JPH0425221Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は反応塔、吸収塔、蒸流塔、冷却塔等
の気液接触塔において、気液接触用の充填物層を
流化して壁流となつた液体を集合させ下段の充填
物層上に分散散布する液体再分散装置に関する。

（従来の技術） この種の気液接触塔においては、充填物層上に
液体を分散散布しても、充填物層の通過により液
体は塔壁側に偏流して塔内壁面に沿つて流下する
傾向にあるため、下段の充填物層上にそのまま流
下させるのでは接触効率が極めて劣るので、各充
填物層通過ごとに液体を再分散する必要がある。
このための方法としては、第８図に示すように上
段の充填物層１３の下にガスの上昇流の妨げとな
らない集液装置２０を設け、これにより降下液を
集めて、下側に設けたパイプ式あるいは多孔板式
等の分散装置２１上に供給して分散をおこなる
か、第９図に示すように内周縁に、多数の切込み
を入れた集液用ツバ２２を塔１２の壁部に取付
け、塔の内壁面を伝つて下降する液体を内壁面よ
り離れた位置に落下させる方法が採用されてい
る。

（考案が解決しようとする問題点） ところが上記の再分散の方法のうち前者は、集
液装置２０と分散装置２１を二段にわたつて設け
るため、塔高が増加し、塔の製作費がかさむとい
う問題がある。また後者の場合は、プラスチツク
製の集液用ツバ２２が熱あるいは疲労により変形
して垂下し、あるいは集液用ツバ２２を伝つて落
下する液体がガスの上昇流により吹上げられて集
液用ツバ２２の裏面から塔内壁面側に流れたりす
ることのため、液体の均一散布性が劣るという欠
点があつた。

この考案は上記従来の問題点を解決するもの
で、小型コンパクトな装置により液体の再分散を
効果的におこなうことができる液体再分散装置を
提供しようとするものである。

（問題点を解決するための手段） しかしてこの考案の液体再分散装置は、塔の内
径より小さい外径を有する環状体の上面に、水平
な環状流路を設け、この環状流路に連通する水平
な分岐流路を上面にそなえた分岐体を、前記環状
体の内径側に連設して成り、前記環状流路には少
なくとも内周側に側壁を設け、前記分岐流路の両
側には多数個の溢流口を有する側壁を設けるとと
もに、前記分岐体の下面に下向きの突起を設けた
ことを特徴とする液体再分散装置である。

この考案の液体再分散装置は金属その他の各種
材料で構成することができるが、特にセラミツク
スにより構成すると製作が容易で耐食性にも富む
ため好ましい。このセラミツクスにより構成する
場合は、分岐流路の両側壁に穿設する溢流口を、
上向きに開口する切込溝状のものとすると、製作
がさらに容易で一層好ましい。

（作用） この考案の液体再分散装置は、塔内の上段の充
填物層と下段の充填物層の間に配置し、環状体の
外周と塔内壁面との間および／または環状体の下
面と該環状体を支承する塔内壁面から突出したフ
ランジとの間にパツキンを介在させて取付ける。
上段の充填物層を通過し塔内壁面に沿つて流下す
る液体は環状体の上面の環状流路に流れ込んで集
液され、分岐流路に流入してその側壁部の溢流口
をオーバーフローし、分岐流路の側壁外面に沿つ
て流下し、この流体の全部または一部が突起に沿
つて流下して該突起の先端から下方へ落下し、他
は側壁外面または分岐体下面から直接下方へ落下
する。このオーバーフロー流量は分岐流路の各位
置においてほぼ均一であるうえ、突起が流体を下
方へガイドし、分岐体の下面に沿つて流体が横移
動するのを抑制するため、流体は各部からほぼ均
一な流量で下段の充填物層上へ落下し、均一散布
が達成される。また上段の充填物層から直接滴下
する液体は、その一部は分岐流路内に落下し、他
は分岐体間の空間を通つて下段の充填物層上へ直
接落下する。

（実施例） 以下第１図乃至第５図によりこの考案の一実施
例を説明する。

図中、１は環状体で、設置すべき塔１２の内径
より少量のすきま分だけ小さい外径を有し、その
内径側には側壁２が設けられて、環状体１の上面
には水平な環状流路３が形成されている。また４
は環状体１の内径側に連設された分岐体で、一端
部が環状体１と一体になつた４本の直棒部４ａ
と、この直棒部４ａの他端と一体になつた円環部
４ｂとから成る。分岐体４の上面両縁には側壁５
が設けられ、分岐体４の上面に直線状の分岐流路
６ａと円環状の分岐流路６ｂを形成している。分
岐流路６ａおよび６ｂは、第２図に示すように上
部が開口した略コ字状の同一断面形状を有し、第
３図に示すように両側壁５には上向きに開口する
切込溝（溢流口）７を多数個設けてある。なお切
込溝７の下端縁７ａは分岐体４の上面から小距離
ｈだけ離間している。また分岐体４の下面には、
両側壁５を下方へ延長した下側側壁８が連設さ
れ、この下側側壁８にも下向きに開口する切込溝
９を入れて多数個の櫛歯状の突起１０を形成して
ある。上記構成の再分散装置１１は磁器製で、流
し込み法による一体成形法により成形後焼成した
ものである。

