JPH04253974A

JPH04253974A - スルホニル尿素系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤

Info

Publication number: JPH04253974A
Application number: JP10062891A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Sakashita; 坂下　信行; Toshio Nakajima; 俊雄中島; Shigeo Murai; 重夫村井; Tsunezou Yoshida; 吉田　常象; Yuji Nakamura; 裕治中村; Masahiko Sawaki; 雅彦澤木; Shoichi Motosawa; 本澤　彰一
Original assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Current assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date: 1991-02-05
Filing date: 1991-02-05
Publication date: 1992-09-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なスルホニル尿素
系化合物又はそれらの塩、それらの製造方法及びそれら
を含有する除草剤に関する。

【０００２】

【従来技術】米国特許第４，９４６，４９４号公報には
除草剤の有効成分として有用なピリジンスルホニル尿素
誘導体が記載されているが、本発明化合物とはスルホニ
ル尿素基が直接結合しているピリジン環の６位の置換基
において構造が異なる。

【０００３】

【発明の構成】本発明は、後記一般式（Ｉ）で表わされ
るスルホニル尿素系化合物又はそれらの塩、それらの製
造方法及びそれらを含有する除草剤、さらには該化合物
を製造するための中間体に関する。一般式（Ｉ）

【化１】（式中、Ｒ１はシクロアルキル基、アルコキシアルキル
基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいピ
リジル基、置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいピラゾリル基又は置換
されてもよいピラジニル基であり、Ｒ２はアルキル基、
ハロアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基又はベ
ンジル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はハロアルキル基であり、Ｘ及びＹは各々独立
してハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロ
アルコキシ基であり、Ａは＝ＣＨ−又は＝Ｎ−である）

【０００４】一般式（Ｉ）中、Ｒ１に含まれる置換され
てもよいフェニル基、置換されてもよいピリジル基、置
換されてもよいチエニル基、置換されてもよいフリル基
、置換されてもよいピラゾリル基及び置換されてもよい
ピラジニル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、
アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、−ＮＯ２
基、−ＣＮ基、−ＣＯ２Ｒ５基、−ＳＯ２ＣＨ３基など
が挙げられ、Ｒ５は水素原子又はアルキル基である。ま
た、それら置換基の置換数は１又は２以上であってもよ
く、置換数が２以上の場合、置換基の種類は同じでも異
なっていてもよい。

【０００５】一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５
、Ｘ及びＹに含まれるアルキル基並びにアルキル部分と
しては炭素数１〜６のもの、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基など
が挙げられ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性
のものも含み、Ｒ１及びＲ２に含まれるシクロアルキル
基としては、炭素数３〜６のもの、例えばシクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基などが挙げられる。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ
及びＹに含まれるハロゲン原子としては、弗素、塩素、
臭素又は沃素の各原子が挙げられる。

【０００６】一般式（Ｉ）で表わされるスルホニル尿素
系化合物の塩としては、ナトリウム、カリウムなどのア
ルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウムなどのアルカ
リ土類金属塩、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミンなどのアミン塩が挙げられる。

【０００７】一般式（Ｉ）で表わされるスルホニル尿素
系化合物は、例えば次の〔Ａ〕〜〔Ｄ〕のような方法に
よって製造することができる。

【０００８】〔Ａ〕

【化５】〔Ｂ〕

【化６】〔Ｃ〕

【化７】〔Ｄ〕

【化８】

【０００９】〔Ａ〕〜〔Ｄ〕の反応中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ
３、Ｘ、Ｙ及びＡは前述の通りであり、Ｒ４はアルキル
基又はアリール（ａｒｙｌ）基である。

【００１０】Ｒ４で表わされるアルキル基としては、Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｘ及びＹについて前記したもの
と同様なアルキル基が挙げられ、アリール基としてはフ
ェニル基、塩素原子で置換されたフェニル基、メチル基
で置換されたフェニル基、ナフチル基などが挙げられる
。

【００１１】反応〔Ａ〕は塩基の存在下で行なわれ、反
応〔Ｂ〕、〔Ｃ〕及び〔Ｄ〕も必要に応じて塩基の存在
下でおこなわれる。塩基としてはトリエチルアミンのよ
うな三級アミン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０
〕−７−ウンデセンなどが使用される。

