JPH0215522Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0215522Y2 JPH0215522Y2 JP1985122086U JP12208685U JPH0215522Y2 JP H0215522 Y2 JPH0215522 Y2 JP H0215522Y2 JP 1985122086 U JP1985122086 U JP 1985122086U JP 12208685 U JP12208685 U JP 12208685U JP H0215522 Y2 JPH0215522 Y2 JP H0215522Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- dispersion device
- channel
- side wall
- dispersion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
この考案は反応塔、吸収塔、蒸留塔、冷却塔等
の中に充填された流体接触物上に、接触流体を自
然落下により分散散布する流体分散装置に関する
ものである。 （従来の技術） 従来の流体分散装置としては、第７図に示すよ
うに複数本の枝管２１の底辺部に多数の散布孔を
穿設したパイプ式の分散装置２２、あるいは第８
図に示すように円板２３に多数の孔２４を穿設し
た多孔板式の分散装置２５が広く用いられてい
る。 （考案が解決しようとする問題点） ところが上記のパイプ式のものでは、各散布孔
位置における流体ヘツドにより流量が決るため、
枝管２１の先端部寄りの散布孔から流下する流量
は少なくなりやすく、流体を加圧して供給しない
限り均一散布は困難であつた。また上記の多孔板
式のものでは孔２４が上昇するガス流の通気孔を
兼ねているのであまり小径の孔とすることができ
ないうえに、平板面に孔が穿設されているので、
各孔ごとおよび各孔の周縁上の位置によつて流下
流量が均一でなく局所的に偏りを生じ、均一散布
は困難であつた。 また特開昭57−10328号公報には、側壁に溢流
用の孔をそなえた液体容器の外側に、液体散布滴
下板をすきまを隔てて設けた液体散布器が開示さ
れているが、この液体散布器は複雑な二重構造の
ため製造コストがかさみ、また各部の製作誤差お
よび組立誤差による前記すきまのばらつきおよび
液体容器の底面からの液体の滴下等により、液体
の均一散布性が劣るなどの欠点を有するものであ
つた。 この考案は上記従来の問題点を解決するもの
で、自然落下により均一散布ができる構造が簡潔
な流体分散装置を提供しようとするものである。 （問題点を解決するための手段） しかしてこの考案の流体分散装置は、複数個の
流体流路を水平方向に連続させて成る流路集合体
において、上記流体流路の両側壁に多数個の上向
きに開口する切込溝状の溢流口を設けるととも
に、上記流体流路の両側壁を下方へ延長した下側
側壁に、下向きに開口する切込溝を入れて形成し
た多数個の櫛歯状の突起を設けたことを特徴とす
る流体分散装置である。 この考案の流体分散装置は金属その他の各種材
料で構成することができるが、就中セラミツクス
により構成すると製作が容易で耐食性にも富むた
め特に好ましい。 （作用） この考案の流体分散装置においては、流路集合
体の任意の位置の流体流路に、好ましくは別体よ
りなる流体供給管により流体を供給すると、連続
した各流体流路全体に流体が拡がり、次いで各流
体流路中の流体が溢流口をオーバーフローして流
体流路の側壁外面に沿つて流下し、この流体の全
部または一部が突起に沿つて流下して該突起の先
端から下方へ落下し、他は側壁外面から直接下方
へ落下する。このオーバーフロー流量は流路集合
体の各位置においてほぼ均一であるうえ、突起が
流体を下方へガイドし、流体流路の底壁下面に沿
つて流体が横移動するのを抑制するため、流体は
各部からほぼ均一な流量で落下し、均一散布が達
成される。 （実施例） 以下第１図乃至第３図によりこの考案の一実施
例を説明する。 図中、１は流路集合体で、平面形状が四分円弧
状に湾曲した４個の流体流路２と、平面形状が直
線状の４個の流体流路３を水平方向に相互に連続
