JPH04254350A - マルチチャンバプロセス装置を用いたウエハ処理方法 - Google Patents
マルチチャンバプロセス装置を用いたウエハ処理方法Info
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- JPH04254350A JPH04254350A JP3015136A JP1513691A JPH04254350A JP H04254350 A JPH04254350 A JP H04254350A JP 3015136 A JP3015136 A JP 3015136A JP 1513691 A JP1513691 A JP 1513691A JP H04254350 A JPH04254350 A JP H04254350A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造工程
で用いられるマルチチャンバプロセス装置に関する。
で用いられるマルチチャンバプロセス装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＩＣパターンの微細化に伴い、プ
ロセスの高精度化，複雑化，ウエハの大口径化など多様
性が求められている。このような背景において、複合プ
ロセスの増加や、枚葉式化に伴うスループットの向上の
関点からマルチチャンバプロセス装置が注目を集めてい
る。
ロセスの高精度化，複雑化，ウエハの大口径化など多様
性が求められている。このような背景において、複合プ
ロセスの増加や、枚葉式化に伴うスループットの向上の
関点からマルチチャンバプロセス装置が注目を集めてい
る。
【０００３】従来、この種のマルチチャンバプロセス装
置としては、図３に示すようなものが知られている。こ
の装置は、予備排気機能及びウエハ搬送アーム１Ａを有
するウエハ搬送用チャンバ１の周側部に複数（図では２
つ）のプロセスチャンバ２と、ウエハロード室３が接続
，固定されて大略構成されている。プロセスチャンバ２
は、図４に示すように、下部に温度調節機構，圧力調節
機構等の調節機構４が設けられており、ウエハ搬送用チ
ャンバ１に組み付けた際にウエハ搬送用チャンバ１の開
口１ａに対面する側壁には、ウエハ搬送アーム１Ａによ
りウエハが搬入，搬出されるゲートバルブ２Ａが設けら
れている。このゲートバルブ２Ａは、開閉して窓開け，
窓閉めを行うようになっている。そして、このプロセス
チャンバ２のゲートバルブ２Ａが設けられている側壁２
Ｂの周縁部には、ボルト挿通孔２ｂが複数開設されてお
り、ウエハ搬送用チャンバ１とプロセスチャンバ２とは
、図５に示すように、このボルト挿通孔２ｂにボルト５
を挿入して螺子締めして接続，固定されるようになって
いる。
置としては、図３に示すようなものが知られている。こ
の装置は、予備排気機能及びウエハ搬送アーム１Ａを有
するウエハ搬送用チャンバ１の周側部に複数（図では２
つ）のプロセスチャンバ２と、ウエハロード室３が接続
，固定されて大略構成されている。プロセスチャンバ２
は、図４に示すように、下部に温度調節機構，圧力調節
機構等の調節機構４が設けられており、ウエハ搬送用チ
ャンバ１に組み付けた際にウエハ搬送用チャンバ１の開
口１ａに対面する側壁には、ウエハ搬送アーム１Ａによ
りウエハが搬入，搬出されるゲートバルブ２Ａが設けら
れている。このゲートバルブ２Ａは、開閉して窓開け，
窓閉めを行うようになっている。そして、このプロセス
チャンバ２のゲートバルブ２Ａが設けられている側壁２
Ｂの周縁部には、ボルト挿通孔２ｂが複数開設されてお
り、ウエハ搬送用チャンバ１とプロセスチャンバ２とは
、図５に示すように、このボルト挿通孔２ｂにボルト５
を挿入して螺子締めして接続，固定されるようになって
いる。
【０００４】なお、他の従来技術としては、「１９９０
年月刊ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＷｏｒｌｄ増刊号」
第２８４頁〜第２９７頁に記載の装置、及び特開昭６１
−５５９２６号公報記載の装置等が知られている。これ
らの従来技術においても上記従来例と同様のプロセスチ
ャンバ組付け構造を有している。
年月刊ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＷｏｒｌｄ増刊号」
第２８４頁〜第２９７頁に記載の装置、及び特開昭６１
−５５９２６号公報記載の装置等が知られている。これ
らの従来技術においても上記従来例と同様のプロセスチ
ャンバ組付け構造を有している。
【０００５】このようなマルチチャンバプロセス装置は
、プロセスに適したチャンバ（モジュール）を選択し仕
様の最適化が図られている。
、プロセスに適したチャンバ（モジュール）を選択し仕
様の最適化が図られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような従来装置に
おいて、例えば一つのプロセスチャンバにトラブルが生
じたり、または膜形成を重ねてゆくにつれ、パーティク