【００１２】また反応〔Ａ〕、〔Ｂ〕、〔Ｃ〕及び〔Ｄ
〕は通常溶媒の存在下でおこなわれる。溶媒としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの
芳香族炭化水素類；クロロホルム、四塩化炭素、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン
、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水素
類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、アクリロニトリルなどのニトリル類；アセトン、メ
チルエチルケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エ
チルなどのエステル類；ジメチルスルホキシド、スルホ
ランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。

【００１３】反応〔Ａ〕の反応温度は通常−２０〜＋１
００℃、望ましくは０〜４０℃であり、反応時間は０．
０１〜１００時間、望ましくは０．１〜２４時間であり
、反応〔Ｂ〕の反応温度は通常０〜１５０℃であり、反
応時間は０．１〜２４時間であり、反応〔Ｃ〕の反応温
度は通常０〜１５０℃であり、反応時間は０．１〜２４
時間であり、反応〔Ｄ〕の反応温度は通常−２０〜＋１
５０℃であり、反応時間は０．１〜２４時間である。

【００１４】また、一般式（Ｉ）で表わされるスルホニ
ル尿素系化合物は、例えば次の〔Ｅ〕のような方法によ
っても製造することができる。

【００１５】〔Ｅ〕

【化９】

【００１６】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙ及びＡ
は前述の通りである）

【００１７】反応〔Ｅ〕は通常塩基及び溶媒の存在下で
おこなわれるが、それらは前記反応〔Ａ〕〜〔Ｄ〕にお
いて使用されるものと同様のものが挙げられる。

【００１８】反応〔Ｅ〕の反応温度は通常−１０〜＋１
５０℃、望ましくは室温〜１００℃であり、反応時間は
０．１〜４８時間、望ましくは０．５〜２４時間である
。

【００１９】反応〔Ａ〕及び〔Ｂ〕中の（ＩＩ−１）で
表わされる置換ピリジン系化合物は、新規化合物であり
、例えば次の〔Ｆ〕及び〔Ｇ〕のような方法で製造する
ことができる。

【００２０】〔Ｆ〕

【化１０】

【００２１】反応〔Ｆ〕中、１〜１７の各反応工程は次
のような反応条件である。１．ＰｈＣＨ２ＳＨ、塩基、溶媒、８０〜１７０℃２．
（ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０℃ （ｉｉ）Ｂｕ（ｔ）−ＮＨ２、溶媒、０℃〜室温３．Ｒ
２ＮＨ２、必要に応じてＣｕＣｌ及び／又は溶媒、１０
０〜２００℃ ４．Ｒ１ＣＯＣｌ、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃５
．ＣＦ３ＣＯ２Ｈ、室温〜還流温度６．ＮＨ３、必要に応じてＣｕＣｌ及び／又は溶媒、１
００〜２００℃ ７．Ｒ２Ｔ′、塩基、溶媒、−１０〜＋１００℃８．（
ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０℃ （ｉｉ）Ｂｕ（ｔ）−ＮＨ２、溶媒、０℃〜室温９．Ｒ
１ＣＯＣｌ、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃１０．（
ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０℃ （ｉｉ）Ｂｕ（ｔ）−ＮＨ２、溶媒、０℃〜室温１１．
（ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０℃ （ｉｉ）ＮＨ３、溶媒、０℃〜室温１２．Ｒ１ＣＯＣｌ、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃
１３．Ｒ２Ｔ′、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃１４
．ＮＨ３、溶媒、必要に応じてＣｕＣｌ、１００〜２０
０℃ １５．Ｒ１ＣＯＣｌ、溶媒、塩基、−１０℃〜室温１６
．Ｒ２Ｔ′、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃１７．Ｒ
２Ｔ′、溶媒、塩基、−１０〜＋１００℃

【００２２】
〔Ｇ〕

【化１１】

【００２３】反応〔Ｇ〕中、１８〜２６の各反応工程は
次のような反応条件である。１８．ＮＨ３、溶媒、必要に応じてＣｕＣｌ、１００〜
２００℃ １９．Ｒ１ＣＯＣｌ、塩基、溶媒、−１０〜＋１００℃
２０．Ｒ２Ｔ′、塩基、溶媒、−１０〜＋１００℃２１
．ＮａＳＨ、溶媒、５０〜２００℃又は（ｉ）ＳＣ（Ｎ
Ｈ２）２、酢酸、必要に応じて溶媒、５０℃〜還流温度（ｉｉ）塩基、必要に応じて溶媒、０〜１００℃２２．
（ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０℃ （ｉｉ）ＮＨ３、溶媒、０℃〜室温２３．Ｒ２ＮＨ２、溶媒、必要に応じてＣｕＣｌ、１０
０〜２００℃ ２４．Ｒ１ＣＯＣｌ、塩基、溶媒、−１０〜＋１００℃
２５．ＰｈＣＨ２ＳＨ、塩基、溶媒、８０〜１７０℃２
６．（ｉ）５０％ａｑ．酢酸、Ｃｌ２、−１０〜＋１０
℃ （ｉｉ）ＮＨ３、溶媒、０℃〜室温