させて成る。流体流路２および３は、第２図に示
すように上部が開口した略コ字状の同一断面形状
を有し、第３図に示すように両側壁４には上向き
に開口する切込溝（溢流口）５を多数個設けてあ
る。なお切込溝５の下端縁５ａは流体流路の底壁
６の上面から小距離ｈだけ離間している。また流
体流路２および３の底壁６の下面には、両側壁４
を下方へ延長した下側側壁７が連設され、この下
側側壁７にも下向きに開口する切込溝８を入れて
多数個の櫛歯状の突起９を形成してある。１０は
流路集合体１の外周に突設した取付片で、反応塔
等の使用位置へセツトするためのものである。上
記構成の分散装置１１は磁器製で、流し込み法に
よる一体成形法により成形後焼成したものであ
る。 上記分散装置１１への流体の供給は、別体の流
体供給管Ｐにより流体流路３の中央接続部に流下
させておこなう。供給された流体は前記の作用の
項で述べた通り各流体流路３および２の切込溝
（溢流口）５をオーバーフローして、側壁４およ
び下側側壁７の外面に沿つて流下し、突起９によ
りガイドされ該突起９の下端から均一散布され
る。 次に上記構成の分散装置１１を用いた実験結果
を第１表に示す。実験に用いた分散装置の流路集
合体１の外径は300mm、流体流路２および３の内
巾は35mm、切込溝５および８のピツチは25mmで個
数は各76個（従つて突起９の個数も76個）であ
る。この分散装置１１を、内径450mmの流体接触
塔の上部に取付け、該流体接触塔中に層厚が600
mmとなるように磁器質のラシヒリングを充填し、
流体接触塔の下部よりNH31000ppmを含む空気
を流入させ、分散装置中央には上部から水を6000
Kg／m2Ｈ流下させて気液向流接触をおこなつたと
きの、ラシヒリング充填物のNH3吸収効率およ
び圧力損失（空気）を測定した。また比較のため
第６図に示すように上記分散装置１１と同寸方で
下向きの突起９（および下側側壁７）のない比較
例分散装置と、第７図のパイプ式の分散装置（枝
管内径30mm、枝管延べ長さ2090mm、散布孔直径８
mm×50個）と、第８図の多孔板式の分散装置（円
板直径450mm、孔直径25mm×60個）についても同
条件で測定をおこなつた。
の中に充填された流体接触物上に、接触流体を自
然落下により分散散布する流体分散装置に関する
ものである。 （従来の技術） 従来の流体分散装置としては、第７図に示すよ
うに複数本の枝管２１の底辺部に多数の散布孔を
穿設したパイプ式の分散装置２２、あるいは第８
図に示すように円板２３に多数の孔２４を穿設し
た多孔板式の分散装置２５が広く用いられてい
る。 （考案が解決しようとする問題点） ところが上記のパイプ式のものでは、各散布孔
位置における流体ヘツドにより流量が決るため、
枝管２１の先端部寄りの散布孔から流下する流量
は少なくなりやすく、流体を加圧して供給しない
限り均一散布は困難であつた。また上記の多孔板
式のものでは孔２４が上昇するガス流の通気孔を
兼ねているのであまり小径の孔とすることができ
ないうえに、平板面に孔が穿設されているので、
各孔ごとおよび各孔の周縁上の位置によつて流下
流量が均一でなく局所的に偏りを生じ、均一散布
は困難であつた。 また特開昭57−10328号公報には、側壁に溢流
用の孔をそなえた液体容器の外側に、液体散布滴
下板をすきまを隔てて設けた液体散布器が開示さ
れているが、この液体散布器は複雑な二重構造の
ため製造コストがかさみ、また各部の製作誤差お
よび組立誤差による前記すきまのばらつきおよび
液体容器の底面からの液体の滴下等により、液体
の均一散布性が劣るなどの欠点を有するものであ
つた。 この考案は上記従来の問題点を解決するもの
で、自然落下により均一散布ができる構造が簡潔
な流体分散装置を提供しようとするものである。 （問題点を解決するための手段） しかしてこの考案の流体分散装置は、複数個の
流体流路を水平方向に連続させて成る流路集合体
において、上記流体流路の両側壁に多数個の上向
きに開口する切込溝状の溢流口を設けるととも
に、上記流体流路の両側壁を下方へ延長した下側
側壁に、下向きに開口する切込溝を入れて形成し
た多数個の櫛歯状の突起を設けたことを特徴とす