ルレベルが悪化し、ついにはメカニカルクリーニング等
が必要となった場合、該当プロセスチャンバの修理等を
行なわなければならない。この場合、該当プロセスチャ
ンバ２をウエハ搬送用チャンバ１から取り外して分解修
理しなくてはならず、このため、ウエハ搬送用チャンバ
１はプロセスチャンバ２の取り外し箇所で開放状態とな
るため、他のプロセスチャンバ２へのウエハ搬送，他の
プロセスチャンバ２での処理等が行なえなくなり、装置
全体を停止しなければならない。このため、ダウンタイ
ムが、プロセスチャンバの数に比例して多くなるという
問題を有していた。特に、従来装置においては、図５に
示すように、プロセスチャンバ２の壁板２Ｃを取り外し
た後、ボルト５〜５を外すという作業が要請されるため
、プロセスチャンバ２の組付け，組外しが煩雑であると
いう問題があった。
おいて、例えば一つのプロセスチャンバにトラブルが生
じたり、または膜形成を重ねてゆくにつれ、パーティク
ルレベルが悪化し、ついにはメカニカルクリーニング等
が必要となった場合、該当プロセスチャンバの修理等を
行なわなければならない。この場合、該当プロセスチャ
ンバ２をウエハ搬送用チャンバ１から取り外して分解修
理しなくてはならず、このため、ウエハ搬送用チャンバ
１はプロセスチャンバ２の取り外し箇所で開放状態とな
るため、他のプロセスチャンバ２へのウエハ搬送，他の
プロセスチャンバ２での処理等が行なえなくなり、装置
全体を停止しなければならない。このため、ダウンタイ
ムが、プロセスチャンバの数に比例して多くなるという
問題を有していた。特に、従来装置においては、図５に
示すように、プロセスチャンバ２の壁板２Ｃを取り外し
た後、ボルト５〜５を外すという作業が要請されるため
、プロセスチャンバ２の組付け，組外しが煩雑であると
いう問題があった。
【０００７】本発明は、このような従来の問題点に着目
して創案されたものであって、プロセスチャンバの修理
，維持管理が容易に行なえ、且つ他のプロセスチャンバ
の停止を要することのないマルチチャンバプロセス装置
を得んとするものである。
して創案されたものであって、プロセスチャンバの修理
，維持管理が容易に行なえ、且つ他のプロセスチャンバ
の停止を要することのないマルチチャンバプロセス装置
を得んとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、ウエ
ハを枚葉処理するプロセスチャンバを、ウエハ搬送用チ
ャンバに複数、夫々ゲートバルブを介して連通可能とな
るように並列に接続すると共に、搬送用チャンバと各プ
ロセスチャンバとの間でウエハを前記ゲートバルブを介
して搬入，搬出する搬送手段を備えてなるマルチチャン
バプロセス装置において、前記プロセスチャンバを前記
ウエハ搬送用チャンバに対して、該ウエハ搬送用チャン
バが閉塞した状態で着脱自在に接続したことを、その解
決手段としている。
ハを枚葉処理するプロセスチャンバを、ウエハ搬送用チ
ャンバに複数、夫々ゲートバルブを介して連通可能とな
るように並列に接続すると共に、搬送用チャンバと各プ
ロセスチャンバとの間でウエハを前記ゲートバルブを介
して搬入，搬出する搬送手段を備えてなるマルチチャン
バプロセス装置において、前記プロセスチャンバを前記
ウエハ搬送用チャンバに対して、該ウエハ搬送用チャン
バが閉塞した状態で着脱自在に接続したことを、その解
決手段としている。
【０００９】
【作用】プロセスチャンバをウエハ搬送用チャンバから
脱した場合に、ウエハ搬送用チャンバが閉塞した状態を
保つことができるため、ウエハ搬送用チャンバ内の圧力
を変化させることがなく、また、ウエハ搬送用チャンバ
内へ大気からのコンタミが侵入することが防止されてい
る。このため、ウエハ搬送用チャンバ及び他のプロセス
チャンバの稼働を停止することを要さない。
脱した場合に、ウエハ搬送用チャンバが閉塞した状態を
保つことができるため、ウエハ搬送用チャンバ内の圧力
を変化させることがなく、また、ウエハ搬送用チャンバ
内へ大気からのコンタミが侵入することが防止されてい
る。このため、ウエハ搬送用チャンバ及び他のプロセス
チャンバの稼働を停止することを要さない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明に係るマルチチャンバプロセス
装置の詳細を図面に示す実施例に基づいて説明する。
装置の詳細を図面に示す実施例に基づいて説明する。
【００１１】本実施例のマルチチャンバプロセス装置は
、図１に示すような構成となっている。同図中１０はマ
ルチチャンバプロセス装置であって、この装置１０は、
ウエハロード室１１と、ウエハロード室１１にゲートバ
ルブ１２を介して接続されたバッファチャンバ１３と、
このバッファチャンバ１３にゲートバルブ１４を介して
接続されたウエハ搬送用チャンバ１５と、このウエハ搬
送用チャンバ１５に夫々ゲートバルブ１６Ａ，１６Ｂ，
１６Ｃを介して連通可能に接続されたプロセスチャンバ
