JPH0425598A - 洗浄用溶剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、洗浄用溶剤に関するものである。

さらに詳しくは、この発明は溶解性および洗浄作用が良
好で、しかも塩素原子を含まないためオゾン破壊の心配
もない、混合使用可能な弗素系の洗浄用溶剤に関するも
のである。

（従来の技術） 従来より、ハロゲン化炭化水素は、プラスチックやゴム
製品、電子部品等の洗浄用溶剤として知られており、塩
素原子または塩素原子と弗素原子とを有する炭化水素群
としての特徴を有している。

これらのハロゲン化炭化水素は、不燃性で毒性か少なく
、安定であって、しかもプラスチックやゴムなどの表面
を侵食することなくワックスや油脂類を溶解することか
できることから各種の産業分野に広く使用されている。

たとえばこれらのハロゲン化炭化水素としては、トリク
ロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系化合物
や、トリフルオロトリクロロエタン（フロン１１３）な
どのフロン系化合物が知られており、特に後者のフロン
系の炭化水素は低毒性であることから、広い使用範囲を
有している。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、このように優れた特徴を有するハロゲン
化炭化水素、特に広範囲な分野で使用されている塩素原
子を含むフロン系炭化水素については、地球を取り巻く
オゾン層を破壊するという環境問題が懸念されており、
その使用量を低減し、さらには使用停止に向けた国際的
世論が高まっている。

このような問題に対処するために、たとえばフロン−１
１３に代わる物質が具体的に種々検討されているが、い
まだ育効な代替物が見出されていない状況にある。また
一方、これらのフロン系炭化水素の使用量を減らすため
に、他の宵機溶剤と混合しての使用も提案され、実用化
されてもいる。

しかしながら、洗浄作用をはじめ、その回収や再使用を
含めての使用態様が実際的ではないという問題がある。

この発明は、以上の通りの状況に鑑みてなされたもので
あり、低毒性で取扱いの容易なフロン系炭化水素からな
るこれまでの洗浄用溶剤の、塩素を含むことによりオゾ
ン層の破壊を引き起こすという欠点を解消し、不燃性を
有し、溶解性および洗浄作用に優れ、しかも低毒性であ
るという長所を損なうことなく、塩素原子を含まないた
めオゾン破壊の心配も全くない新規な洗浄用溶剤を提供
することを目的としている。

（課題を解決するための手段） この発明は、上記の課題を解決するものとして、一般式 ％式％ （ｎは５〜８の整数を示す） で表される弗素化シクロペンタンからなることを特徴と
する洗浄用溶剤を提供する。

この発明の洗浄用溶剤である弗素化シクロペンタンは、
各種の分野で希釈剤等として使用されているシクロペン
タンの水素を弗素原子で置換した構造を有し、プラスチ
ック、ゴム、さらには金属等の洗浄用溶剤として優れた
作用を有している。

この弗素化シクロペンタンは、単一化合物としばかりで
なく、Ｃ＋ｔ　Ｈ＋ｏ−、Ｆ、の式においてｎが５〜８
の各種のものの混合物としてそのまま洗浄用溶剤として
使用できるという特徴も有している。

この発明の弗素化シクロペンタンは、それ自身として、
プラスチックやゴム製品、電子部品等の洗浄用溶剤とし
て、たとえばプリント配線基板用フラックスの洗浄等に
用いることができるが、従来よりフロン−１１３の場合
等で使用されている各種の溶媒と混合して溶解性を高め
、フラックス類、油脂類の洗浄に用いることもできる。

たとえば、このような溶媒の代表例としてアルコール類
などを例示することができる。

また、洗浄用溶剤として使用するにあたっては、各種の
安定化剤を添加してもよい。その具体例としては、たと
えばニトロメタン、ニトロエタンなどの脂肪族ニトロ化
合物、３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチ
ル−１−ペンチン−３−オールなどのアセチレンアルコ
ール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテル、ア
クリルグリシジルエーテル等のエポキシド類、ジメト牛
ジメタン、１．４−ジオキサンなどのエーテル類、ヘキ
セン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなど
の不飽和炭化水素類、アリルアルコール、■−ブテンー
３−オールなどの不飽和アルコール類、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル類が例
示される。

