JPH04255934A - 二層式光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、２層の磁気層を使用し
たオーバーライト機能を有する光磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録媒体は、記録、消去が何度で
もおこなえる、書き換え可能な磁性膜をそなえた高密度
光磁気記録媒体として研究開発が活発に行われている。 このような光磁気記録媒体の磁性膜を構成する光磁気記
録材料の内でも、希土類金属と遷移金属との非晶質合金
（以下、ＲＥ−ＴＭ膜と称する）は、磁化方向が膜面に
対して垂直に配向した垂直磁化膜となること、保磁力が
数ＫＯｅと大きいこと、スパッタリング、真空蒸着また
はその他の被着技術で比較的容易に成膜が可能であるこ
と等の点で、最も研究が進み実用化が進んでいる。

【０００３】このようなＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記
録媒体では、磁性膜が垂直磁化膜であることから１０８
　ビット／ｃｍ２　という極めて高密度な記録が可能で
あり、さらに原理的には、情報の消去と再書き込みの繰
り返しを無限回に近く行うことができるという優れた特
徴を有する。このＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体
のオーバーライト技術には、光変調方式と磁界変調方式
の２方式があり、そのうち光変調方式とは、記録情報に
応じて記録用の照射レーザ光をオン・オフあるいは強度
変調させる方式である。この光変調方式のオーバーライ
ト技術の中には、特に磁界変調方式に比べ簡単な構成の
装置で高速オーバーライトが可能である。そのうち、両
面記録が可能なものとして、記録層と補助層の二層の磁
性膜を使用した二層膜方式（以下、二層式という）があ
る。

【０００４】その二層式の原理を示せば次のとおりであ
る。一例として、記録層にＴｂＦｅ（６７ｎｍ）、補助
層にＴｂＦｅＣｏ（５２ｎｍ）を用い、各層の常温にお
ける保持力Ｈｃおよびキューリ温度Ｔｃは、記録層が１
０ｋＯｅおよび１６０℃、補助層が０．７ｋＯｅおよび
３００℃である。記録の際には、まず２ｋＯｅの先行補
助磁界によって補助層のみ磁化方向が消去方向にそろえ
られる。レーザ照射部分には、先行補助磁界と逆方向に
３００Ｏｅの補助磁界が印加されている。照射するレー
ザ光が８ｍＷ程度の高出力であれば、補助層、記録層両
方共にキューリ温度に達して、補助磁界により、補助層
、記録層両方の磁化が反転し記録が行われる。一方、５
ｍＷ程度の低出力レーザ光が照射されると、補助層の磁
化は反転せず記録層の磁化方向がこれにならうため、消
去がおこなわれることになる。この二層式の原理を図示
したものが図４である。

【０００５】このようにして、オーバーライトが実現で
きることになる。このような二層式光磁気記録媒体のオ
ーバーライトについては、例えば、電子材料，１９８８
年７月，７６〜８２頁（仲尾武司他著，光磁気ディスク
の将来技術　　オーバーライト技術を中心として）、特
開平２−７２５１号公報、特開昭６２−１７５９４８号
公報、特開平２−４２６６４号公報に記載されるものが
あった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このような高速オーバ
ーライト可能な二層式光磁気記録媒体は、前記のとおり
各層の保磁力とキューリ温度との特性を組み合わせたも
のであり、光磁気記録媒体を作製する場合、各層の保磁
力Ｈｃと残留磁化Ｍｓの大きさが記録再生特性に大きな
影響を与えるため、その制御が重要となる。

【０００７】しかしながら、現在の二層式光磁気記録媒
体では、二層ともＲＥ−ＴＭ膜が使用されており、例え
ば、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＣｏ等の三元系合金または
ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の四元系合金が使用されており、こ
のような多元系の合金をスパッタ装置により製膜すると
、ターゲットが多元系のため製膜される基板とずれるこ
とがあって、磁気特性の調整が困難であった。また、前
記光磁気記録材料としての合金は三元系合金または四元
系合金の複雑な成分割合であるために、目的とする磁気
特性を得るための前記各成分組成を厳密に調整すること
が困難であった。　　さらにまた、光磁気記録媒体への
記録消去時に、補助層の残留磁化は記録層に影響を及ぼ
す必要があるが、これらの光磁気記録材料は残留磁化が
小さいために、補助層が記録層に影響を及ぼすほどの残
留磁化を有するには補助層の厚さを大きくせねばならず
、そのために結果的に光磁気記録媒体の記録感度が下が
ってしまうという問題点があった。

【０００８】そこで本発明は、以上述べた組成調整の困
難さと、結果的に記録感度が下がるという問題点を除去
することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は前記した問題点
を解決するために、記録層と補助層との二層膜を持つ光
変調方式の二層式光磁気記録媒体において、補助層にＰ
ｔ／Ｃｏ人工格子膜またはＰｄ／Ｃｏ人工格子膜を使用
することを特徴とした二層式光磁気記録媒体としたもの
である。さらに、この補助層の膜厚を５ｎｍ以上７０ｎ
ｍ以下としたものである。

【００１０】

【実施例１】図１に本発明の二層式光磁気記録媒体の断
面図を示している。基板上に保護膜１、記録層、補助層
、保護膜２、の順に積層されており、補助層はＰｄ／Ｃ
ｏ層またはＰｔ／Ｃｏ層からなる人工格子膜で構成され
ている。この人工格子膜がＰｄ／Ｃｏ層である場合はＰ
ｄの膜厚は１．５ｎｍでＣｏが０．５ｎｍで、また、Ｐ
ｔ／Ｃｏ層である場合はＰｔの膜厚は１．５ｎｍでＣｏ
が０．５ｎｍで、人工格子膜全体として膜厚は３０ｎｍ
で、積層数は３０枚程度である。

