JPH04255818A - 光記録装置 - Google Patents
光記録装置Info
- Publication number
- JPH04255818A JPH04255818A JP3017543A JP1754391A JPH04255818A JP H04255818 A JPH04255818 A JP H04255818A JP 3017543 A JP3017543 A JP 3017543A JP 1754391 A JP1754391 A JP 1754391A JP H04255818 A JPH04255818 A JP H04255818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- photosensitive drum
- depth
- beam diameter
- Prior art date
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- Pending
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザービームプリンタ
等に用いられるレーザーを使用した光記録装置に関する
。
等に用いられるレーザーを使用した光記録装置に関する
。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザー光を感光体上に走査して
画像を記録する装置は、レーザービームプリンタ等に広
く用いられている。
画像を記録する装置は、レーザービームプリンタ等に広
く用いられている。
【０００３】以下図面を参照しながら、従来の光記録装
置の一例について説明する。図８は従来の光記録装置の
概略を示すものである。図８において、１は半導体レー
ザー、３は半導体レーザー１より出射されたレーザー光
、５はコリメーターレンズ、７は第１の結像レンズ系、
１０はポリゴンミラー、１１はモーター、１２は第２の
結像レンズ系、１３は感光ドラムである。
置の一例について説明する。図８は従来の光記録装置の
概略を示すものである。図８において、１は半導体レー
ザー、３は半導体レーザー１より出射されたレーザー光
、５はコリメーターレンズ、７は第１の結像レンズ系、
１０はポリゴンミラー、１１はモーター、１２は第２の
結像レンズ系、１３は感光ドラムである。
【０００４】以上のように構成された光記録装置につい
て、以下その動作について説明する。
て、以下その動作について説明する。
【０００５】まず、画像信号に対応して半導体レーザー
１からレーザー光３が出射され、コリメーターレンズ５
によって平行光に変換された後、第１の結像レンズ系７
によってポリゴンミラー１０の反射面上に結像される。 ポリゴンミラー１０はモーター１１により回転させられ
、ポリゴンミラー１０によりレーザー光３は走査される
。その後、第２の結像レンズ系１２により感光ドラム１
３上に結像される。
１からレーザー光３が出射され、コリメーターレンズ５
によって平行光に変換された後、第１の結像レンズ系７
によってポリゴンミラー１０の反射面上に結像される。 ポリゴンミラー１０はモーター１１により回転させられ
、ポリゴンミラー１０によりレーザー光３は走査される
。その後、第２の結像レンズ系１２により感光ドラム１
３上に結像される。
【０００６】図９は図８の位置Ａおよび位置Ｂにおける
レーザー光の強度分布を示す。図９において、Ｄは感光
ドラム１３の感光レベルを示し、Ｄ以上のエネルギーを
持つレーザー光が感光ドラム１３に入射した場合に記録
が行われる。したがって、感光ドラム１３の感光面が位
置Ａ，位置Ｂにあるとき記録されるビーム径はそれぞれ
図９に示すｄａ，ｄｂとなる。
レーザー光の強度分布を示す。図９において、Ｄは感光
ドラム１３の感光レベルを示し、Ｄ以上のエネルギーを
持つレーザー光が感光ドラム１３に入射した場合に記録
が行われる。したがって、感光ドラム１３の感光面が位
置Ａ，位置Ｂにあるとき記録されるビーム径はそれぞれ
図９に示すｄａ，ｄｂとなる。
【０００７】図１０は光軸方向位置と記録されるビーム
径との関係を示す図である。ここでビーム径の許容寸法
ｄｋが ｄｂ≦ｄｋ≦ｄａ である場合、位置Ａか
ら位置Ｃまでの間ｌが許容される記録ビーム径を得るこ
とのできる範囲（以下焦点深度範囲と称する）となる。
径との関係を示す図である。ここでビーム径の許容寸法
ｄｋが ｄｂ≦ｄｋ≦ｄａ である場合、位置Ａか
ら位置Ｃまでの間ｌが許容される記録ビーム径を得るこ