【００２４】反応〔Ｆ〕及び〔Ｇ〕中、Ｒ１、Ｒ２及び
Ｒ３は前述の通りであり、Ｔ及びＴ′は各々独立して塩
素、臭素等のハロゲン原子である。また、Ｐｈはフェニ
ル基を、Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル基を、ａｑ．
は水溶液を各々示す。

【００２５】また反応〔Ｃ〕中の（ＩＩ−２）で表わさ
れる化合物は、例えば次の〔Ｈ〕のような方法で、さら
に反応〔Ｄ〕中の（ＩＩ−３）で表わされる化合物は、
例えば次の〔Ｉ〕のような方法で製造することができる
。

【００２６】反応式〔Ｈ〕又は〔Ｉ〕中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４
は前述の通りである。

【００２７】前記反応式〔Ｅ〕中の（ＩＶ）で表わされ
る化合物は、前記反応〔Ｆ〕中の（ＶＩ）で表わされる
化合物を用いて、例えば次の〔Ｊ〕のような方法で製造
することができる。

【００２８】〔Ｊ〕

【化１２】

【００２９】（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙ、Ａ及びＰｈ
は前述の通りである）

【００３０】反応〔Ｊ〕第１工程の反応温度は通常室温
〜還流温度、反応時間は０．１〜２４時間、望ましくは
０．５〜５時間であり、第２工程の反応温度は通常０℃
〜還流温度であり、望ましくは１０℃〜室温であり、反
応時間は０．０５〜２４時間、望ましくは０．１〜１時
間である。

【００３１】また、反応〔Ｅ〕〜〔Ｇ〕中のＲ１ＣＯＣ
ｌで表わされる化合物は、例えば次の〔Ｋ〕のような方
法で製造することができる。溶　　　　媒必要に応じて触媒、５０℃〜還流温度（式中、Ｒ１は前述の通りである）

【００３２】反応〔Ｋ〕中のＲ１ＣＯ２Ｈで表わされる
化合物は通常の方法により容易に得られるが、置換され
てもよいピコリン酸の場合は、例えば次の〔Ｌ〕のよう
な方法で製造してもよい。

【００３３】〔Ｌ〕

【化１３】

【００３４】｛式中、Ｔは前述の通りであり、Ｒ６はハ
ロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、−ＮＯ２基であり、ｎは０〜４の整数（ｎが２〜４
の整数のときＲ６は同一又は異なってもよい）である｝

【００３５】〔Ｆ〕〜〔Ｌ〕の各反応の反応温度、反応
時間、溶媒（必要に応じて使用される溶媒）、塩基物質
、必要に応じて使用される触媒などの反応条件は、特に
記載のない場合には通常類似の反応における反応条件か
ら適宜選択できる。

【００３６】また、一般式（Ｉ）で表わされる前記スル
ホニル尿素系化合物の塩は、通常の製造方法によって容
易に得られる。

【００３７】一般式（Ｉ）で表わされるスルホニル尿素
系化合物は、後記試験例にみる通り、低薬量で広い殺草
スペクトラムを示し、同時に小麦、ダイズ又はテンサイ
に対して安全性を示すものを含む。従って、一般式（Ｉ
）で表わされる化合物又はその塩は除草剤の有効成分と
して有用である。

【００３８】一般式（Ｉ）で表わされる化合物又はその
塩を有効成分として含有する本発明除草剤を施用する場
合、通常は担体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、
展着剤、界面活性剤などの各種補助剤と混合して、粒剤
、顆粒水和剤、水和剤、乳剤、液剤、懸濁剤などに製剤
して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との適当
な配合重量比は、一般に１：９９〜９０：１０、望まし
くは５：９５〜８０：２０である。有効成分化合物の使
用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象雑
草の種類、施用時期などの相違により一概に規定できな
いが、一般に１アール当りの施用有効成分量としては０
．００５ｇ〜５０ｇ、望ましくは０．０１ｇ〜１０ｇ、
更に望ましくは０．０５ｇ〜５ｇである。

