JPH04249742A - 粒度分布測定装置 - Google Patents
粒度分布測定装置Info
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- JPH04249742A JPH04249742A JP2416960A JP41696090A JPH04249742A JP H04249742 A JPH04249742 A JP H04249742A JP 2416960 A JP2416960 A JP 2416960A JP 41696090 A JP41696090 A JP 41696090A JP H04249742 A JPH04249742 A JP H04249742A
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
- G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N2021/4704—Angular selective
- G01N2021/4711—Multiangle measurement
- G01N2021/4716—Using a ring of sensors, or a combination of diaphragm and sensors; Annular sensor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分散している粒子に光
を照射することによって生じる回折現象もしくは散乱現
象を利用して、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布
測定装置に関する。
を照射することによって生じる回折現象もしくは散乱現
象を利用して、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布
測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】粒子による光の回折ないしは散乱現象を
利用した粒度分布測定装置では、回折光ないしは散乱光
の強度分布、つまり回折角ないしは散乱角と光強度との
関係を測定し、これにフラウンホーファ回折ないしはミ
ー散乱の理論に基づく演算処理を施すことによって、試
料粒子の粒度分布が算出される。
利用した粒度分布測定装置では、回折光ないしは散乱光
の強度分布、つまり回折角ないしは散乱角と光強度との
関係を測定し、これにフラウンホーファ回折ないしはミ
ー散乱の理論に基づく演算処理を施すことによって、試
料粒子の粒度分布が算出される。
【０００３】図３は従来の粒度分布測定装置の測定光学
系を示す図である。図３において、試料セル１は試料粒
子が分散する媒体を収容した透明容器であり、この試料
セル１に対してレーザ光源２などからなる光学系から平
行レーザ光Ｌが照射される。上記試料セル１内の試料粒
子によって回折もしくは散乱するレーザ光Ｌは、択一的
に選ばれる集光レンズ４ａ，４ｂ，４ｃ…の１つを介し
てリング状ディテクタ５で受光され、その測定光強度の
分布から試料粒子についての粒度分布が求められる。
系を示す図である。図３において、試料セル１は試料粒
子が分散する媒体を収容した透明容器であり、この試料
セル１に対してレーザ光源２などからなる光学系から平
行レーザ光Ｌが照射される。上記試料セル１内の試料粒
子によって回折もしくは散乱するレーザ光Ｌは、択一的
に選ばれる集光レンズ４ａ，４ｂ，４ｃ…の１つを介し
てリング状ディテクタ５で受光され、その測定光強度の
分布から試料粒子についての粒度分布が求められる。
【０００４】上記装置では、回折もしくは散乱するレー
ザ光Ｌをリング状ディテクタ５上に結像させるために、
それぞれ焦点距離の異なる複数の集光レンズ４ａ，４ｂ
，４ｃ…が用意され、散乱角が大きくなる粒子径の小さ
い試料粒子の測定では、短い焦点距離ｆ１の集光レンズ
４ａに交換する一方、必要に応じてリング状ディテクタ
５も焦点レンズ４ａから近い位置に移動させて使用され
る。逆に、散乱角が小さくなる粒子径の大きい試料粒子
の測定の場合には、長い焦点距離ｆ３の集光レンズ４ｃ
に交換する一方、必要に応じてリング状ディテクタ５も
集光レンズ４ｃから遠い位置に移動させて使用される。 このように、焦点距離の異なる複数の集光レンズ４ａ，
４ｂ，４ｃ…を交換して使用するので、広い粒度範囲の
粒度分布を測定することができる。
ザ光Ｌをリング状ディテクタ５上に結像させるために、
それぞれ焦点距離の異なる複数の集光レンズ４ａ，４ｂ