とのできる範囲（以下焦点深度範囲と称する）となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の光記録装置では、焦点深度範囲が短く、またレンズ
等各部品精度のばらつきもあり、感光ドラム１３の正面
が焦点深度範囲内に位置しないことが多かった。そこで
許容される記録ビーム径を得るため、感光ドラム１３の
表面に焦点深度範囲が位置するように前記第１の結像レ
ンズ系７、第２の結像レンズ系１２、感光ドラム１３等
の位置調整を行っていたが、この位置調整機構は複雑で
あり、多大な調整時間を要するという問題を有していた
。
来の光記録装置では、焦点深度範囲が短く、またレンズ
等各部品精度のばらつきもあり、感光ドラム１３の正面
が焦点深度範囲内に位置しないことが多かった。そこで
許容される記録ビーム径を得るため、感光ドラム１３の
表面に焦点深度範囲が位置するように前記第１の結像レ
ンズ系７、第２の結像レンズ系１２、感光ドラム１３等
の位置調整を行っていたが、この位置調整機構は複雑で
あり、多大な調整時間を要するという問題を有していた
。
【０００９】本発明は上記問題点に鑑み、焦点深度範囲
が長く、焦点深度範囲位置調整の不要な光記録装置を提
供することを目的とする。
が長く、焦点深度範囲位置調整の不要な光記録装置を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の光記録装置は、複数のレーザー光を、光学系
により感光体上に結像する構成において、前記複数のレ
ーザー光各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にず
れるようにしたものである。
に本発明の光記録装置は、複数のレーザー光を、光学系
により感光体上に結像する構成において、前記複数のレ
ーザー光各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にず
れるようにしたものである。
【００１１】
【作用】本発明は上記した構成によって、複数のレーザ
ー光各々が最小ビーム径となる位置が異なるため、合成
された焦点深度範囲が長くなり、焦点深度範囲位置調整
を不要にすることができる。
ー光各々が最小ビーム径となる位置が異なるため、合成
された焦点深度範囲が長くなり、焦点深度範囲位置調整
を不要にすることができる。
【００１２】
【実施例】以下本発明の一実施例の光記録装置について
、図面を参照しながら説明する。
、図面を参照しながら説明する。
【００１３】図１は本発明の光記録装置における一実施
例の概略構成図である。図１において、１および２は半
導体レーザー、３および４はそれぞれ半導体レーザー１
および２から出射されたレーザー光、５および６はコリ
メーターレンズ、７および８は第１の結像レンズ系、９
はハーフミラー、１０はポリゴンミラー、１１はモータ
ー、１２は第２の結像レンズ系、１３は感光ドラムであ
る。
例の概略構成図である。図１において、１および２は半
導体レーザー、３および４はそれぞれ半導体レーザー１
および２から出射されたレーザー光、５および６はコリ
メーターレンズ、７および８は第１の結像レンズ系、９
はハーフミラー、１０はポリゴンミラー、１１はモータ
ー、１２は第２の結像レンズ系、１３は感光ドラムであ
る。
【００１４】以上のように構成された光記録装置につい
て、以下その動作について説明する。
て、以下その動作について説明する。
【００１５】まず、画像信号に対応して半導体レーザー
１および２からレーザー光３および４が出射され、コリ
メーターレンズ５および６によって平行光に変換された
後、第１の結像レンズ系７および８によってポリゴンミ
ラー１０の反射面上に結像される。ここでレーザー光４
については、ハーフミラー９によって、レーザー光３と
、光軸およびポリゴンミラー１０への入射タイミングを
一致させる。ポリゴンミラー１０はモーター１１により
回転させられ、ポリゴンミラー１０によりレーザー光は
走査される。その後、第２の結像レンズ系１２により、
レーザー光３は感光ドラム１３の表面より光路長方向や
や手前のＥ点で、レーザー光４は感光ドラム１３の表面
より光路長方向やや奥のＦ点でそれぞれビーム径が最小
となるように結像される。
１および２からレーザー光３および４が出射され、コリ
メーターレンズ５および６によって平行光に変換された
後、第１の結像レンズ系７および８によってポリゴンミ
ラー１０の反射面上に結像される。ここでレーザー光４
については、ハーフミラー９によって、レーザー光３と