【００１１】本発明の二層式光磁気記録媒体の製造方法
を次に説明する。プリグルーブ付ポリカーボート基板に
保護膜１としてＡｌＳｉＮをスパッタリングにより製膜
した。次に、記録層の材料としてＴｂ２５Ｆｅ７０Ｃｏ
５　を用いてスパッタリングにより製膜して、膜厚を１
００ｎｍの記録層を製膜した。次に、この上に補助層と
して、ＰｄとＣｏをターゲットとして多元スパッタリン
グ装置により人工格子膜を製膜した。その人工格子膜を
構成するＰｄの膜厚は１．５ｎｍとし、Ｃｏの膜厚を０
．５ｎｍとして順番に積層して全体として３０ｎｍの補
助層を作成した。さらに、保護膜２として、ＡｌＳｉＮ
をスパッタリングにより製膜して本発明の二層式光磁気
記録媒体を製造した。

【００１２】このようにして製造された本発明の二層式
光磁気記録媒体の消去パワーＰｅと記録パワーＰｗの関
係を調べて図２に示した。比較のために、従来の二層式
光磁気記録媒体のこれらの関係を調べた。従来の二層式
光磁気記録媒体としては、本発明の基板と同一のものを
使用し、保護膜１は、本発明の前記保護膜１と同一のも
のを使用し、記録層も本発明の前記材料と同一のものを
使用し、膜厚は１００ｎｍとした。また、従来の二層式
光磁気記録媒体の補助層には、材料としてＴｂ２１Ｆｅ
６０Ｃｏ１９の膜を使用し、膜厚は１５０ｎｍとした。 次に保護膜２として、本発明の前記保護膜２と同一のも
のを使用した。なお、各膜材料の製膜にはスパッタリン
グを用いておこなった。

【００１３】記録再生条件は、再生レーザパワーＰｒ１
．０ｍＷ、光磁気記録媒体の回転数１８００ｒｐｍ、補
助磁界２．５ｋＯｅ、記録磁界３００Ｏｅであった。 この図２に示すように、従来の二層式光磁気記録媒体の
消去パワーが約７〜１０．５ｍＷ、記録パワーが約９．
８〜１２ｍＷであるのに対して、本発明の二層式光磁気
記録媒体の消去パワーが約３．５〜７．２ｍＷ、記録パ
ワーが約７〜１０．２ｍＷであった。これらの差異は、
本発明の光磁気記録媒体が従来の光磁気記録媒体に比べ
て、記録消去パワーが二割程度減少し高感度になってい
ることを示すものである。

【００１４】

【実施例２】実施例１の二層式光磁気記録媒体と同一の
構成で、ただ補助層である人工格子膜の膜厚を５，１０
，２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０ｎｍと変
化させた二層式光磁気記録媒体を用意し、各々のＣ／Ｎ
及びオーバーライト特性を測定し、グラフとしたものを
図３に示す。オーバーライト特性の評価を、記録周波数
を１．２ＭＨｚとして記録した後に、１．０ＭＨｚでオ
ーバーライトを行い消えないで残った１．２ＭＨｚの信
号の大きさで評価した。

【００１５】補助層としてＰｔ／Ｃｏ層からなる人工格
子膜及びＰｄ／Ｃｏ層からなる人工格子膜を使用した本
発明の二層式光磁気記録媒体では、その補助層の膜厚が
ともに７０ｎｍ以上では膜の磁気特性が劣化するために
Ｃ／Ｎが急激に悪化する。また、膜厚が５ｎｍ以下では
残留磁化が小さくなりオーバーライト特性が低下してし
まう。膜厚が５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であれば消え残り
の信号は５ｄＢ以下であり、実用上問題のない値であっ
た。

【００１６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明は、
記録層と補助層との二層膜を持つ光変調方式の二層式光
磁気記録媒体において、補助層にＰｔ／Ｃｏ人工格子膜
またはＰｄ／Ｃｏ人工格子膜を使用したものであるから
、記録膜全体の厚さを薄くすることができ、高感度な二
層式光磁気記録媒体が得られる。また、人工格子膜は、
従来の二層式光磁気記録媒体の補助膜であるＴｂＦｅＣ
ｏ等のＲＥ−ＴＭ膜よりも組成調整が容易におこなえる
から光磁気記録媒体の作製が容易である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の二層式光磁気記録媒体の断面の概念図
を示す。

【図２】本発明と従来の二層式光磁気記録媒体の消去パ
ワーと記録パワーとの関係を示すグラフ。

【図３】本発明の二層式光磁気記録媒体の補助層の膜厚
に対するＣ／Ｎ、及び消え残りの関係を示すグラフ。

【図４】二層式光磁気記録媒体への記録の原理を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　記録層と補助層との二層膜を持つ光変
   調方式の二層式光磁気記録媒体において、補助層にＰｔ
   ／Ｃｏ人工格子膜またはＰｄ／Ｃｏ人工格子膜を使用す
   ることを特徴とする二層式光磁気記録媒体。
2. 【請求項２】　　補助層の膜厚は５ｎｍ以上７０ｎｍ以
   下であることを特徴とする請求項１記載の二層式光磁気
   記録媒体。