，４ｃ…が用意され、散乱角が大きくなる粒子径の小さ
い試料粒子の測定では、短い焦点距離ｆ１の集光レンズ
４ａに交換する一方、必要に応じてリング状ディテクタ
５も焦点レンズ４ａから近い位置に移動させて使用され
る。逆に、散乱角が小さくなる粒子径の大きい試料粒子
の測定の場合には、長い焦点距離ｆ３の集光レンズ４ｃ
に交換する一方、必要に応じてリング状ディテクタ５も
集光レンズ４ｃから遠い位置に移動させて使用される。 このように、焦点距離の異なる複数の集光レンズ４ａ，
４ｂ，４ｃ…を交換して使用するので、広い粒度範囲の
粒度分布を測定することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の粒度分布測定装置は、上記各集光レンズ４ａ，
４ｂ，４ｃ…がそれぞれ受け持つ測定粒度範囲ごとに、
集光レンズを切り換えると共に、必要に応じてリング状
ディテクタ５の位置も移動させて個々の粒度範囲を測定
する構成、つまり個々の粒度範囲ごとに光学系を切り換
えて測定する構成であるため、複数の粒度範囲にまたが
る試料粒子の場合には、何度となく光学系を切り換えて
測定しなければならず、その結果、正確な粒度分布を測
定できないという問題点を有する。また、測定対象の試
料は、それぞれが粒度範囲を異にするので、試料が異な
るごとに上述した光学系の切換えを行う必要があり、測
定のための操作が面倒であるという問題点も有する。
た従来の粒度分布測定装置は、上記各集光レンズ４ａ，
４ｂ，４ｃ…がそれぞれ受け持つ測定粒度範囲ごとに、
集光レンズを切り換えると共に、必要に応じてリング状
ディテクタ５の位置も移動させて個々の粒度範囲を測定
する構成、つまり個々の粒度範囲ごとに光学系を切り換
えて測定する構成であるため、複数の粒度範囲にまたが
る試料粒子の場合には、何度となく光学系を切り換えて
測定しなければならず、その結果、正確な粒度分布を測
定できないという問題点を有する。また、測定対象の試
料は、それぞれが粒度範囲を異にするので、試料が異な
るごとに上述した光学系の切換えを行う必要があり、測
定のための操作が面倒であるという問題点も有する。
【０００６】上記の従来欠点に鑑み、本発明は、光学系
を切り換えることなく広い範囲の粒度分布を正確かつ簡
単に測定できる粒度分布測定装置を提供せんとするもの
である。
を切り換えることなく広い範囲の粒度分布を正確かつ簡
単に測定できる粒度分布測定装置を提供せんとするもの
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、試料粒子が分散する媒体を収容した試
料容器に対して所定波長のレーザ光を照射するレーザ光
照射手段と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱す
る前記レーザ光のうち散乱角の小さいレーザ光の光強度
を各散乱角ごとにそれぞれ測定するリング状ディテクタ
と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱する前記レ
ーザ光のうち散乱角の大きいレーザ光の光強度を各散乱
角ごとにそれぞれ測定するフォトセンサ群と、前記リン
グ状ディテクタの測定データを粒子径が小さい粒度範囲
のデータとして、また前記フォトセンサ群の測定データ
を粒子径が大きい粒度範囲のデータとして共に取り込む
データ入力手段と、フラウンホーファ回折もしくはミー
散乱理論に基づき前記データ入力手段による入力データ
から前記試料粒子の粒度分布を粒子径が小さい粒度範囲
から粒子径が大きい粒度範囲にわたって算出する粒度分
布算出手段とを備えたことを特徴としている。
めに、本発明は、試料粒子が分散する媒体を収容した試
料容器に対して所定波長のレーザ光を照射するレーザ光
照射手段と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱す
る前記レーザ光のうち散乱角の小さいレーザ光の光強度
を各散乱角ごとにそれぞれ測定するリング状ディテクタ
と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱する前記レ
ーザ光のうち散乱角の大きいレーザ光の光強度を各散乱
角ごとにそれぞれ測定するフォトセンサ群と、前記リン
グ状ディテクタの測定データを粒子径が小さい粒度範囲
のデータとして、また前記フォトセンサ群の測定データ
を粒子径が大きい粒度範囲のデータとして共に取り込む
データ入力手段と、フラウンホーファ回折もしくはミー
散乱理論に基づき前記データ入力手段による入力データ