【００３９】以下に本発明除草剤の製剤例を記載する。以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２
０％の水を加え造粒・乾燥して顆粒の水和剤が得られる
。

【００４０】製剤例２（商品名：塩野義製薬（株）製）以上の（１）〜（４）
の成分の混合物と化合物ＮＯ．４８とを９：１の重量割
合で混合して水和剤が得られる。

【００４１】製剤例３以上の各成分を混合して水和剤が得られる。

【００４２】製剤例４以上の各成分を混合して水和剤が得られる。

【００４３】製剤例５以上の（１）〜（４）の成分を均一に混合し、ダイノー
ミル（ウイリー・エ・バーホーヘン（株）製）で粉砕し
て懸濁状組成物が得られる。

【００４４】製剤例６以上の各成分を均一に混合し、湿式粉砕して水性懸濁剤
が得られる。

【００４５】本発明除草剤は他の農薬、農薬補助剤、薬
害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合
に一層優れた効果・作用性を示すことがある。他の除草
剤と混用或は併用する場合、その混用相手除草剤の有効
成分としては、例えば次のようなものが挙げられる。・
（±）−２−〔４−〔（６−クロロ−２−キノキサリニ
ル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオン酸エチル（一般名
；キザロホップエチル）・３−（１−メチルエチル）−
（１Ｈ）−２，１，３−ベンゾチアジアジン−４−（３
Ｈ）−オン−２，２−ジオキシド（一般名；ベンタゾン
）・５−〔２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フ
ェノキシ〕−２−ニトロ安息香酸ナトリウム（一般名；
アシフルオルフェン）・２−〔〔〔〔（４−クロロ−６
−メトキシ−２−ピリミジニル）アミノ〕カルボニル〕
アミノ〕スルホニル〕安息香酸エチル（一般名；クロリ
ムロンエチル：Ｃｈｌｏｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）・
（±）−５−〔２−クロロ−４−（トリフルオロメチル
）フェノキシ〕−２−ニトロ安息香酸２−エトキシ−１
−メチル−２−オキソエチル（一般名；ラクトフェン）
・４−（２，４−ジクロロフェノキシ）酪酸（一般名；
２，４−ディービー：２，４−ＤＢ）・２−クロロ−Ｎ
−（２−エチル−６−メチルフェニル）−Ｎ−（２−メ
トキシ−１−メチルエチル）アセトアミド（一般名；メ
トラクロール）・（±）−２−〔４−〔（６−クロロ−
２−ベンゾキサゾリル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオ
ン酸エチル（一般名；フェノキサプロップエチル）・（
±）−２−〔４−〔〔５−（トリフルオロメチル）−２
−ピリジニル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオン酸ブチ
ル（一般名；フルアジホップ）・２−クロロ−Ｎ−（２
，６−ジエチルフェニル）−Ｎ−（メトキシメチル）ア
セトアミド（一般名；アラクロール）・３−（３，４−
ジクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチル尿素（
一般名；リニュロン）・４−アミノ−６−（１，１−ジ
メチルエチル）−３−（メチルチオ）−１，２，４−ト
リアジン−５−（４Ｈ）−オン（一般名；メトリブジン
）・２−〔１−（エトキシイミノ）ブチル〕−５−〔２
−（エチルチオ）プロピル〕−３−ヒドロキシ−２−シ
クロヘキセン−１−オン（一般名；セトキシジム）・（
±）−２−〔４，５−ジヒドロ−４−メチル−４−（１
−メチルエチル）−５−オキソ−１Ｈ−イミダゾール−
２−イル〕−５−エチル−３−ピリジンカルボン酸（一
般名；イマゼタピル）・５−〔２−クロロ−４−（トリ
フルオロメチル）フェノキシ〕−Ｎ−（メチルスルホニ
ル）−２−ニトロベンズアミド（一般名；ホメサフェン
）・２−〔４，５−ジヒドロ−４−メチル−４−（１−
メチルエチル）−５−オキソ−１Ｈ−イミダゾール−２
−イル〕−３−キノリンカルボン酸（一般名；イマザキ
ン）・２，６−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジプロピル−４−（
トリフルオロメチル）アニリン（一般名；トリフルラリ
ン）・３−〔（メトキシカルボニル）アミノ〕フェニル
　　（３−メチルフェニル）カーバメート（一般名；フ
ェンメディファム）・エチル　　〔３−〔〔（フェニル