る流体分散装置である。 この考案の流体分散装置は金属その他の各種材
料で構成することができるが、就中セラミツクス
により構成すると製作が容易で耐食性にも富むた
め特に好ましい。 （作用） この考案の流体分散装置においては、流路集合
体の任意の位置の流体流路に、好ましくは別体よ
りなる流体供給管により流体を供給すると、連続
した各流体流路全体に流体が拡がり、次いで各流
体流路中の流体が溢流口をオーバーフローして流
体流路の側壁外面に沿つて流下し、この流体の全
部または一部が突起に沿つて流下して該突起の先
端から下方へ落下し、他は側壁外面から直接下方
へ落下する。このオーバーフロー流量は流路集合
体の各位置においてほぼ均一であるうえ、突起が
流体を下方へガイドし、流体流路の底壁下面に沿
つて流体が横移動するのを抑制するため、流体は
各部からほぼ均一な流量で落下し、均一散布が達
成される。 （実施例） 以下第１図乃至第３図によりこの考案の一実施
例を説明する。 図中、１は流路集合体で、平面形状が四分円弧
状に湾曲した４個の流体流路２と、平面形状が直
線状の４個の流体流路３を水平方向に相互に連続
させて成る。流体流路２および３は、第２図に示
すように上部が開口した略コ字状の同一断面形状
を有し、第３図に示すように両側壁４には上向き
に開口する切込溝（溢流口）５を多数個設けてあ
る。なお切込溝５の下端縁５ａは流体流路の底壁
６の上面から小距離ｈだけ離間している。また流
体流路２および３の底壁６の下面には、両側壁４
を下方へ延長した下側側壁７が連設され、この下
側側壁７にも下向きに開口する切込溝８を入れて
多数個の櫛歯状の突起９を形成してある。１０は
流路集合体１の外周に突設した取付片で、反応塔
等の使用位置へセツトするためのものである。上
記構成の分散装置１１は磁器製で、流し込み法に
よる一体成形法により成形後焼成したものであ
る。 上記分散装置１１への流体の供給は、別体の流
体供給管Ｐにより流体流路３の中央接続部に流下
させておこなう。供給された流体は前記の作用の
項で述べた通り各流体流路３および２の切込溝
（溢流口）５をオーバーフローして、側壁４およ
び下側側壁７の外面に沿つて流下し、突起９によ
りガイドされ該突起９の下端から均一散布され
る。 次に上記構成の分散装置１１を用いた実験結果
を第１表に示す。実験に用いた分散装置の流路集
合体１の外径は300mm、流体流路２および３の内
巾は35mm、切込溝５および８のピツチは25mmで個
数は各76個（従つて突起９の個数も76個）であ
る。この分散装置１１を、内径450mmの流体接触
塔の上部に取付け、該流体接触塔中に層厚が600
mmとなるように磁器質のラシヒリングを充填し、
流体接触塔の下部よりNH31000ppmを含む空気
を流入させ、分散装置中央には上部から水を6000
Kg／m2Ｈ流下させて気液向流接触をおこなつたと
きの、ラシヒリング充填物のNH3吸収効率およ
び圧力損失（空気）を測定した。また比較のため
第６図に示すように上記分散装置１１と同寸方で
下向きの突起９（および下側側壁７）のない比較
例分散装置と、第７図のパイプ式の分散装置（枝
管内径30mm、枝管延べ長さ2090mm、散布孔直径８
mm×50個）と、第８図の多孔板式の分散装置（円
板直径450mm、孔直径25mm×60個）についても同
条件で測定をおこなつた。
【表】
上表より、本考案の分散装置は流体分散の均一
性向上により、下向きの突起のない比較例分散装
置、および従来のパイプ式あるいは多孔板式の分
散装置に比べ、充填物の吸収効率が７〜９％向上
していることが判る。 この考案は上記各実施例に限定されるものでは
なく、たとえば流路集合体１の平面形状は第４図
や第５図に示すように各種の形状とすることがで
きる。 （考案の効果） 以上説明したようにこの考案によれば、加圧装
置を必要としない簡潔な構造の装置により自然落
下による流体の均一散布をおこなうことができ
る。特に流路集合体は水平方向に連続しており、
溢流口は上向きに開口し、さらに流体流路下側の
突起形成用の切込溝を下向きに開口しているた
め、分散装置全体が簡潔な形状の一体構造から成
り、セラミツク材料を用いた一体成形により容易
に経済的に製造できる。