、光軸およびポリゴンミラー１０への入射タイミングを
一致させる。ポリゴンミラー１０はモーター１１により
回転させられ、ポリゴンミラー１０によりレーザー光は
走査される。その後、第２の結像レンズ系１２により、
レーザー光３は感光ドラム１３の表面より光路長方向や
や手前のＥ点で、レーザー光４は感光ドラム１３の表面
より光路長方向やや奥のＦ点でそれぞれビーム径が最小
となるように結像される。
【００１６】図２は図１の位置Ｅにおけるレーザー光の
強度分布を示す。ここでＰはレーザー光３の強度分布を
示し、Ｑはレーザー光４の強度分布を示し、Ｐ＋Ｑは上
記２種のレーザー光の合成強度分布を示す。図２におい
て、Ｄ１は感光ドラム１３の感光レベルを示し、Ｄ１以
上のエネルギーを持つレーザー光が感光ドラム１３に入
射した場合に記録が行われる。したがって、Ｐ，Ｑおよ
びＰ＋Ｑに対応する記録ビーム径はそれぞれｄｐ，ｄｑ
，ｄｐ＋ｑとなる。
強度分布を示す。ここでＰはレーザー光３の強度分布を
示し、Ｑはレーザー光４の強度分布を示し、Ｐ＋Ｑは上
記２種のレーザー光の合成強度分布を示す。図２におい
て、Ｄ１は感光ドラム１３の感光レベルを示し、Ｄ１以
上のエネルギーを持つレーザー光が感光ドラム１３に入
射した場合に記録が行われる。したがって、Ｐ，Ｑおよ
びＰ＋Ｑに対応する記録ビーム径はそれぞれｄｐ，ｄｑ
，ｄｐ＋ｑとなる。
【００１７】このとき鮮明な像を結ぶためのビーム径の
許容寸法ｄｋが ｄｂ≦ｄｋ≦ｄａであるとすると、
ビーム径がこの範囲内にあるのはｄｐのみであり、した
がってレーザー光３単独では許容寸法のビーム径が形成
されるが、レーザー光４単独およびレーザー光３または
４合成では許容寸法のビーム径は形成されない。
許容寸法ｄｋが ｄｂ≦ｄｋ≦ｄａであるとすると、
ビーム径がこの範囲内にあるのはｄｐのみであり、した
がってレーザー光３単独では許容寸法のビーム径が形成
されるが、レーザー光４単独およびレーザー光３または
４合成では許容寸法のビーム径は形成されない。
【００１８】ここで、感光ドラム１３の感光レベルを図
２におけるＤ２に変更すると、許容ビーム径となるのは
ｄｐ＋ｑのみであり、したがってレーザー光３および４
合成は許容寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光
３または４単独では許容寸法のビーム径は形成されない
。
２におけるＤ２に変更すると、許容ビーム径となるのは
ｄｐ＋ｑのみであり、したがってレーザー光３および４
合成は許容寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光
３または４単独では許容寸法のビーム径は形成されない
。
【００１９】また、半導体レーザー１および２の出力を
２分の１にした場合の、位置Ｅにおけるレーザー光の強
度分布を示したのが図３である。このときも上述の感光
ドラム１３の感光レベルを図２におけるＤ２に変更した
場合と同様に、レーザー光３および４合成では許容寸法
のビーム径が形成されるが、レーザー光３または４単独
では許容寸法のビーム径は形成されない。
２分の１にした場合の、位置Ｅにおけるレーザー光の強
度分布を示したのが図３である。このときも上述の感光
ドラム１３の感光レベルを図２におけるＤ２に変更した
場合と同様に、レーザー光３および４合成では許容寸法
のビーム径が形成されるが、レーザー光３または４単独
では許容寸法のビーム径は形成されない。
【００２０】図４は図１の位置Ｆにおけるレーザー光の
強度分布，図５は半導体レーザー１および２の出力を２
分の１にした場合の位置Ｆにおけるレーザー光の強度分
布を示す。上記位置Ｅにおける場合と同様に感光ドラム
１３の感光レベルを変更するか、半導体レーザー１およ
び２の出力を変更しなければレーザー光４単独では許容
寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光３単独およ
びレーザー光３および４合成では許容寸法のビーム径は
形成されない。
強度分布，図５は半導体レーザー１および２の出力を２
分の１にした場合の位置Ｆにおけるレーザー光の強度分
布を示す。上記位置Ｅにおける場合と同様に感光ドラム
１３の感光レベルを変更するか、半導体レーザー１およ
び２の出力を変更しなければレーザー光４単独では許容
寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光３単独およ
びレーザー光３および４合成では許容寸法のビーム径は
形成されない。