アミノ）カルボニル〕オキシ〕フェニル〕カーバメート
（一般名；デスメディファム）・７−オキサビシクロ〔
２．２．１〕ヘプタン−２，３−ジカルボン酸（一般名
；エンドタール）・エチル　　ジイソプロピルチオカー
バメート（一般名；イーピーティーシー：ＥＰＴＣ）・
２−〔４−〔（３−クロロ−５−（トリフルオロメチル
）−２−ピリジニル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオン
酸メチル（一般名；ハロキシホップ）・（±）−メタン
スルホン酸２−エトキシ−２，３−ジヒドロ−３，３−
ジメチル−５−ベンゾフラニル（一般名；エトフメセー
ト）・５−アミノ−４−クロロ−２−フェニル−３−（
２Ｈ）−ピリダジノン（一般名；クロリダゾン）・２−
〔〔〔〔（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−ト
リアジン−２−イル）アミノ〕カルボニル〕アミノ〕ス
ルホニル〕安息香酸メチル（一般名；メツルフロン−メ
チル）・６−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オ
キソ−２−イミダゾリン−２−イル）−ｍ−トルイル酸
メチル及び２−（４−イソプロピル−４−メチル−５−
オキソ−２−イミダゾリン−２−イル）−Ｐ−トルイル
酸メチル（一般名；イマザメタベンズ）・１，２−ジメ
チル−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾリン　　メチ
ル硫酸塩（一般名；ジフェンゾコート）・３，６−ジク
ロロ−２−メトキシ安息香酸（一般名；ジカンバ）・３
，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（一般
名；ブロモキシニル）・４−ヒドロキシ−３，５−ジヨ
ードベンゾニトリル（一般名；アイオキシニル）・２，
４−ジクロロフェノキシ酢酸（一般名；２，４−ディ−
：２，４−Ｄ）Ｎ′−（３，４−ジクロロフェニル）−
Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素（一般名；ジウロン）・２−〔〔
〔〔Ｎ−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−ト
リアジン−２−イル）メチルアミノ〕カルボニル〕アミ
ノ〕スルホニル〕安息香酸メチル（一般名；トリベンウ
ロン：ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ）・ｓ−（２，３，３−ト
リクロロ−２−プロペニル）−ビス−（１−メチルエチ
ル）　　チオカーバメート（一般名；トリアレート）・
２−クロロ−Ｎ−〔〔（４−メトキシ−６−メチル−１
，３，５−トリアジン−２−イル〕アミノ〕カルボニル
〕ベンゼンスルホンアミド（一般名；クロルスルフロン
）・３−〔〔〔〔（４−メトキシ−６−メチル−１，３
，５−トリアジン−２−イル）アミノ〕カルボニル〕ア
ミノ〕スルホニル〕−２−チオフェンカルボン酸メチル
（一般名；チアメツロン−メチル：ｔｈｉａｍｅｔｕｒ
ｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）・（±）−２−〔４−（２，４−
ジクロロフェノキシ）フェノキシ〕プロピオン酸メチル
（一般名；ジクロホップ−メチル）・４−クロロ−２−
メチルフェノキシ酢酸（一般名；エムシーピーエー：Ｍ
ＣＰＡ）・４−アミノ−６−（１，１−ジメチルエチル
）−３−（メチルチオ）−１，２，４−トリアジン−５
−（４Ｈ）−オン（一般名；メトリブジン）・３，６−
ジクロロ−２−ピリジンカルボン酸（一般名；クロピラ
リド）・４−アミノ−３，５，６−トリクロロ−２−ピ
リジンカルボン酸（一般名；ピクロラム）・Ｏ−（６−
クロロ−３−フェニル−４−ピリダジニル）−Ｓ−オク
チル　　チオカーバメート

【００４６】本発明除草剤の適用範囲は、畑地、果樹園
、桑園などの農耕地、山林、農道、グラウンド、工場敷
地などの非農耕地と多岐にわたり、又適用方法も土壌処
理、茎葉処理を適宜選択できる。

【００４７】

【実施例】以下に本発明化合物の具体的合成例並びに生
物試験例を記載するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００４８】合成例１　　　　４−トリフルオロメチル
−Ｎ−〔６−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕ピリジ
ン−２−イル〕−Ｎ−メチルベンズアミド（後記化合物
Ｎｏ．４８）の合成