性向上により、下向きの突起のない比較例分散装
置、および従来のパイプ式あるいは多孔板式の分
散装置に比べ、充填物の吸収効率が７〜９％向上
していることが判る。 この考案は上記各実施例に限定されるものでは
なく、たとえば流路集合体１の平面形状は第４図
や第５図に示すように各種の形状とすることがで
きる。 （考案の効果） 以上説明したようにこの考案によれば、加圧装
置を必要としない簡潔な構造の装置により自然落
下による流体の均一散布をおこなうことができ
る。特に流路集合体は水平方向に連続しており、
溢流口は上向きに開口し、さらに流体流路下側の
突起形成用の切込溝を下向きに開口しているた
め、分散装置全体が簡潔な形状の一体構造から成
り、セラミツク材料を用いた一体成形により容易
に経済的に製造できる。
第１図はこの考案の一実施例を示す流体分散装
置の平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、
第３図は第２図のＢ−Ｂ線断面図、第４図および
第５図はこの考案における流路集合体の他の実施
態様を示す略示平面図、第６図は比較例分散装置
を示す第２図相当図、第７図および第８図は従来
の流体分散装置の例を示す斜視図である。 １……流路集合体、２……流体流路、３……流
体流路、４……側壁、５……切込溝（溢流口）、
６……底壁、７……下側側壁、８……切込溝、９
……突起、１１……分散装置。
置の平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、
第３図は第２図のＢ−Ｂ線断面図、第４図および
第５図はこの考案における流路集合体の他の実施
態様を示す略示平面図、第６図は比較例分散装置
を示す第２図相当図、第７図および第８図は従来
の流体分散装置の例を示す斜視図である。 １……流路集合体、２……流体流路、３……流
体流路、４……側壁、５……切込溝（溢流口）、
６……底壁、７……下側側壁、８……切込溝、９
……突起、１１……分散装置。
Claims (1)
- 複数個の流体流路を水平方向に連続させて成る
流路集合体において、上記流体流路の両側壁に多
数個の上向きに開口する切込溝状の溢流口を設け
るとともに、上記流体流路の両側壁を下方へ延長
した下側側壁に、下向きに開口する切込溝を入れ
て形成した多数個の櫛歯状の突起を設けたことを
特徴とする流体分散装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985122086U JPH0215522Y2 (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985122086U JPH0215522Y2 (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231903U JPS6231903U (ja) | 1987-02-25 |
| JPH0215522Y2 true JPH0215522Y2 (ja) | 1990-04-26 |
Family
ID=31011955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985122086U Expired JPH0215522Y2 (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0215522Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4264538A (en) * | 1980-05-14 | 1981-04-28 | Norton Company | Liquid distributor |
-
1985
- 1985-08-08 JP JP1985122086U patent/JPH0215522Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6231903U (ja) | 1987-02-25 |
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