JPH04265277A - 雰囲気焼成装置 - Google Patents
雰囲気焼成装置Info
- Publication number
- JPH04265277A JPH04265277A JP3049270A JP4927091A JPH04265277A JP H04265277 A JPH04265277 A JP H04265277A JP 3049270 A JP3049270 A JP 3049270A JP 4927091 A JP4927091 A JP 4927091A JP H04265277 A JPH04265277 A JP H04265277A
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- JP
- Japan
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- fired
- setter
- plzt
- firing
- powder
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電気光学効果を有する
透光性セラミックスウエハ（例えばＰＬＺＴウエハ）を
作成するために、所定の雰囲気のもとでＰＬＺＴ板のよ
うな被焼成物を焼成する雰囲気焼成装置の改良に関する
ものである。
透光性セラミックスウエハ（例えばＰＬＺＴウエハ）を
作成するために、所定の雰囲気のもとでＰＬＺＴ板のよ
うな被焼成物を焼成する雰囲気焼成装置の改良に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】チタン酸ジルコン酸鉛中の鉛の一部をラ
ンタンで置換した組成を有する透光性セラミックスであ
るＰＬＺＴ（例えば（Ｐｂ０．９１Ｌａ０．０９）（Ｚ
ｒ０．６５Ｔｉ０．３５）Ｏ３）には、メモリ効果、一
次電気光学効果、二次電気光学効果などの電気光学効果
を示す領域がある。この電気光学効果特性を利用して表
示装置、光変調器、光シャッタ−など種々のデバイスへ
の応用が期待されている。これらの種々のデバイスの開
発にともない、大面積で数百μｍ〜数ｍｍの厚さを持っ
たＰＬＺＴウエハが必要になってきた。このような大面
積のＰＬＺＴウエハを作成するために、ＰＬＺＴ板のよ
うな被焼成物を焼成するのに適した装置として、従来、
図４に示すような雰囲気焼成装置が知られていた。
ンタンで置換した組成を有する透光性セラミックスであ
るＰＬＺＴ（例えば（Ｐｂ０．９１Ｌａ０．０９）（Ｚ
ｒ０．６５Ｔｉ０．３５）Ｏ３）には、メモリ効果、一
次電気光学効果、二次電気光学効果などの電気光学効果
を示す領域がある。この電気光学効果特性を利用して表
示装置、光変調器、光シャッタ−など種々のデバイスへ
の応用が期待されている。これらの種々のデバイスの開
発にともない、大面積で数百μｍ〜数ｍｍの厚さを持っ
たＰＬＺＴウエハが必要になってきた。このような大面
積のＰＬＺＴウエハを作成するために、ＰＬＺＴ板のよ
うな被焼成物を焼成するのに適した装置として、従来、
図４に示すような雰囲気焼成装置が知られていた。
【０００３】すなわち、焼成炉１０内に二重の耐熱容器
（例えばアルミナるつぼ（匣鉢ともいう））１２、１４
を入れ、内側の耐熱容器１２内に雰囲気粉（例えばＰｂ
Ｏ＋ＺｒＯ２）１６、１６を入れる。そして、セッタ−
（下敷き）１８上に被焼成物としてのＰＬＺＴ板２０を
載置したものを１組とし、その複数組１８と２０、…を
耐熱容器１２内に入れる。このとき、各組のＰＬＺＴ板
２０、…の上面が後述する雰囲気ガスに接触するように
、所定長さの支持台２２と２２、…によって上下に隣接
するセッタ−１８、…間を所定間隔に保持する。そして
、雰囲気ガス導入管２４によって外部から二重の耐熱容
器１２、１４間に雰囲気ガスとしての酸素（Ｏ２）を導
入し、酸素雰囲気下で焼成するようにしていた。セッタ
−１８はマグネシア（ＭｇＯ）またはジルコニア（Ｚｒ
Ｏ２）を主成分とする基板で形成されている。
（例えばアルミナるつぼ（匣鉢ともいう））１２、１４