から前記試料粒子の粒度分布を粒子径が小さい粒度範囲
から粒子径が大きい粒度範囲にわたって算出する粒度分
布算出手段とを備えたことを特徴としている。
【０００８】
【作用】上記の構成によれば、１つのレーザ光照射手段
を光源として、粒子径の大きい粒度範囲についての散乱
光の光強度分布はリング状ディテクタで測定され、粒子
径の小さい粒度範囲についての散乱光の光強度分布はフ
ォトセンサ群で測定される。また、リング状ディテクタ
およびフォトセンサ群による測定データは共通のデータ
入力手段によって取り込まれて粒度分布算出のためのデ
ータとされるので、光学系の切換え操作なしで一度に広
い範囲にまたがる粒度分布を正確に測定できる。
を光源として、粒子径の大きい粒度範囲についての散乱
光の光強度分布はリング状ディテクタで測定され、粒子
径の小さい粒度範囲についての散乱光の光強度分布はフ
ォトセンサ群で測定される。また、リング状ディテクタ
およびフォトセンサ群による測定データは共通のデータ
入力手段によって取り込まれて粒度分布算出のためのデ
ータとされるので、光学系の切換え操作なしで一度に広
い範囲にまたがる粒度分布を正確に測定できる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明による粒度分布測定装置の測定光学
系を示す図である。図１において、試料セル１１は媒液
中に試料粒子が分散して存在する試料液を収容した透明
容器であり、レーザ光照射手段１２は上記試料セル１１
に平行レーザ光Ｌを照射するための光学系である。上記
レーザ光照射手段１２は、所定の波長を持つ平行レーザ
光Ｌを出力するレーザ光源１３、そのレーザ光Ｌの光束
を拡大するビームエキスパンダ１４などによって構成さ
れている。
する。図１は本発明による粒度分布測定装置の測定光学
系を示す図である。図１において、試料セル１１は媒液
中に試料粒子が分散して存在する試料液を収容した透明
容器であり、レーザ光照射手段１２は上記試料セル１１
に平行レーザ光Ｌを照射するための光学系である。上記
レーザ光照射手段１２は、所定の波長を持つ平行レーザ
光Ｌを出力するレーザ光源１３、そのレーザ光Ｌの光束
を拡大するビームエキスパンダ１４などによって構成さ
れている。
【００１０】上記試料セル１１の前方の、レーザ光照射
手段１２の光軸上には、試料粒子によって回折もしくは
散乱するレーザ光Ｌを、リング状ディテクタ１５上に集
光する集光レンズ１６が配置されている。上記リング状
ディテクタ１６は、試料粒子によって回折もしくは散乱
するレーザ光Ｌのうち比較的に散乱角の小さい光を、各
散乱角ごとにそれぞれ受光して、それらの光強度を測定
するものであり、上記集光レンズ１６の前方に配置され
ている。
手段１２の光軸上には、試料粒子によって回折もしくは
散乱するレーザ光Ｌを、リング状ディテクタ１５上に集
光する集光レンズ１６が配置されている。上記リング状
ディテクタ１６は、試料粒子によって回折もしくは散乱
するレーザ光Ｌのうち比較的に散乱角の小さい光を、各
散乱角ごとにそれぞれ受光して、それらの光強度を測定
するものであり、上記集光レンズ１６の前方に配置され
ている。
【００１１】図２は、上記リング状ディテクタ１５の構
成を示す斜視図である。このリング状ディテクタ１５は
、試料粒子の粒度に応じてそれぞれの角度に回折もしく
は散乱するレーザ光Ｌを検出するための複数のフォトセ
ンサ１５ａ，１５ｂ…を、レーザ光照射手段１２の光軸
Ｐを中心としてリング状に区分けして配置することによ
って構成されている。上記リング状ディテクタ１５の各
フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…は、それぞれ個々に対応
付けられた増幅器１７…を介してマルチプレクサ１８に
接続されている。上述したレーザ光照射手段１２、集光
レンズ１６およびリング状ディテクタ１５は、比較的に
粒子径の大きい試料粒子による回折光もしくは散乱光を
受光する大径粒子検出用光学系を構成する。
成を示す斜視図である。このリング状ディテクタ１５は
、試料粒子の粒度に応じてそれぞれの角度に回折もしく
は散乱するレーザ光Ｌを検出するための複数のフォトセ
ンサ１５ａ，１５ｂ…を、レーザ光照射手段１２の光軸
Ｐを中心としてリング状に区分けして配置することによ
って構成されている。上記リング状ディテクタ１５の各
フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…は、それぞれ個々に対応
付けられた増幅器１７…を介してマルチプレクサ１８に