【００４９】１）　　２，６−ジクロロピリジン２５０
ｇ、ジメチルスルホキシド５００ｍｌ及び無水炭酸カリ
ウム２５６．８ｇの混合液を１１０℃まで加熱した。こ
の中へ約１時間でベンジルメルカプタン２３０．４ｇを
滴下した。滴下終了後１１０℃でさらに約１時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を１０００ｍｌの水中に
投入し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を１
０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した後、水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。その後減圧下塩化メチレ
ンを留去することによりオイル状の２−ベンジルチオ−
６−クロロピリジン４３０ｇ得た。

【００５０】２）　　２−ベンジルチオ−６−クロロピ
リジン４３０ｇ、酢酸５００ｍｌ及び水９００ｍｌの混
合液を氷冷し、０℃〜５℃で塩素ガスを導入した。過剰
の塩素ガスが認められるまで導入し、反応させた。反応
終了後、反応系内に窒素ガスをバブルし過剰の塩素ガス
を追い出した。反応物を氷水中に投入し、塩化メチレン
抽出を行ない、塩化メチレン層を氷水洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで塩化メチレン溶液を
氷冷し、ターシャリーブチルアミン４０１ｇを約２時間
で滴下し反応させた。反応終了後、水中へ投入し、分液
した。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
塩化メチレンを留去した。残査にエーテルとｎ−ヘキサ
ン混合物を加え結晶化させ、生じた結晶を濾取、減圧乾
燥して６−クロロ−Ｎ−ターシャリーブチル−２−ピリ
ジンスルホンアミド２８０ｇを得た。

【００５１】３）　　６−クロロ−Ｎ−ターシャリーブ
チル−２−ピリジンスルホンアミド２５ｇ、２０％メチ
ルアミン水溶液１５０ｍｌ及び塩化第一銅０．５ｇを２
００ｍｌミニオートクレーブに仕込み、１５０℃で約３
時間反応させた。反応終了後、放冷し、内容物を水中に
投入した。生じた結晶を濾取し、水洗し、乾燥して融点
１５７〜１６０℃の目的物２２．７ｇを得た。

【００５２】４）　　Ｎ−ターシャリーブチル−６−メ
チルアミノ−２−ピリジンスルホンアミド１．０ｇ及び
トリエチルアミン０．４２ｇを１，２−ジクロロエタン
２０ｍｌに溶解させ、室温下で撹拌しているところへ４
−トリフルオロメチルベンゾイルクロライド０．８６ｇ
を加え、その後還流温度で２０時間撹拌下に反応させた
。反応終了後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して融点１６８〜１７０℃のＮ−
〔６−（ターシャリーブチルアミノスルホニル）ピリジ
ン−２−イル〕−４−トリフルオロメチル−Ｎ−メチル
ベンズアミド１．３ｇを得た。

【００５３】５）　　Ｎ−〔６−（ターシャリーブチル
アミノスルホニル）ピリジン−２−イル〕−４−トリフ
ルオロメチル−Ｎ−メチルベンズアミド２．０ｇにトリ
フルオロ酢酸２０ｍｌを加え、室温で２０時間撹拌下に
反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して融点１６０〜１
６２℃のＮ−〔６−（アミノスルホニル）ピリジン−２
−イル〕−４−トリフルオロ−Ｎ−メチルベンズアミド
１．３３ｇを得た。

【００５４】６）　　Ｎ−〔６−（アミノスルホニル）
ピリジン−２−イル〕−４−トリフルオロ−Ｎ−メチル
ベンズアミド１．０ｇ及びフェニル　　（２，４−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）カーバメート０．７６ｇ
をアセトニトリル２０ｍｌに溶解させ、室温下で撹拌し
ているところへ１，８−ジアザヒシクロ〔５．４．０〕
−７−ウンデセン０．４２ｇを加え、その後室温で２０
時間撹拌下に反応させた。反応終了後、反応液に水を加
え、塩酸にて酸性として、酢酸エチル２００ｍｌにて抽
出した。その後芒硝にて乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残査をエーテル−ヘキサン溶液を用いて結晶化
させ、析出した結品を濾取、減圧乾燥して融点１３９〜
１４１℃の目的物１．０ｇを得た。

【００５５】合成例２　　　　６−ブロモ−Ｎ−〔６−
〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミ
ノカルボニル〕アミノスルホニル〕ピリジン−２−イル
〕−Ｎ−メチルピコリン酸アミド（後記化合物Ｎｏ．５
８）の合成