を入れ、内側の耐熱容器１２内に雰囲気粉（例えばＰｂ
Ｏ＋ＺｒＯ２）１６、１６を入れる。そして、セッタ−
（下敷き）１８上に被焼成物としてのＰＬＺＴ板２０を
載置したものを１組とし、その複数組１８と２０、…を
耐熱容器１２内に入れる。このとき、各組のＰＬＺＴ板
２０、…の上面が後述する雰囲気ガスに接触するように
、所定長さの支持台２２と２２、…によって上下に隣接
するセッタ−１８、…間を所定間隔に保持する。そして
、雰囲気ガス導入管２４によって外部から二重の耐熱容
器１２、１４間に雰囲気ガスとしての酸素（Ｏ２）を導
入し、酸素雰囲気下で焼成するようにしていた。セッタ
−１８はマグネシア（ＭｇＯ）またはジルコニア（Ｚｒ
Ｏ２）を主成分とする基板で形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示した従来の雰囲気焼成装置は、１２００℃〜１３００
℃、５０時間位までの短時間の焼成ではそれ程問題にな
らなかったが、それ以上の長時間の焼成では焼成中にセ
ッタ−１８とＰＬＺＴ板２０との接触面間で高温反応が
生じ、焼成物であるＰＬＺＴウエハに電気光学効果の欠
陥部ができ、この欠陥部がクロスニコルでの光漏れ（例
えばｓｔａｒと呼ばれる光漏れ）の原因になるという問
題点があった。また、ＰＬＺＴ板２０、…の上面が雰囲
気ガス（例えば酸素）に接し、下面がセッタ−１８、…
に接触しているので、焼成中のＰＬＺＴ板２０、…の上
面と下面の温度差が大きくなり、焼成によって得られた
所定厚さ（例えば１ｍｍ）の焼成物（例えばＰＬＺＴ焼
結体）３０、…の上面に図５に示すような反りの深さＦ
の大きな（例えばＦ＝３００μｍ）反りが生じ、焼成後
の研磨で平坦にすることが困難になるという問題点があ
った。本発明は上述の点に鑑みなされたもので、長時間
の焼成でも高温反応が生ぜず、しかも焼成中に生じる反
りを小さくすることのできる雰囲気焼成装置を提供する
ことを目的とするものである。
示した従来の雰囲気焼成装置は、１２００℃〜１３００
℃、５０時間位までの短時間の焼成ではそれ程問題にな
らなかったが、それ以上の長時間の焼成では焼成中にセ
ッタ−１８とＰＬＺＴ板２０との接触面間で高温反応が
生じ、焼成物であるＰＬＺＴウエハに電気光学効果の欠
陥部ができ、この欠陥部がクロスニコルでの光漏れ（例
えばｓｔａｒと呼ばれる光漏れ）の原因になるという問
題点があった。また、ＰＬＺＴ板２０、…の上面が雰囲
気ガス（例えば酸素）に接し、下面がセッタ−１８、…
に接触しているので、焼成中のＰＬＺＴ板２０、…の上
面と下面の温度差が大きくなり、焼成によって得られた
所定厚さ（例えば１ｍｍ）の焼成物（例えばＰＬＺＴ焼
結体）３０、…の上面に図５に示すような反りの深さＦ
の大きな（例えばＦ＝３００μｍ）反りが生じ、焼成後
の研磨で平坦にすることが困難になるという問題点があ
った。本発明は上述の点に鑑みなされたもので、長時間
の焼成でも高温反応が生ぜず、しかも焼成中に生じる反
りを小さくすることのできる雰囲気焼成装置を提供する
ことを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、焼成炉内に耐
熱容器を設け、この耐熱容器内にセッタ−とこのセッタ
−上に載せる被焼成物とを入れ、前記耐熱容器内に雰囲
気ガスを導入して焼成を行うようにした雰囲気焼成装置
において、前記セッタ−の上面に前記被焼成物とほぼ同
一組成物で形成された粉体を押し固めて上面側を平坦に
形成した敷粉を形成し、この敷粉の上面に前記被焼成物
を載置してなることを特徴とするものである。
熱容器を設け、この耐熱容器内にセッタ−とこのセッタ
−上に載せる被焼成物とを入れ、前記耐熱容器内に雰囲
気ガスを導入して焼成を行うようにした雰囲気焼成装置
において、前記セッタ−の上面に前記被焼成物とほぼ同
一組成物で形成された粉体を押し固めて上面側を平坦に
形成した敷粉を形成し、この敷粉の上面に前記被焼成物
を載置してなることを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】被焼成物は敷粉を介してセッタ−上に載せられ