【００２１】ここで上記位置Ｅにおける場合と同様に、
感光ドラム１３の感光レベルを図４におけるＤ２に変更
するか、図５に示すように半導体レーザー１および２の
出力を２分の１にした場合、レーザー光３および４合成
では許容寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光３
または４単独では許容寸法のビーム径は形成されない。
感光ドラム１３の感光レベルを図４におけるＤ２に変更
するか、図５に示すように半導体レーザー１および２の
出力を２分の１にした場合、レーザー光３および４合成
では許容寸法のビーム径が形成されるが、レーザー光３
または４単独では許容寸法のビーム径は形成されない。
【００２２】したがって、レーザー光３または４単独で
は上記のいずれの場合も位置Ｅ，Ｆ両方で許容ビーム径
を得ることができなかったが、感光ドラム１３の感光レ
ベルを図２，図４におけるＤ２に変更するか、半導体レ
ーザー１および２の出力を図３および図５に示すように
２分の１に変更した場合においてのみ位置ＥおよびＦ両
方で許容ビーム径を得るようにできる。位置Ｅ，Ｆ両方
の近傍でもこのとき同様に許容ビーム径が得られる。
は上記のいずれの場合も位置Ｅ，Ｆ両方で許容ビーム径
を得ることができなかったが、感光ドラム１３の感光レ
ベルを図２，図４におけるＤ２に変更するか、半導体レ
ーザー１および２の出力を図３および図５に示すように
２分の１に変更した場合においてのみ位置ＥおよびＦ両
方で許容ビーム径を得るようにできる。位置Ｅ，Ｆ両方
の近傍でもこのとき同様に許容ビーム径が得られる。
【００２３】図６は、レーザー光３または４単独での焦
点深度範囲を示すもの、図７は、感光ドラム１３の感光
レベルを図２，図４におけるＤ２に変更するか、半導体
レーザー１および２の出力を図３，図５に示すように２
分の１に変更した場合の、レーザー光３および４合成の
焦点深度範囲を示すものである。図６，図７から、感光
ドラム１３の感光レベルを変更するか、半導体レーザー
１および２の出力を変更した場合の、レーザー光３およ
び４合成での焦点深度範囲は、レーザー光３または４単
独での焦点深度範囲よりも長くなっている。
点深度範囲を示すもの、図７は、感光ドラム１３の感光
レベルを図２，図４におけるＤ２に変更するか、半導体
レーザー１および２の出力を図３，図５に示すように２
分の１に変更した場合の、レーザー光３および４合成の
焦点深度範囲を示すものである。図６，図７から、感光
ドラム１３の感光レベルを変更するか、半導体レーザー
１および２の出力を変更した場合の、レーザー光３およ
び４合成での焦点深度範囲は、レーザー光３または４単
独での焦点深度範囲よりも長くなっている。
【００２４】以上のように本実施例によれば、レーザー
光３，４各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にず
れるように構成し、感光ドラム１３の感光レベル、また
は半導体レーザー１および２の出力レベルを半導体レー
ザー１または２を単独で用いる場合とは異なるレベルに
あらかじめ調整しておくことにより、レーザー光３およ
び４合成での焦点深度範囲を、レーザー３または４単独
での焦点深度範囲より長くすることが可能となる。
光３，４各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にず
れるように構成し、感光ドラム１３の感光レベル、また
は半導体レーザー１および２の出力レベルを半導体レー
ザー１または２を単独で用いる場合とは異なるレベルに
あらかじめ調整しておくことにより、レーザー光３およ
び４合成での焦点深度範囲を、レーザー３または４単独
での焦点深度範囲より長くすることが可能となる。
【００２５】
【発明の効果】以上のように本発明は、複数のレーザー
ビームを、光学系を透過させて感光体に結像するように
構成された光記録装置において、前記複数のレーザービ
ーム各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にずれる
ように構成することにより、合成された焦点深度範囲が
長くなり、焦点深度範囲位置調整が不要な光記録装置を
実現することができる。
ビームを、光学系を透過させて感光体に結像するように
構成された光記録装置において、前記複数のレーザービ
ーム各々が最小ビーム径となる位置が光軸方向にずれる
ように構成することにより、合成された焦点深度範囲が
長くなり、焦点深度範囲位置調整が不要な光記録装置を