接続されている。上述したレーザ光照射手段１２、集光
レンズ１６およびリング状ディテクタ１５は、比較的に
粒子径の大きい試料粒子による回折光もしくは散乱光を
受光する大径粒子検出用光学系を構成する。
【００１２】また、上記試料セル１１の周囲には、試料
粒子によって回折もしくは散乱するレーザ光Ｌのうち比
較的に散乱角の大きい光を、各散乱角ごとに個別に検出
するフォトセンサ群１９を構成する複数のフォトセンサ
１９ａ，１９ｂ…が、それぞれの散乱角位置に配置され
ている。とくに、ここでは、散乱角の大きい試料セル１
１の後方、つまりレーザ光照射手段１２の配置側だけで
なく、散乱角の小さい試料セル１１の前方側にもフォト
センサ１９ａ，１９ｂ…を配置して、試料セル１１の前
方に散乱するレーザ光Ｌについてもその光強度を測定す
るように構成されている。
粒子によって回折もしくは散乱するレーザ光Ｌのうち比
較的に散乱角の大きい光を、各散乱角ごとに個別に検出
するフォトセンサ群１９を構成する複数のフォトセンサ
１９ａ，１９ｂ…が、それぞれの散乱角位置に配置され
ている。とくに、ここでは、散乱角の大きい試料セル１
１の後方、つまりレーザ光照射手段１２の配置側だけで
なく、散乱角の小さい試料セル１１の前方側にもフォト
センサ１９ａ，１９ｂ…を配置して、試料セル１１の前
方に散乱するレーザ光Ｌについてもその光強度を測定す
るように構成されている。
【００１３】上記各フォトセンサ１９ａ，１９ｂ…では
、それぞれ対応する集光レンズ２０ａ，２０ｂ…で集光
した回折光もしくは散乱光が受光される。これらのフォ
トセンサ１９ａ，１９ｂ…はそれぞれ対応する増幅器１
７…を介して前記マルチプレクサ１８に接続されている
。上述したレーザ光照射手段１２、フォトセンサ群１９
および集光レンズ２０ａ，２０ｂ…は、比較的に粒子径
の小さい試料粒子による回折光もしくは散乱光を受光す
る小径粒子検出用光学系を構成する。
、それぞれ対応する集光レンズ２０ａ，２０ｂ…で集光
した回折光もしくは散乱光が受光される。これらのフォ
トセンサ１９ａ，１９ｂ…はそれぞれ対応する増幅器１
７…を介して前記マルチプレクサ１８に接続されている
。上述したレーザ光照射手段１２、フォトセンサ群１９
および集光レンズ２０ａ，２０ｂ…は、比較的に粒子径
の小さい試料粒子による回折光もしくは散乱光を受光す
る小径粒子検出用光学系を構成する。
【００１４】上記マルチプレクサ１８は、上述したリン
グ状ディテクタ１５の各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…
やフォトセンサ群１９の各フォトセンサ１９ａ，１９ｂ
…で検出される光強度の測定データを所定の順序で取り
込み、取り込んだ測定データをその取込み順序にしたが
った直列信号に変換して次段のＡ／Ｄ変換器２１に送出
する機能を持つ回路である。
グ状ディテクタ１５の各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…
やフォトセンサ群１９の各フォトセンサ１９ａ，１９ｂ
…で検出される光強度の測定データを所定の順序で取り
込み、取り込んだ測定データをその取込み順序にしたが
った直列信号に変換して次段のＡ／Ｄ変換器２１に送出
する機能を持つ回路である。
【００１５】上記Ａ／Ｄ変換器２１は、送られてきた測
定データつまりアナログデータをデジタルデータに変換
する回路であり、そのデジタルデータは次段の演算処理
装置２２に送られる。上記演算処理装置２２は、送られ
てきた光強度に関するデジタルデータに基づき、試料セ
ル１１中の試料粒子についての粒度分布を求める演算処
理を行う装置であり、コンピュータなどによって構成さ
れる。その演算機能は、フラウンホーファ回折もしくは
ミー散乱理論に基づいて粒度分布を求めるものである。
定データつまりアナログデータをデジタルデータに変換
する回路であり、そのデジタルデータは次段の演算処理
装置２２に送られる。上記演算処理装置２２は、送られ
てきた光強度に関するデジタルデータに基づき、試料セ
ル１１中の試料粒子についての粒度分布を求める演算処
理を行う装置であり、コンピュータなどによって構成さ
れる。その演算機能は、フラウンホーファ回折もしくは
ミー散乱理論に基づいて粒度分布を求めるものである。
【００１６】次に、上記粒度分布測定装置による粒度分
布の測定手順について説明する。レーザ光照射手段１１
を構成する光学系では、レーザ光源１３からのレーザ光
Ｌがビームエキスパンダ１４で光束を拡大されて試料セ
ル１１に照射される。このレーザ光Ｌは、試料セル１１