て耐熱容器内に入れられ、この耐熱容器内に雰囲気ガス
を導入して雰囲気焼成が行われる。この焼成中において
、被焼成物とセッタ−の間に形成された敷粉は、被焼成
物とほぼ同一組成物で形成され、被焼成物とセッタ−の
直接接触を遮断しているので、被焼成物とセッタ−の高
温反応を防止している。しかも、敷粉は粉体を押し固め
て上面側が平坦に形成されているので、被焼成物と敷粉
との高温反応をも防止している。また、被焼成物とセッ
タ−の間に形成された敷粉は、セッタ−側から被焼成物
へ伝わる熱を遮断して被焼成物の上面と下面の温度差を
小さくするとともに、被焼成物とセッタ−との摩擦を小
さくしているので、焼成中における被焼成物の反りを小
さくすることができる。
て耐熱容器内に入れられ、この耐熱容器内に雰囲気ガス
を導入して雰囲気焼成が行われる。この焼成中において
、被焼成物とセッタ−の間に形成された敷粉は、被焼成
物とほぼ同一組成物で形成され、被焼成物とセッタ−の
直接接触を遮断しているので、被焼成物とセッタ−の高
温反応を防止している。しかも、敷粉は粉体を押し固め
て上面側が平坦に形成されているので、被焼成物と敷粉
との高温反応をも防止している。また、被焼成物とセッ
タ−の間に形成された敷粉は、セッタ−側から被焼成物
へ伝わる熱を遮断して被焼成物の上面と下面の温度差を
小さくするとともに、被焼成物とセッタ−との摩擦を小
さくしているので、焼成中における被焼成物の反りを小
さくすることができる。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示すもので、この
図において図４と同一部分は同一符号とする。図１にお
いて、１０は焼成炉で、この焼成炉１０内には、二重の
耐熱容器（例えばアルミナるつぼ（匣鉢ともいう））１
２、１４が設けられている。前記二重の耐熱容器１２、
１４のうちの内側の耐熱容器１２内には、雰囲気粉（例
えばＰｂＯ＋ＺｒＯ２）１６、１６が入れられていると
ともに、所定長さの支持台２２と２２、…によって所定
間隔に保持されたセッタ−（下敷き）１８、…が入れら
れている。前記セッタ−１８は純度９９．９％のマグネ
シア（ＭｇＯ）によって形成されている。２４は雰囲気
ガス導入管で、この雰囲気ガス導入管２４は外部から前
記二重の耐熱容器１２、１４間に雰囲気ガスとしての酸
素（Ｏ２）を導入し、酸素雰囲気下の焼成を行うことが
できるようにしている。
図において図４と同一部分は同一符号とする。図１にお
いて、１０は焼成炉で、この焼成炉１０内には、二重の
耐熱容器（例えばアルミナるつぼ（匣鉢ともいう））１
２、１４が設けられている。前記二重の耐熱容器１２、
１４のうちの内側の耐熱容器１２内には、雰囲気粉（例
えばＰｂＯ＋ＺｒＯ２）１６、１６が入れられていると
ともに、所定長さの支持台２２と２２、…によって所定
間隔に保持されたセッタ−（下敷き）１８、…が入れら
れている。前記セッタ−１８は純度９９．９％のマグネ
シア（ＭｇＯ）によって形成されている。２４は雰囲気
ガス導入管で、この雰囲気ガス導入管２４は外部から前
記二重の耐熱容器１２、１４間に雰囲気ガスとしての酸
素（Ｏ２）を導入し、酸素雰囲気下の焼成を行うことが
できるようにしている。
【０００８】前記セッタ−１８、…の上面には、（Ｐｂ
０．９１Ｌａ０．０９）（Ｚｒ０．６５Ｔｉ０．３５）
Ｏ３の組成を持つＰＬＺＴ粉体３２を、図２に示すよう
な方法によって押し固めて、上面側を平坦に形成した敷
粉３４が形成されている。すなわち、まず図２の（ａ）
に示すように所定のメッシュ（例えば＃６０）の篩３６
を用いて所定粒径以下のＰＬＺＴ粉体３２をセッタ−１
８の上面に敷き、ついで図２の（ｂ）に示すようにパラ
フィン紙３８を介した平板４０を用いて所定の荷重（例
えば手で押すぐらいの荷重）を加えてＰＬＺＴ粉体３２
を押し固め、上面側を平坦に形成した敷粉３４が形成さ
れる。前記敷粉３４、…の上面には、被焼成物としての
ＰＬＺＴ板２０、…が載置されている。前記ＰＬＺＴ板
２０は例えば次ぎのようにして形成される。すなわち、