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃとから大略構成されている。
、図１に示すような構成となっている。同図中１０はマ
ルチチャンバプロセス装置であって、この装置１０は、
ウエハロード室１１と、ウエハロード室１１にゲートバ
ルブ１２を介して接続されたバッファチャンバ１３と、
このバッファチャンバ１３にゲートバルブ１４を介して
接続されたウエハ搬送用チャンバ１５と、このウエハ搬
送用チャンバ１５に夫々ゲートバルブ１６Ａ，１６Ｂ，
１６Ｃを介して連通可能に接続されたプロセスチャンバ
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃとから大略構成されている。
【００１２】上記ウエハロード室１１は、複数のウエハ
ａが収納されたウエハカセット１８が配置され装置１０
にウエハａを供給し得るようになっている。
ａが収納されたウエハカセット１８が配置され装置１０
にウエハａを供給し得るようになっている。
【００１３】バッファチャンバ１３は、予備排気機能を
有し、内部にウエハを搬送するウエハ搬送アーム１９が
設けられている。ウエハ搬送用チャンバ１５にも、ウエ
ハ搬送アーム２０が設けられていて、各プロセスチャン
バ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃにウエハａを搬送し得るよう
になっている。
有し、内部にウエハを搬送するウエハ搬送アーム１９が
設けられている。ウエハ搬送用チャンバ１５にも、ウエ
ハ搬送アーム２０が設けられていて、各プロセスチャン
バ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃにウエハａを搬送し得るよう
になっている。
【００１４】また、ゲートバルブ１６Ａ，１６Ｂ，１６
Ｃは、ウエハ搬送用チャンバ１５側に設けられている。 このゲートバルブ１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃの外側には、
夫々フランジ部２１ａ，２２ａ，２３ａが形成された連
絡管２１，２２，２３が設けられている。プロセスチャ
ンバ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ側には、夫々接続端部にフ
ランジ部１７ａ，１７ｂ，１７ｃが形成されている。そ
して、ウエハ搬送用チャンバ１５側のフランジ部２１ａ
，２２ａ，２３ａは、夫々に配設されるプロセスチャン
バ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃに形成されたフランジ部１７
ａ，１７ｂ，１７ｃとＯリング２９を介して圧接され、
複数のクランプ２４〜２４で着脱自在に係止されている
。
Ｃは、ウエハ搬送用チャンバ１５側に設けられている。 このゲートバルブ１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃの外側には、
夫々フランジ部２１ａ，２２ａ，２３ａが形成された連
絡管２１，２２，２３が設けられている。プロセスチャ
ンバ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ側には、夫々接続端部にフ
ランジ部１７ａ，１７ｂ，１７ｃが形成されている。そ
して、ウエハ搬送用チャンバ１５側のフランジ部２１ａ
，２２ａ，２３ａは、夫々に配設されるプロセスチャン
バ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃに形成されたフランジ部１７
ａ，１７ｂ，１７ｃとＯリング２９を介して圧接され、
複数のクランプ２４〜２４で着脱自在に係止されている
。
【００１５】さらに、プロセスチャンバ１７Ａ，１７Ｂ
，１７Ｃは、夫々２条のガイドレール２５ａ，２５ｂの
上に車輪を介して走行可能に載置されている。また、プ
ロセスチャンバ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃに連結される反
応性ガス等のガス導入管２７や排気管２８等その他電気
系配線（図示省略）は、可撓性を有すると共に、ガイド
レール２５ａ，２５ｂ上をプロセスチャンバが走行し得
るように、充分な長さが確保されている。
，１７Ｃは、夫々２条のガイドレール２５ａ，２５ｂの
上に車輪を介して走行可能に載置されている。また、プ
ロセスチャンバ１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃに連結される反
応性ガス等のガス導入管２７や排気管２８等その他電気
系配線（図示省略）は、可撓性を有すると共に、ガイド
レール２５ａ，２５ｂ上をプロセスチャンバが走行し得
るように、充分な長さが確保されている。
【００１６】本実施例は、このような構成としたことに
より、ウエハ搬送用チャンバ１５とプロセスチャンバ１
７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃとの着脱が容易となり、例えば、