中の試料粒子によって回折もしくは散乱する。その回折
光もしくは散乱光のうち、比較的に散乱角の小さいもの
は集光レンズ１６によってリング状ディテクタ１５上に
結像される。
布の測定手順について説明する。レーザ光照射手段１１
を構成する光学系では、レーザ光源１３からのレーザ光
Ｌがビームエキスパンダ１４で光束を拡大されて試料セ
ル１１に照射される。このレーザ光Ｌは、試料セル１１
中の試料粒子によって回折もしくは散乱する。その回折
光もしくは散乱光のうち、比較的に散乱角の小さいもの
は集光レンズ１６によってリング状ディテクタ１５上に
結像される。
【００１７】上記リング状ディテクタ１５に配置されて
いる各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…では、試料粒子に
よって回折もしくは散乱したレーザ光Ｌの光強度が測定
される。各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…のうち、外周
側のフォトセンサは散乱角のより大きい光を受光し、内
周側のフォトセンサは散乱角のより小さい光を受光する
。したがって、外周側のフォトセンサの検出する光強度
は粒子径のより大きい試料粒子の量を反映しており、内
周側のフォトセンサの検出する光強度は粒子径のより小
さい試料粒子の量を反映していることになる。これらの
各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…が検出した光強度はア
ナログ電気信号に変換され、さらに増幅器１７を経てマ
ルチプレクサ１８に入力される。
いる各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…では、試料粒子に
よって回折もしくは散乱したレーザ光Ｌの光強度が測定
される。各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…のうち、外周
側のフォトセンサは散乱角のより大きい光を受光し、内
周側のフォトセンサは散乱角のより小さい光を受光する
。したがって、外周側のフォトセンサの検出する光強度
は粒子径のより大きい試料粒子の量を反映しており、内
周側のフォトセンサの検出する光強度は粒子径のより小
さい試料粒子の量を反映していることになる。これらの
各フォトセンサ１５ａ，１５ｂ…が検出した光強度はア
ナログ電気信号に変換され、さらに増幅器１７を経てマ
ルチプレクサ１８に入力される。
【００１８】一方、試料粒子によって回折もしくは散乱
するレーザ光Ｌのうち、上記集光レンズ１６によって集
光されない比較的に散乱角の大きいものは、個々の集光
レンズ２０ａ，２０ｂ…を経てそれぞれ対応するフォト
センサ１９ａ，１９ｂ…に集光され、これらのフォトセ
ンサ群１９によってその光強度分布が測定される。
するレーザ光Ｌのうち、上記集光レンズ１６によって集
光されない比較的に散乱角の大きいものは、個々の集光
レンズ２０ａ，２０ｂ…を経てそれぞれ対応するフォト
センサ１９ａ，１９ｂ…に集光され、これらのフォトセ
ンサ群１９によってその光強度分布が測定される。
【００１９】上記フォトセンサ群１９において、試料セ
ル１１後方寄りに配置されているフォトセンサは、散乱
角のより大きいレーザ光Ｌを受光し、試料セル１１の前
方寄りに配置されているフォトセンサは、散乱角のより
小さいレーザ光Ｌを受光する。したがって、後方に配置
されているフォトセンサの検出する光強度は粒子径のよ
り小さい試料粒子の量を反映しており、前方に配置され
ているフォトセンサの検出する光強度は粒子径のより大
きい試料粒子の量を反映していることになる。これらの
各フォトセンサ１９ａ，１９ｂ…が検出した光強度はア
ナログ電気信号に変換され、さらに増幅器１７を経てマ
ルチプレクサ１８に入力される。
ル１１後方寄りに配置されているフォトセンサは、散乱
角のより大きいレーザ光Ｌを受光し、試料セル１１の前
方寄りに配置されているフォトセンサは、散乱角のより
小さいレーザ光Ｌを受光する。したがって、後方に配置
されているフォトセンサの検出する光強度は粒子径のよ
り小さい試料粒子の量を反映しており、前方に配置され
ているフォトセンサの検出する光強度は粒子径のより大
きい試料粒子の量を反映していることになる。これらの
各フォトセンサ１９ａ，１９ｂ…が検出した光強度はア
ナログ電気信号に変換され、さらに増幅器１７を経てマ
ルチプレクサ１８に入力される。
【００２０】マルチプレクサ１８では、各フォトセンサ