ボ−ルミルを用いて、（Ｐｂ０．９１Ｌａ０．０９）（
Ｚｒ０．６５Ｔｉ０．３５）Ｏ３の組成を持つＰＬＺＴ
粉体を、バインダ５〜１０重量％、可塑剤２〜５重量％
、分散剤０．２重量％および溶剤６０〜９０重量％とと
もに所定時間混合してスラリ−を作り、このスラリ−を
濾過後脱泡しドクタ−ブレ−ドシ−ト成形機を用いてグ
リ−ンシ−トを作成し、このグリ−ンシ−トを適当な大
きさにカッティングし脱バインダ（例えば５００℃、１
０時間の脱バインダ）をすることによって作成される。
０．９１Ｌａ０．０９）（Ｚｒ０．６５Ｔｉ０．３５）
Ｏ３の組成を持つＰＬＺＴ粉体３２を、図２に示すよう
な方法によって押し固めて、上面側を平坦に形成した敷
粉３４が形成されている。すなわち、まず図２の（ａ）
に示すように所定のメッシュ（例えば＃６０）の篩３６
を用いて所定粒径以下のＰＬＺＴ粉体３２をセッタ−１
８の上面に敷き、ついで図２の（ｂ）に示すようにパラ
フィン紙３８を介した平板４０を用いて所定の荷重（例
えば手で押すぐらいの荷重）を加えてＰＬＺＴ粉体３２
を押し固め、上面側を平坦に形成した敷粉３４が形成さ
れる。前記敷粉３４、…の上面には、被焼成物としての
ＰＬＺＴ板２０、…が載置されている。前記ＰＬＺＴ板
２０は例えば次ぎのようにして形成される。すなわち、
ボ−ルミルを用いて、（Ｐｂ０．９１Ｌａ０．０９）（
Ｚｒ０．６５Ｔｉ０．３５）Ｏ３の組成を持つＰＬＺＴ
粉体を、バインダ５〜１０重量％、可塑剤２〜５重量％
、分散剤０．２重量％および溶剤６０〜９０重量％とと
もに所定時間混合してスラリ−を作り、このスラリ−を
濾過後脱泡しドクタ−ブレ−ドシ−ト成形機を用いてグ
リ−ンシ−トを作成し、このグリ−ンシ−トを適当な大
きさにカッティングし脱バインダ（例えば５００℃、１
０時間の脱バインダ）をすることによって作成される。
【０００９】つぎに、前記実施例の作用について説明す
る。ＰＬＺＴ板２０は敷粉３４を介してセッタ−１８上
に載せて内側の耐熱容器１２内に入れられ、内側と外側
の耐熱容器１２と１４の間に、雰囲気ガス導入管２４に
よって外部から雰囲気ガスとしての酸素（Ｏ２）を導入
し、焼成炉１０を作動して所定時間（例えば５０〜１０
０時間）の間所定温度（例えば１２００℃〜１３００℃
）で加熱することによって酸素雰囲気中での焼成が行な
われる。この焼成中において、ＰＬＺＴ板２０とセッタ
−１８の間に形成された敷粉３４は、ＰＬＺＴ板２０と
同一組成物で形成され、ＰＬＺＴ板２０とセッタ−１８
の直接接触を遮断しているので、ＰＬＺＴ板２０とセッ
タ−１８の高温反応を防止している。しかも、敷粉３４
はＰＬＺＴ粉体３２を押し固めて上面側が平坦に形成さ
れているので、ＰＬＺＴ板２０と敷粉３４との高温反応
をも防止している。すなわち、粉体のままだと、焼成中
にＰＬＺＴ板２０とＰＬＺＴ粉体３２の間で高温反応が
生じる可能性があるが、ＰＬＺＴ粉体３２を押し固めて
上面側が平坦に形成された敷粉３４となっているので、
反応しにくいからである。このため、電気光学効果の欠
陥部の原因となる空孔の少ない透光性ＰＬＺＴ焼結体（
焼成物）が得られた。
る。ＰＬＺＴ板２０は敷粉３４を介してセッタ−１８上
に載せて内側の耐熱容器１２内に入れられ、内側と外側
の耐熱容器１２と１４の間に、雰囲気ガス導入管２４に
よって外部から雰囲気ガスとしての酸素（Ｏ２）を導入
し、焼成炉１０を作動して所定時間（例えば５０〜１０
０時間）の間所定温度（例えば１２００℃〜１３００℃
）で加熱することによって酸素雰囲気中での焼成が行な
われる。この焼成中において、ＰＬＺＴ板２０とセッタ
−１８の間に形成された敷粉３４は、ＰＬＺＴ板２０と
同一組成物で形成され、ＰＬＺＴ板２０とセッタ−１８
の直接接触を遮断しているので、ＰＬＺＴ板２０とセッ
タ−１８の高温反応を防止している。しかも、敷粉３４
はＰＬＺＴ粉体３２を押し固めて上面側が平坦に形成さ
れているので、ＰＬＺＴ板２０と敷粉３４との高温反応
をも防止している。すなわち、粉体のままだと、焼成中
にＰＬＺＴ板２０とＰＬＺＴ粉体３２の間で高温反応が
