JPH04256535A - ウエーハ吸着盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、鏡面研磨加工時等に
おいて、ウエーハを吸引固定する吸着盤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ウエーハを真空吸着する際に使用
するウエーハ吸着盤は、通常、この吸着孔と吸引ポンプ
とが連通し、ポンプの吸引作用によってウエーハと吸着
孔とが吸引接着するように構成されている。そして、研
磨加工するウエーハの吸着面に予めワックスを塗布して
行う場合（以下、「ワックスコート」と称する。）とワ
ックスを全く用いない場合（以下、「純真空引き」と称
する。）とが存する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前者ワックスコートは
、研磨液がウエーハと吸着盤との間に侵入しないという
長所があるものの、反面、ワックスの塗布、加工後にお
いてワックスを除去・洗浄する手間を要するという欠点
、或いはワックス膜圧の不均一によってウエーハの加工
精度が低下するという欠点がある。

【０００４】これに対し、後者（純真空引き）は、上記
ワックスコートの場合の欠点は無い反面、ウエーハと吸
着盤との間に研磨液が侵入し、ウエーハの吸着面（裏面
）がアルカリ浸食され、ウエーハに曇りを生じ、更に、
吸着孔が０．３ｍｍφ以下の場合には、研磨液で上記吸
着孔が目詰まりを生じ、吸着不良という事態を招く。 この目詰まり発生防止を図るために吸着孔を例えば０．
５ｍｍφとすると、今度は、３００μ以下の薄いウエー
ハに対しては、真空吸着時に、図３に示すようにウエー
ハがゆがみ、加工精度が低下するという問題を生じる。 なお、図３において、２は吸着面板、２２は吸着孔であ
る。

【０００５】本発明は、上記不具合のないウエーハ吸着
盤を提供することを目的としてなされた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明のウエー
ハ吸着盤は、吸着面に多数の小さな吸着孔を有し、この
吸着孔は吸引ポンプに連通しているウエーハ吸着盤であ
って、前記各吸着孔の大きさが０．３ｍｍφ以下とされ
、これら多数の吸着孔の外側に、エアー吹き出し用の周
溝孔が形成されている。

【０００７】

【作用】上記構成の本発明ウエーハ吸着盤は、例えば鏡
面研磨加工を取り上げると、吸着孔に負圧をかけてウエ
ーハを固定しつつ、周溝孔からエアーを吹き出させて研
磨加工を行う。この場合、当該加工時に使用される研磨
液は、ウエーハと吸着面との間に侵入せんとするが、吸
着面の外周より位置に形成されているエアーカーテンに
よって侵入が阻止され、したがって研磨液は、上記吸着
孔の存する位置に入ることがない。

【０００８】

【実施例】図において、Ｗはウエーハを示している。そ
して、本発明に係る吸着盤は、図示するように、ステン
レス製の基盤１上にアクリル製の吸着面板２を固着した
構成とされている。

【０００９】上記吸着面板２の吸着面２１には０．３ｍ
ｍφ以下の吸着孔２２が多数形成されている。

【００１０】この吸着孔２２の下端は、上記基盤１の上
面に設けられている円周溝１１に通じ、該円周溝１１は
、同じく基盤１の上面に設けられている放射状溝１２に
通じ、該放射状溝１２の起点は中心孔１３に通じている
。換言すれば、吸着孔２２内の空気は、円周溝１１、放
射状溝１２及び中心孔１３という経路で、図示しないポ
ンプにより吸引される。

【００１１】そして上記多数の吸着面板２の外周縁から
約３ｍｍ位中心に寄った位置には、上記吸着孔２２を一
括して取り囲むように、カーテンエリア形成用の２条の
周溝孔２３が形成されている。この周溝孔２３の幅は約
０．３ｍｍである。そして上記周溝孔２３の下端は、基
盤１に設けた空気供給孔１４に接続されている。

【００１２】上記構成の本発明ウエーハ吸着盤は、次の
ように用いられる。

【００１３】■：吸着面２１に負圧をかけてウエーハＷ
を保持する。

【００１４】■：この状態下において、例えばウエーハ
Ｗの研磨面に７０ｇ／ｃｍ２ないし２００ｇ／ｃｍ２の
荷重をによる鏡面研磨を行なう。このとき、周溝孔２３
から約５０ｇ／ｃｍ２の気圧でエアーを噴出させ、ウエ
ーハＷの端縁部にカーテンエリアを形成して鏡面研磨を
行う。したがって、周溝孔からのエアーの噴出により、
外部にある研磨液が吸着孔２２へ入り込むのが阻止され
る。

【００１５】鏡面研磨後は、中心孔１３からエアーを吹
き込み、ウエーハＷを吸着面２１から離す。この際、吸
着孔２２は、送りこまれたエアーによって洗浄（目詰ま
りの防止）がなされることになる。

【００１６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のウエーハ
吸着盤によれば、ワックスコートを行なわないので加工
精度が良好であり、そして、後洗浄を必要とする等の作
業性の問題が全く無く、しかも研磨液が、吸着孔に到ら
ないため、常時良好な吸着力が得られる。また、研磨液
がウエーハの裏面に到らないため、アルカリ浸食による
曇り発生を未然に防止しできる。更に、吸着孔が０．３
ｍｍφ以下であるため、３００μ以下の薄いウエーハで
あっても、ゆがみを生じさせないで研磨できる等の利点
がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施例を示す縦断面図である
。

【図２】図２は一部破断して示す平面図である。

【図３】図３は吸着面板の吸着孔にウエーハが吸着され
ている状態を示す縦断面図である。

【符号の説明】

Ｗ　　　　ウエーハ ２１　　　　吸着面 ２２　　　　吸着孔 ２３　　　　周溝孔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　吸着面に多数の小さな吸着孔を有し、
   この吸着孔は吸引ポンプに連通しているウエーハ吸着盤
   であって、前記各吸着孔の大きさが０．３ｍｍφ以下と
   され、これら多数の吸着孔の外側に、エアー吹き出し用
   の周溝孔が形成されていることを特徴とするウエーハ吸
   着盤。