して、この領域
全体の粘着性を低下させる工程とを有することを特徴と
している。
【0006】
【作用】ダイシング時は、UVシートのうち基板のダイ
シングラインに貼着している領域の粘着剤が硬化され、
上記領域の粘着性が低くなっている。したがって、回転
ブレードによってダイシングラインに貼着している上記
領域の粘着剤が巻き上げられたとしても、この巻上げら
れた粘着剤が上記基板または形成されたチップの表面に
付着することはない。しかも、上記UVシートのうち上
記基板に貼着している残りの領域は粘着性が高いままに
維持されている。したがって、形成されたチップがダイ
シングすることによって上記UVシートから脱落するこ
ともない。
【0007】なお、上記形成されたチップは、上記UV
シートの上記基板に貼着している領域全体に紫外線を照
射して上記領域全体の粘着性を低下させた後に、容易に
取り外される。
【0008】
【実施例】以下、この発明の基板分断方法を実施例によ
り詳細に説明する。
【0009】■まず、図1(a)に示すように、紫外線
硬化型粘着剤が塗布されてなるUVシート1の粘着面1
aに、分断すべき基板2を当接して貼り着ける。
【0010】■次に、図1(b)に示すように、上記U
Vシート1の上記粘着面1aと反対側の面1bに、上記
基板1のダイシングライン2dのパターンを有するマス
クMを上記基板1にUVシート1を介して重ねて当接す
る。 この状態で、UVシート1のうち上記ダイシングライン
2dに貼着している領域1dに紫外線UVを照射する。 これにより、上記ダイシングラインに貼着している領域
1dの粘着剤を硬化させ、この領域1dの粘着性を低下
させる。一方、上記UVシート1のうち上記基板2に貼
着している残りの領域の粘着性を維持する。
【0011】■次に、図1(c)に示すように、上記基
板2(およびUVシート1)をダイシング装置にセット
する。そして、回転ブレード3を用いて、上記基板2の
ダイシングライン2dを基板2の表面2a側から上記U
Vシート1の粘着面1aに至るまでダイシング(フルダ
イシング)する。ここで、切り残しが生じないように、
上記UVシート1を従来と同様に所定の深さまで切り込
むようにする。UVシート1の粘着剤(ダイシングライ
ンに貼着している領域1dのもの)が回転ブレード3に
よって巻き上げられるが、ダイシングラインに貼着して
いる領域1dの粘着剤は粘着性が低い状態になっている
ので、基板2の表面2aや形成したチップ4の表面4a
に付着するようなことはない。しかも、上記UVシート
1のうち基板2のチップ4となるべき箇所に貼着してい
る領域の粘着性を高いままに維持しているので、ダイシ
ングすることによってチップ4がUVシート1から脱落
することもない。
【0012】■次に、図1(d)に示すように、上記U
Vシート1の上記基板2に貼着している領域全体に紫外
線UVを照射する。これにより、この領域全体の粘着剤
を硬化させ、粘着性を低下させる。したがって、形成し
たチップ4を個々に吸着コレクトを用いて吸い上げるこ
とによって、各チップ4をUVシートから容易に取り外
すことができる。
【0013】
【発明の効果】以上より明らかなように、この発明の基
板分断方法は、紫外線硬化型粘着剤が塗布されてなる粘
着シートの粘着面に、分断すべき基板を当接して貼り着
ける工程と、上記粘着シートの上記粘着面と反対側の面
に所定のパターンを有するマスクを上記基板に粘着シー
トを介して重ねて当接し、上記粘着シートのうち上記基
板のダイシングラインに貼着している領域に上記マスク
を通して紫外線を照射して、上記領域の粘着剤を硬化さ
せて粘着性を低下させる一方、上記粘着シートのうち上
記基板に貼着している残りの領域の粘着性を維持する工
程と、上記基板の上記ダイシングラインを上記基板側か
ら上記粘着シートの上記粘着面に至るまでダイシングす
る工程と、上記粘着シートの上記基板に貼着している領
域全体に紫外線を照射して、この領域全体の粘着性を低
下させる工程とを有しているので、作製すべき素子や部
品の品質,特性,歩留に悪影響を及ぼすことなく基板を
分断することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  この発明の一実施例の基板分断方法を説明
する工程図である。
【図2】  従来の基板分断方法を説明する工程図であ
る。
【符号の説明】
1        UVシート 1a       粘着面 1d       ダイシングラインに貼着している領
域2        基板 2a,4a   表面 2d       ダイシングライン 3        回転ブレード 4        チップ M        マスク UV      紫外線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  紫外線硬化型粘着剤が塗布されてなる
    粘着シートの粘着面に、分断すべき基板を当接して貼り
    着ける工程と、上記粘着シートの上記粘着面と反対側の
    面に所定のパターンを有するマスクを上記基板に粘着シ
    ートを介して重ねて当接し、上記粘着シートのうち上記
    基板のダイシングラインに貼着している領域に上記マス
    クを通して紫外線を照射して、上記領域の粘着剤を硬化
    させて粘着性を低下させる一方、上記粘着シートのうち
    上記基板に貼着している残りの領域の粘着性を維持する
    工程と、上記基板の上記ダイシングラインを上記基板側
    から上記粘着シートの上記粘着面に至るまでダイシング
    する工程と、上記粘着シートの上記基板に貼着している
    領域全体に紫外線を照射して、この領域全体の粘着性を
    低下させる工程とを有することを特徴とする基板分断方
    法。
JP3014218A 1991-02-05 1991-02-05 基板分断方法 Pending JPH04249343A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153412A (ja) * 2006-12-18 2008-07-03 Nitto Denko Corp 基板の個片化方法、イメージセンサの製造方法及び熱硬化性接着シート
WO2010087424A1 (ja) * 2009-01-30 2010-08-05 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板ブレーク装置
CN102329075A (zh) * 2010-07-05 2012-01-25 三星钻石工业股份有限公司 分断装置
JP2012035639A (ja) * 2011-11-21 2012-02-23 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板ブレーク装置及び基板ブレーク方法
JP2012045946A (ja) * 2011-11-21 2012-03-08 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板ブレーク装置
JP2013258221A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 Disco Abrasive Syst Ltd 紫外線照射方法および紫外線照射装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6279649A (ja) * 1985-10-03 1987-04-13 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体ダイシング方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6279649A (ja) * 1985-10-03 1987-04-13 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体ダイシング方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153412A (ja) * 2006-12-18 2008-07-03 Nitto Denko Corp 基板の個片化方法、イメージセンサの製造方法及び熱硬化性接着シート
WO2010087424A1 (ja) * 2009-01-30 2010-08-05 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板ブレーク装置
JP2010173251A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板ブレーク装置
KR101275540B1 (ko) * 2009-01-30 2013-06-17 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 기판 브레이크 장치
CN102329075A (zh) * 2010-07-05 2012-01-25 三星钻石工业股份有限公司 分断装置
JP2012035639A (ja) * 2011-11-21 2012-02-23 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板ブレーク装置及び基板ブレーク方法
JP2012045946A (ja) * 2011-11-21 2012-03-08 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 基板ブレーク装置
JP2013258221A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 Disco Abrasive Syst Ltd 紫外線照射方法および紫外線照射装置

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