生じる可能性があるが、ＰＬＺＴ粉体３２を押し固めて
上面側が平坦に形成された敷粉３４となっているので、
反応しにくいからである。このため、電気光学効果の欠
陥部の原因となる空孔の少ない透光性ＰＬＺＴ焼結体（
焼成物）が得られた。
【００１０】また、ＰＬＺＴ板２０とセッタ−１８の間
にある敷粉３４は、セッタ−１８側からＰＬＺＴ板２０
へ伝わる熱を遮断してＰＬＺＴ板２０の上面と下面の温
度差を小さくするとともに、ＰＬＺＴ板２０とセッタ−
１８との摩擦を小さくしているので、焼成中におけるＰ
ＬＺＴ板２０の反りを小さくすることができる。すなわ
ち、敷粉３４を設けたこと以外の条件を図４に示す従来
例と同様にした場合、焼成によって得られた所定厚さ（
例えば１ｍｍ）のＰＬＺＴ焼結体（焼成物）５０の上面
の反りの深さＦは、図３に示すように、従来例（図５に
示すＦ＝３００μｍ）の半分以下（Ｆ＝１３０μｍ）で
あった。このため、焼成後の研磨で平坦にすることが容
易になる。一般に、反りの深さＦが１５０μｍ以下であ
れば、焼成後の研磨で平坦にすることが容易であるとい
われている。前記実施例では、セッタ−の上面に形成し
た敷粉は、被焼成物と同一組成物で形成するようにした
が、本発明はこれに限るものでなく、被焼成物とほぼ同
一組成物で形成された粉体を押し固めて上面側を平坦に
形成したものであればよい。
にある敷粉３４は、セッタ−１８側からＰＬＺＴ板２０
へ伝わる熱を遮断してＰＬＺＴ板２０の上面と下面の温
度差を小さくするとともに、ＰＬＺＴ板２０とセッタ−
１８との摩擦を小さくしているので、焼成中におけるＰ
ＬＺＴ板２０の反りを小さくすることができる。すなわ
ち、敷粉３４を設けたこと以外の条件を図４に示す従来
例と同様にした場合、焼成によって得られた所定厚さ（
例えば１ｍｍ）のＰＬＺＴ焼結体（焼成物）５０の上面
の反りの深さＦは、図３に示すように、従来例（図５に
示すＦ＝３００μｍ）の半分以下（Ｆ＝１３０μｍ）で
あった。このため、焼成後の研磨で平坦にすることが容
易になる。一般に、反りの深さＦが１５０μｍ以下であ
れば、焼成後の研磨で平坦にすることが容易であるとい
われている。前記実施例では、セッタ−の上面に形成し
た敷粉は、被焼成物と同一組成物で形成するようにした
が、本発明はこれに限るものでなく、被焼成物とほぼ同
一組成物で形成された粉体を押し固めて上面側を平坦に
形成したものであればよい。
【００１１】
【発明の効果】本発明による雰囲気焼成装置は、上記の
ように構成したので、つぎのような効果を有する。 （イ）セッタ−の上面に被焼成物とほぼ同一組成物で形
成された敷粉を形成し、この敷粉の上面に被焼成物を載
置して被焼成物とセッタ−の直接接触を遮断するように
したので、焼成時間が長くなっても、被焼成物とセッタ
−の高温反応を防止することができる。しかも、敷粉は
粉体を押し固めて上面側を平坦に形成しているので、焼
成時間が長くなっても、被焼成物と敷粉との高温反応を
防止することができる。したがって、焼成物に電気光学
特性の欠陥部が生じるのを防止することができる。 （ロ）被焼成物とセッタ−の間に形成された敷粉が、焼
成中にセッタ−側から被焼成物へ伝わる熱を遮断して被
焼成物の上面と下面の温度差を小さくするとともに、被
焼成物とセッタ−との摩擦を小さくしているので、焼成
中に生じる被焼成物の反りを小さくすることができる。 したがって、焼成物の研磨を容易にすることができる。
ように構成したので、つぎのような効果を有する。 （イ）セッタ−の上面に被焼成物とほぼ同一組成物で形
成された敷粉を形成し、この敷粉の上面に被焼成物を載
置して被焼成物とセッタ−の直接接触を遮断するように
したので、焼成時間が長くなっても、被焼成物とセッタ
−の高温反応を防止することができる。しかも、敷粉は
粉体を押し固めて上面側を平坦に形成しているので、焼
成時間が長くなっても、被焼成物と敷粉との高温反応を
防止することができる。したがって、焼成物に電気光学
特性の欠陥部が生じるのを防止することができる。 （ロ）被焼成物とセッタ−の間に形成された敷粉が、焼
成中にセッタ−側から被焼成物へ伝わる熱を遮断して被