１５ａ，１５ｂ…，１９ａ，１９ｂ…から入力されてき
た測定データ、つまりアナログ電気信号が一定の順序で
取り込まれる。すなわち、例えば、粒子径の小さい試料
粒子に対応するフォトセンサ１９ａ，１９ｂ…からフォ
トセンサ１５ａ，１５ｂ…へとそれらの測定データが取
り込まれる。マルチプレクサ１８で取り込まれたアナロ
グ電気信号は直列信号にされて、次段のＡ／Ｄ変換器２
１で順次デジタル信号に変換され、さらに次段の演算処
理装置２２に入力される。
１５ａ，１５ｂ…，１９ａ，１９ｂ…から入力されてき
た測定データ、つまりアナログ電気信号が一定の順序で
取り込まれる。すなわち、例えば、粒子径の小さい試料
粒子に対応するフォトセンサ１９ａ，１９ｂ…からフォ
トセンサ１５ａ，１５ｂ…へとそれらの測定データが取
り込まれる。マルチプレクサ１８で取り込まれたアナロ
グ電気信号は直列信号にされて、次段のＡ／Ｄ変換器２
１で順次デジタル信号に変換され、さらに次段の演算処
理装置２２に入力される。
【００２１】上記演算処理装置２２では、リング状ディ
テクタ１５およびフォトセンサ群１９によって測定され
た各散乱角ごとの光強度データに基づき、試料粒子の粒
度分布が求められる。その算出手順は、フラウンホーフ
ァ回折もしくはミー散乱理論に基づき行われる。
テクタ１５およびフォトセンサ群１９によって測定され
た各散乱角ごとの光強度データに基づき、試料粒子の粒
度分布が求められる。その算出手順は、フラウンホーフ
ァ回折もしくはミー散乱理論に基づき行われる。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、上述した構成より成り、１つ
のレーザ光照射手段を光源として、粒子径の大きい粒度
範囲についての散乱光の光強度分布をリング状ディテク
タで測定し、粒子径の小さい粒度範囲についての散乱光
の光強度分布をフォトセンサ群で測定し、かつ、リング
状ディテクタおよびフォトセンサ群による測定データを
共通のデータ入力手段によって取り込んで粒度分布算出
のためのデータとするようにしているので、光学系の切
換え操作なしで一度に広い範囲にまたがる粒度分布を正
確に測定できる。
のレーザ光照射手段を光源として、粒子径の大きい粒度
範囲についての散乱光の光強度分布をリング状ディテク
タで測定し、粒子径の小さい粒度範囲についての散乱光
の光強度分布をフォトセンサ群で測定し、かつ、リング
状ディテクタおよびフォトセンサ群による測定データを
共通のデータ入力手段によって取り込んで粒度分布算出
のためのデータとするようにしているので、光学系の切
換え操作なしで一度に広い範囲にまたがる粒度分布を正
確に測定できる。
【図１】本発明の実施例の粒度分布測定装置の概要を模
式的に示す図である。
式的に示す図である。
【図２】本発明の実施例の粒度分布測定装置におけるリ
ング状ディテクタを示す斜視図である。
ング状ディテクタを示す斜視図である。
【図３】従来の粒度分布測定装置の概要を模式的に示す
図である。
図である。
１２ レーザ光照射手段
１５ リング状ディテクタ
１８ データ入力手段
１９ フォトセンサ群
２２ 粒度分布算出手段
Claims (1)
- 【請求項１】 試料粒子が分散する媒体を収容した試
料容器に対して所定波長のレーザ光を照射するレーザ光
照射手段と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱す
る前記レーザ光のうち散乱角の小さいレーザ光の光強度
を各散乱角ごとにそれぞれ測定するリング状ディテクタ
と、前記試料粒子によって回折もしくは散乱する前記レ
ーザ光のうち散乱角の大きいレーザ光の光強度を各散乱
角ごとにそれぞれ測定するフォトセンサ群と、前記リン
グ状ディテクタの測定データを粒子径が小さい粒度範囲
のデータとして、また前記フォトセンサ群の測定データ
を粒子径が大きい粒度範囲のデータとして共に取り込む
データ入力手段と、フラウンホーファ回折もしくはミー
散乱理論に基づき前記データ入力手段による入力データ
から前記試料粒子の粒度分布を粒子径が小さい粒度範囲
から粒子径が大きい粒度範囲にわたって算出する粒度分
布算出手段とを備えたことを特徴とする粒度分布測定装
置。
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| JP2416960A JP2863874B2 (ja) | 1990-12-30 | 1990-12-30 | 粒度分布測定装置 |
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