上記再分散装置１１は、第５図に示すように塔
１３内の上段の充填物層１３と下段の充填物層１
４の間に設置する。第４図はその取付部の構造を
示し、塔１２のフランジ接続部に挾持された内径
側に突出するリング状のフランジ１５上に、円環
状のパツキン１６を介して再分散装置１１を載置
し、環状体１の外周と塔１２の内壁面１２ａとの
間にもパツキン１７を充填する。上段の充填物層
１３を通過して塔１２の内壁面１２ａに沿つて流
下する液体は、パツキン１６および１７によりシ
ールされて環状流路３内に流れ込む。そしてこの
液体は分岐流路６（分岐流路６ａと６ｂの総称）
内に流入し、分岐流路６の切込溝（溢流口）７を
オーバーフローして、側壁５および下側側壁８の
外面に沿つて流下し、突起１０によりガイドされ
該突起１０の下端から充填物層１４上に均一散布
される。

この考案は上記実施例に限定されるものではな
く、たとえば環状体１と塔１２間のシール用のパ
ツキンはパツキン１６と１７のいずれか一方とし
てもよく、また第６図に示すように環状体１の環
状流路３の両側に側壁２を設けてもよい。さらに
分岐流路６の両側壁に穿設する溢流口としては、
上記の切込溝７のほか、長穴あるいは丸穴などを
用いてもよい。また分岐流路の下面に設ける突起
としては、第７図に示すように分岐体４の中央部
に上記実施例を同様な櫛歯状の突起１０を設けて
もよいし、さらに切込溝のない隔壁状の突起とし
たり、半球状の突起を多数個穿設して用いてもよ
く、これらの場合は、切込溝７からオーバーフロ
ーした流体の一部は両側壁５の下端から落下し、
他は分岐体４の下面に沿つて横移動するが、上記
各形状の突起により下向きにガイドされて横移動
を抑制され、分岐体が厳密に水平でない場合でも
落下流量分布が偏ることなくほぼ均一散布がおこ
なわれるのである。また分岐流路６の平面形状は
直棒部４ａのみで構成するなど上記以外の各種の
形状とすることができる。

（考案の効果） 以上説明したようにこの考案によれば、１個の
小形コンパクトな再分散装置により集液と分散を
おこなうことができるので、その設置スペースは
小さくて済み、塔高が小さくて済むため経済的で
ある。また分岐体上の液体は、側壁に設けた溢流
口および分岐体下面に設けた突起により均一散布
され、塔の気液接触効率向上に寄与するものであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第５図はこの考案の一実施例を示
し、第１図は再分散装置の平面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ線断面図、第３図は第２図のＢ−Ｂ線
断面図、第４図は取付状態を示す第１図のＣ−Ｃ
線断面図、第５図は取付状態を示す塔の略示断面
図、第６図はこの考案の他の実施例を示す第４図
相当図、第７図はこの考案のさらに他の実施例を
示す第２図相当図、第８図および第９図は従来の
再分散装置の例を示す塔の略示断面図である。 １……環状体、２……側壁、３……環状流路、
４……分岐体、５……側壁、６……分岐流路、７
……切込溝（溢流口）、８……下側側壁、９……
切込溝、１０……突起、１１……再分散装置、１
２……塔。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 塔の内径より小さい外径を有する環状体の上
   面に、水平な環状流路を設け、この環状流路に
   連通する水平な分岐流路を上面にそなえた分岐
   体を、前記環状体の内径側に連設して成り、前
   記環状流路には少なくとも内周側に側壁を設
   け、前記分岐流路の両側には多数個の溢流口を
   有する側壁を設けるとともに、前記分岐体の下
   面に下向きの突起を設けたことを特徴とする液
   体再分散装置。 ２ 溢流口が、上向きに開口する切込溝である実
   用新案登録請求の範囲第１項記載の液体再分散
   装置。 ３ 突起が、分岐流路の両側壁を下方へ延長した
   下側側壁に、下向きに開口する切込溝を入れて
   形成した多数個の櫛歯状の突起である実用新案
   登録請求の範囲第１項または第２項記載の液体
   再分散装置。