焼成物の上面と下面の温度差を小さくするとともに、被
焼成物とセッタ−との摩擦を小さくしているので、焼成
中に生じる被焼成物の反りを小さくすることができる。 したがって、焼成物の研磨を容易にすることができる。
【図１】本発明による雰囲気焼成装置の一実施例を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】図１の敷粉を形成する方法を示す説明図である
。
。
【図３】図１の装置で焼成した焼成物の反りの深さを説
明する説明図である。
明する説明図である。
【図４】従来例の装置の構成図である。
【図５】図４の装置で焼成した焼成物の反りの深さを説
明する説明図である。
明する説明図である。
１０…焼成炉
１２、１４…耐熱容器（アルミナるつぼ）１６…雰囲気
粉（ＰｂＯ＋ＺｒＯ２） １８…セッタ− ２０…ＰＬＺＴ板（被焼成物） ２４…雰囲気ガス導入管 ３０、５０…ＰＬＺＴ焼結体（焼成物）３２…ＰＬＺＴ
粉体 ３４…敷粉 Ｏ２…酸素（雰囲気ガス）
粉（ＰｂＯ＋ＺｒＯ２） １８…セッタ− ２０…ＰＬＺＴ板（被焼成物） ２４…雰囲気ガス導入管 ３０、５０…ＰＬＺＴ焼結体（焼成物）３２…ＰＬＺＴ
粉体 ３４…敷粉 Ｏ２…酸素（雰囲気ガス）
Claims (1)
- 【請求項１】 焼成炉内に耐熱容器を設け、この耐熱
容器内にセッタ−とこのセッタ−上に載せる被焼成物と
を入れ、前記耐熱容器内に雰囲気ガスを導入して焼成を
行うようにした雰囲気焼成装置において、前記セッタ−
の上面に前記被焼成物とほぼ同一組成物で形成された粉
体を押し固めて上面側を平坦に形成した敷粉を形成し、
この敷粉の上面に前記被焼成物を載置してなることを特
徴とする雰囲気焼成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3049270A JPH04265277A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | 雰囲気焼成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3049270A JPH04265277A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | 雰囲気焼成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04265277A true JPH04265277A (ja) | 1992-09-21 |
Family
ID=12826151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3049270A Pending JPH04265277A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | 雰囲気焼成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04265277A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010083738A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Hitachi Metals Ltd | チタン酸アルミニウム質セラミックハニカム構造体の製造方法 |
-
1991
- 1991-02-20 JP JP3049270A patent/JPH04265277A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010083738A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Hitachi Metals Ltd | チタン酸アルミニウム質セラミックハニカム構造体の製造方法 |
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