また、さらに相乗的安定化効果を得るために、フェノー
ル類、アミン類、ベンゾトリアゾール類を併用してもよ
い。

安定化剤とともに、希釈剤を用いることもできる。シク
ロペンタン、シクロヘキサン、ヘプタン、ヘキサン等の
飽和炭化水素類がそのような例としてあげられる。

弗素化シクロペンタンそのものについては、その製造法
はすでに知られており、たとえば、シクロペンタンを原
料として　これに三弗化コバルト等の高原子価弗素化金
属塩を作用させて製造する方法が知られている。この方
法による場合には、シクロペンタンの水素原子が弗素原
子で置換された種々の生成物からなる混合物が得られる
。これをそのまま、この発明の洗浄用溶剤として使用し
てもよい。

また、反応条件の制御や、生成物の分別蒸留により所望
の沸点の混合物を得ることや、所定の弗素原子置換数の
化合物を得ることもできる。

（発明の効果） この発明の洗浄用溶剤は、使用時において熱的に安定で
、その安定性は、従来のフロン系炭化水素と同等水準に
あり、かつ、プラスチック、ゴム類に対して膨潤、溶解
などの悪影響を及ぼすことはない。

しかも不燃性で、結合した水素原子の存在によって分解
性もあり、かつ、塩素原子を含まないため、地球環境問
題として注目されているオゾン層を破壊する心配も全く
ない。

その溶剤としての洗浄作用は優れたものである。

以下、この発明の弗素化シクロペンタンの製造例と、こ
の発明の詳細な説明する。もちろん、この発明は、以下
の例によって限定されるものではない。

（参考例） （１）　　１４７のステンレス製反応器に三弗化コバル
ト２モルとシクロペンタン６０ミリモルを仕込み２００
℃で２時間反応させた。副生ずる弗化水素を除去した後
、単蒸留を行ったところ１０ｇの生成物を得た。これを
ガスクロマトグラフィーにより分析したところ平均弗素
導入数は６．７であった。

なお、平均弗素導入数とは、混合物の各構成成分の１分
子中の弗素原子数を各構成成分のモル分率に応じて加重
平均した値を示す。

（２）　次に、上記方法に準じて得た反応生成物９０ｇ
を理論段数５の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ない３
つの留分に分けた。各留分の重量、および沸点は第１表
の通りであり、また平均弗素導入数と組成は第２表の通
りであった。

第１表 （実施例１） 参考例で得た各留分を用いて以下の方法でプリント基板
用フラックスの洗浄試験を行った。

フラックス（サンハヤト株式会社製、Ｈ−１０Ｆ）を平
滑なガラス板に塗布し、３０℃で３０分間乾燥し、各留
分に３０秒間浸漬し、フラックスの除去効果を肉眼で観
察した。留分３の場合、フラックスは、従来のフロン−
１１３の場合と同等に完全に除去された。また、留分１
，２の場合も微量残存はしたものの、その効果は満足で
きるものであった。

（実施例２） 参考例で得られた各留分について塗布基板への影響を以
下の方法により試験した。ポリプロピレン試験片（５Ｘ
５０Ｘ２ｍｍ）を密閉した容器中にて各留分に浸漬し、
５０℃で４時間放置した時の重量変化率を求めたところ
、全留分とも１％未満であった。

参考のためフロン１１３を同様の方法に供したところ重
量変化率は１％未満であった。

（実施例　３） 参考例で得られた各留分の熱安定性試験を行った。その
結果各留分の分解開始温度は約３００〜４００℃の範囲
にあった。フロン１１３と路間等のレベルにあることが
わかる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 Ｃ＿５Ｈ＿１＿０＿−ｎＦ＿ｎ （ｎは５〜８の整数を示す） で表される弗素化シクロペンタンからなることを特徴と
   する洗浄用溶剤。