プロセスチャンバ１７Ａに修理等が必要となった場合、
ゲートバルブ１６Ａを閉じた状態でクランプ２４〜２４
を脱し、プロセスチャンバ１７Ａをガイドレール２５ａ
，２５ｂに沿ってウエハ搬送用チャンバ１５から離して
作業空間を確保することが可能になる。なお、この間、
他のプロセスチャンバ１７Ｂ，１７Ｃの稼働は停止させ
る必要はなく、従来のように、装置全体の稼働停止をす
ることが回避できる。
より、ウエハ搬送用チャンバ１５とプロセスチャンバ１
７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃとの着脱が容易となり、例えば、
プロセスチャンバ１７Ａに修理等が必要となった場合、
ゲートバルブ１６Ａを閉じた状態でクランプ２４〜２４
を脱し、プロセスチャンバ１７Ａをガイドレール２５ａ
，２５ｂに沿ってウエハ搬送用チャンバ１５から離して
作業空間を確保することが可能になる。なお、この間、
他のプロセスチャンバ１７Ｂ，１７Ｃの稼働は停止させ
る必要はなく、従来のように、装置全体の稼働停止をす
ることが回避できる。
【００１７】以上、本実施例について説明したが、本発
明は、上記実施例に限定されるものではなく、実質的に
、プロセスチャンバをウエハ搬送用チャンバに対して、
ウエハ搬送用チャンバが閉塞した状態で着脱自在に接続
した構成であればよい。
明は、上記実施例に限定されるものではなく、実質的に
、プロセスチャンバをウエハ搬送用チャンバに対して、
ウエハ搬送用チャンバが閉塞した状態で着脱自在に接続
した構成であればよい。
【００１８】例えば上記実施例においては、プロセスチ
ャンバとウエハ搬送用チャンバとをクランプで係止した
が、両チャンバフランジ部どうしを他の係止手段で係止
しても勿論よい。
ャンバとウエハ搬送用チャンバとをクランプで係止した
が、両チャンバフランジ部どうしを他の係止手段で係止
しても勿論よい。
【００１９】また、ウエハ搬送用チャンバ及びプロセス
チャンバの数は複合プロセスに応じて適宜変更可能であ
ることは言うまでもない。
チャンバの数は複合プロセスに応じて適宜変更可能であ
ることは言うまでもない。
【００２０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るマルチチャンバプロセス装置によれば、装置全体
の稼働を停止させることなく、プロセスチャンバの修理
，維持管理等を簡便に行なうことができる効果がある。
に係るマルチチャンバプロセス装置によれば、装置全体
の稼働を停止させることなく、プロセスチャンバの修理
，維持管理等を簡便に行なうことができる効果がある。
【図１】 本発明の実施例に係るマルチチャンバプロ
セス装置の平面図。
セス装置の平面図。
【図２】 同実施例の要部断面図。
【図３】 従来例の平面説明図。
【図４】 従来のプロセスチャンバの正面図。
【図５】 従来例の要部断面図。
１０…マルチチャンバプロセス装置、１５…ウエハ搬送
用チャンバ、１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ…ゲートバルブ、
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ…プロセスチャンバ、２０…ウ
エハ搬送アーム（ウエハ搬送手段）、２４…クランプ。
用チャンバ、１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ…ゲートバルブ、
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ…プロセスチャンバ、２０…ウ
エハ搬送アーム（ウエハ搬送手段）、２４…クランプ。
Claims (1)
- 【請求項１】 ウエハを枚葉処理するプロセスチャン
バを、ウエハ搬送用チャンバに複数、夫々ゲートバルブ
を介して連通可能となるように並列に接続すると共に、
搬送用チャンバと各プロセスチャンバとの間でウエハを
前記ゲートバルブを介して搬入，搬出する搬送手段を備
えてなるマルチチャンバプロセス装置において、前記プ
ロセスチャンバを前記ウエハ搬送用チャンバに対して、
該ウエハ搬送用チャンバが閉塞した状態で着脱自在に接
続したことを特徴とするマルチチャンバプロセス装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1513691A JP3097136B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | マルチチャンバプロセス装置を用いたウエハ処理方法 |
| KR1019920001424A KR100267583B1 (ko) | 1991-02-06 | 1992-01-31 | 멀티챔버 프로세스장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1513691A JP3097136B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | マルチチャンバプロセス装置を用いたウエハ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254350A true JPH04254350A (ja) | 1992-09-09 |
| JP3097136B2 JP3097136B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=11880405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1513691A Expired - Lifetime JP3097136B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | マルチチャンバプロセス装置を用いたウエハ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3097136B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0794488A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-04-07 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置集合体のクリーニング方法 |
| EP0824266A2 (en) * | 1996-08-05 | 1998-02-18 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| JP2001509648A (ja) * | 1997-07-11 | 2001-07-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 流体分配システム及び方法 |
| JP2002313873A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Daihen Corp | 搬送ロボット移転対応型搬送装置及び搬送ロボット移転方法 |
| JP2004221197A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2006210370A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | チャンバー接続装置 |
| US8828528B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-09-09 | Sony Corporation | Barrier film and method of manufacturing the same |
-
1991
- 1991-02-06 JP JP1513691A patent/JP3097136B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0794488A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-04-07 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置集合体のクリーニング方法 |
| EP0824266A2 (en) * | 1996-08-05 | 1998-02-18 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
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| JP2002313873A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Daihen Corp | 搬送ロボット移転対応型搬送装置及び搬送ロボット移転方法 |
| JP2004221197A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2006210370A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | チャンバー接続装置 |
| US8828528B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-09-09 | Sony Corporation | Barrier film and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3097136B2 (ja) | 2000-10-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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