【００５６】１）　　２，６−ジブロモピリジン１１ｇ
、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６０ｍｌ及びシアン化
銅４．３７ｇの混合物を還流下約２時間反応させた。反
応終了後、放冷し、２８％アンモニア水２００ｍｌ中に
投入し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを留去し
、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て融点１０１〜１０４℃の２−ブロモ−６−シアノピリ
ジン１．６ｇを得た。

【００５７】２）　　２−ブロモ−６−シアノピリジン
１．４ｇ、水酸化ナトリウム０．４６ｇ及び水１５ｍｌ
の混合物を還流下約１時間反応させた。反応終了後、放
冷し、水中に投入した。塩化メチレン５０ｍｌで洗浄し
た後、水層を濃塩酸でｐＨ２にすると結晶が析出した。生じた結晶を濾取し、減圧乾燥して６−ブロモピコリン
酸１．１７ｇを得た。

【００５８】３）　　６−ブロモピコリン酸１．１６ｇ
及びオキシ塩化リン１５ｍｌの混合液を還流下約３時間
反応させた。反応終了後、過剰のオキシ塩化リンを減圧
留去し、残査に１，２−ジクロロエタン２５ｍｌを加え
、さらにＮ−ターシャリーブチル−６−メチルアミノピ
リジン−２−イルスルホンアミド１．３ｇを加えた。こ
の中に室温でトリエチルアミン０．８１ｇを約１５分に
わたって滴下した。滴下終了後室温で約１時間反応させ
た。反応終了後、反応液を水中に投入し、塩化メチレン
抽出を行った。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、塩化メチレンを留去した。残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して融点１７４〜１
７６℃の６−ブロモ−Ｎ−（６−ターシャリーブチルア
ミノスルホニルピリジン−２−イル）−Ｎ−メチルピコ
リンアミド２．０１ｇを得た。

【００５９】４）　　６−ブロモ−Ｎ−（６−ターシャ
リーブチルアミノスルホニルピリジン−２−イル）−Ｎ
−メチルピコリン酸アミド１．６ｇ及びトリフルオロ酢
酸２０ｍｌの混合物を室温で３時間、続いて４０℃で１
時間反応させた。反応終了後、過剰のトリフルオロ酢酸
を留去し、残査にエーテルを加えて結晶化させた。生じ
た結晶を濾取し、減圧乾燥して融点１７８〜１８２℃の
Ｎ−（６−アミノスルホニルピリジン−２−イル）−６
−ブロモ−Ｎ−メチルピコリン酸アミド１．２４ｇを得
た。

【００６０】５）　　Ｎ−（６−アミノスルホニルピリ
ジン−２−イル）−６−ブロモ−Ｎ−メチルピコリン酸
アミド０．２５ｇ、フェニル（２，４−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）カーバメイト０．１９ｇ及びアセト
ニトリル５ｍｌの混合物に室温で１，８−ジアザビシク
ロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン０．１ｇを加えたの
ち室温で１０分間反応させた。反応終了後、反応混合物
を水中に投入し塩酸にて弱酸性にして析出した固体を濾
取し、水洗し、乾燥して融点１８０〜１８５℃の目的物
０．３４ｇを得た。

【００６１】前記合成例に準じて製造される一般式（Ｉ
Ｉ−１）で表わされる化合物の代表例を第１表に挙げる
。

【００６２】

【表１】

【００６３】

【表２】

【００６４】

【表３】

【００６５】

【表４】

【００６６】

【表５】

【００６７】

【表６】

【００６８】次に前記合成例に準じて製造される一般式
（Ｉ）で表わされる化合物の代表例を第２表に挙げる。

【００６９】

【表７】

【００７０】

【表８】

【００７１】

【表９】

【００７２】

【表１０】

【００７３】

【表１１】

【００７４】

【表１２】

【００７５】

【表１３】

【００７６】

【表１４】

【００７７】

【表１５】

【００７８】試験例１１／１，５００アールポットに畑
作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植
物が一定の葉令（イネ１．３〜３．７葉期、ダイズ初生
葉〜１．５葉期、トウモロコシ２．０〜４．３葉期、ワ
タ子葉〜１．２葉期、コムギ２．０〜２．８葉期、オナ
モミ１．７〜３．５葉期、アサガオ０．２〜２．５葉期
、アメリカキンゴジカ０．１〜２．５葉期、アオビユ０
．１〜２．５葉期、ヒエ１．５〜４．０葉期、メヒシバ
１．２〜２．０葉期）に達したとき、本発明除草剤の水
和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リット
ルの水に希釈した。更にその水溶液に農業展着剤を０．
２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理した
。処理後１８〜３５日目に各種植物の生育状態を肉眼で
観察調査をおこない、１０段階（１：無処理区と同様〜
１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第３表の
結果を得た。