実現することができる。
【図１】本発明の光記録装置の一実施例の概略構成図
【
図２】図１に示す位置Ｅにおけるレーザー光の強度分布
図
図２】図１に示す位置Ｅにおけるレーザー光の強度分布
図
【図３】半導体レーザー１および２の出力を２分の１に
した場合の位置Ｅにおけるレーザー光の強度分布図
した場合の位置Ｅにおけるレーザー光の強度分布図
【図
４】図１に示す位置Ｆにおけるレーザー光の強度分布図
４】図１に示す位置Ｆにおけるレーザー光の強度分布図
【図５】半導体レーザー１および２の出力を２分の１に
した場合の位置Ｆにおけるレーザー光の強度分布図
した場合の位置Ｆにおけるレーザー光の強度分布図
【図
６】レーザー光３または４単独での焦点深度範囲を示す
図
６】レーザー光３または４単独での焦点深度範囲を示す
図
【図７】レーザー光３および４を合成した場合の焦点深
度範囲を示す図
度範囲を示す図
【図８】従来の光記録装置の概略構成図
【図９】図８に
示す位置Ａおよび位置Ｂにおけるレーザー光の強度分布
を示す図
示す位置Ａおよび位置Ｂにおけるレーザー光の強度分布
を示す図
【図１０】従来例における焦点深度範囲を示す図
１，２ 半導体レーザー（レーザー光源）３，４
レーザー光 ５，６ コリメーターレンズ ７，８ 第１の結像レンズ系 ９ ハーフミラー １０ ポリゴンミラー １２ 第２の結像レンズ系
レーザー光 ５，６ コリメーターレンズ ７，８ 第１の結像レンズ系 ９ ハーフミラー １０ ポリゴンミラー １２ 第２の結像レンズ系
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のレーザー光源を設け、それらの
レーザー光源から出射さされる複数のレーザー光を、光
学系により同一の感光体上に結像するように構成し、そ
れら複数のレーザー光それぞれのビーム径が最小となる
位置が光軸方向でずれるように構成したことを特徴とす
る光記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3017543A JPH04255818A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 光記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3017543A JPH04255818A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 光記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04255818A true JPH04255818A (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=11946834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3017543A Pending JPH04255818A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 光記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04255818A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0968833A1 (en) * | 1998-07-03 | 2000-01-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording apparatus |
-
1991
- 1991-02-08 JP JP3017543A patent/JPH04255818A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0968833A1 (en) * | 1998-07-03 | 2000-01-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording apparatus |
| US6542178B2 (en) | 1998-07-03 | 2003-04-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording apparatus |
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