【００７９】

【表１６】

【００８０】

【表１７】

【００８１】

【表１８】

【００８２】

【表１９】

【００８３】

【表２０】

【００８４】

【表２１】

【００８５】

【表２２】

【００８６】試験例２１／１０，０００アールポットに
畑作土壌をつめ、コムギ及びワイルドオートの種子を各
々別のポットに播種した。その後、コムギが１．８〜２
．５葉期、ワイルドオートが１．１〜１．５葉期に達し
たとき、本発明除草剤の水和剤を所定量となるように秤
量し、アール当り５リットルの水に希釈した。更にその
水溶液に農業展着剤を０．２％となるように加えて、小
型スプレーで茎葉処理した。処理後２０〜２３日目に各
種植物の成育状態を肉眼で観察調査をおこない、前記試
験例１と同様の方法で生育抑制程度を評価し、第４表の
結果を得た。

【００８７】

【表２３】

【００８８】試験例３１／１０，０００アールポットに
畑作土壌をつめ、テンサイ（シュガービート）の種子を
播種した。その後テンサイが２葉期に達したとき、本発
明除草剤の水和剤を所定量となるように秤量し、アール
当り５リットルの水に希釈した。更にその水溶液に農業
展着剤を０．２％となるように加えて、小型スプレーで
茎葉処理した。処理後１８日目に各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査をおこない、前記試験例１と同様の方法
で生育抑制程度を評価し、第５表の結果を得た。

【００８９】

【表２４】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ１はシクロアルキル基、アルコキシアルキル
基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいピ
リジル基、置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいピラゾリル基又は置換
されてもよいピラジニル基であり、Ｒ２はアルキル基、
ハロアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基又はベ
ンジル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はハロアルキル基であり、Ｘ及びＹは各々独立
してハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロ
アルコキシ基であり、Ａは＝ＣＨ−又は＝Ｎ−である）
で表わされるスルホニル尿素系化合物又はそれらの塩。
【請求項２】　　一般式（ＩＩ）【化２】（式中、Ｒ１はシクロアルキル基、アルコキシアルキル
基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいピ
リジル基、置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいピラゾリル基又は置換
されてもよいピラジニル基であり、Ｒ２はアルキル基、
ハロアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基又はベ
ンジル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はハロアルキル基であり、Ｚ１は−ＮＨ２基、
−ＮＣＯ基又は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基であり、Ｒ４はアル
キル基又はアリール基である）で表わされる置換ピリジ
ン系化合物と、一般式（ＩＩＩ）【化３】（式中、Ｘ及びＹは各々独立してハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基であり、Ａは
＝ＣＨ−又は＝Ｎ−であり、Ｚ２はＺ１が−ＮＣＯ基又
は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基の場合−ＮＨ２基であり、Ｚ１が
−ＮＨ２基の場合−ＮＣＯ基又は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基で
あり、Ｒ４は前述の通りである）で表わされるピリミジ
ン系化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（
Ｉ）【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙ及びＡは前述の通り
である）で表わされるスルホニル尿素系化合物又はそれ
らの塩の製造方法。
【請求項３】　　一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ１はシクロアルキル基、アルコキシアルキル
基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいピ
リジル基、置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいピラゾリル基又は置換
されてもよいピラジニル基であり、Ｒ２はアルキル基、
ハロアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基又はベ
ンジル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はハロアルキル基であり、Ｘ及びＹは各々独立
してハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロ
アルコキシ基であり、Ａは＝ＣＨ−又は＝Ｎ−である）
で表わされるスルホニル尿素系化合物又はそれらの塩を
有効成分とすることを特徴とする除草剤。
【請求項４】　　一般式（ＩＩ−１）【化４】（式中、Ｒ１はシクロアルキル基、アルコキシアルキル
基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいピ
リジル基、置換されてもよいチエニル基、置換されても
よいフリル基、置換されてもよいピラゾリル基又は置換
されてもよいピラジニル基であり、Ｒ２はアルキル基、
ハロアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基又はベ
ンジル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はハロアルキル基である）で表わされる置換ピ
リジン系化合物。