JPH04271892A - 抗菌性水性溶媒の製造方法 - Google Patents
抗菌性水性溶媒の製造方法Info
- Publication number
- JPH04271892A JPH04271892A JP3034184A JP3418491A JPH04271892A JP H04271892 A JPH04271892 A JP H04271892A JP 3034184 A JP3034184 A JP 3034184A JP 3418491 A JP3418491 A JP 3418491A JP H04271892 A JPH04271892 A JP H04271892A
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- JP
- Japan
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- high voltage
- pulse
- aqueous solvent
- voltage pulse
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- Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性水性溶媒の製造
方法に関し、さらに詳しくは高電圧パルスを使用した抗
菌性水性溶媒の製造方法に関する。
方法に関し、さらに詳しくは高電圧パルスを使用した抗
菌性水性溶媒の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、高電圧パルスを利用した技術とし
て、以下のものが知られている。例えば液体中に存在す
る微生物の殺菌方法として特開昭６１−２３９８８０号
公報に記載されたアルコール飲料の殺菌方法が知られて
いる。本方法は水中に１０〜７０ＫＶの高電圧を印加す
ることにより高圧プラズマを発生して微生物を死滅させ
るものである。該方法と同様な方法が牛乳の殺菌方法に
も応用されている（特開昭６１−２３９９４６号公報）
。
て、以下のものが知られている。例えば液体中に存在す
る微生物の殺菌方法として特開昭６１−２３９８８０号
公報に記載されたアルコール飲料の殺菌方法が知られて
いる。本方法は水中に１０〜７０ＫＶの高電圧を印加す
ることにより高圧プラズマを発生して微生物を死滅させ
るものである。該方法と同様な方法が牛乳の殺菌方法に
も応用されている（特開昭６１−２３９９４６号公報）
。
【０００３】また高電圧パルスを与えて水中の微生物を
死滅させる方法として特開昭６３−８２６６６号公報記
載の方法がある。該方法においては処理液と電極の間に
高電圧パルスを一定時間連続的に印加することにより微
生物を死滅させるものである。さらに特開昭５５−７１
４３７号公報には高圧電場による微生物を死滅させる方
法が開示されている。また、特開昭６２−１５１１７４
号公報には高電圧パルスによる細胞破壊装置が開示され
ている。
死滅させる方法として特開昭６３−８２６６６号公報記
載の方法がある。該方法においては処理液と電極の間に
高電圧パルスを一定時間連続的に印加することにより微
生物を死滅させるものである。さらに特開昭５５−７１
４３７号公報には高圧電場による微生物を死滅させる方
法が開示されている。また、特開昭６２−１５１１７４
号公報には高電圧パルスによる細胞破壊装置が開示され
ている。
【０００４】しかし、これらの方法はいずれも被処理液
体中に存在する微生物を高電圧パルスの印加により死滅
させる方法として開発されたものであった。
体中に存在する微生物を高電圧パルスの印加により死滅
させる方法として開発されたものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明者は、被処理液体の表面への高電圧パル
スの印加による新しい用途、すなわち被処理液体の表面
に高電圧パルスを印加すると、印加後の液体が抗菌性を
有しており、微生物の繁殖が抑制されることを見出し本
発明を完成するに至った。本発明の目的は、水性溶媒の
表面に高電圧パルスを印加することを特徴とする抗菌性
水性溶媒の製造方法を提供することである。
の手段】本発明者は、被処理液体の表面への高電圧パル
スの印加による新しい用途、すなわち被処理液体の表面
に高電圧パルスを印加すると、印加後の液体が抗菌性を
有しており、微生物の繁殖が抑制されることを見出し本
発明を完成するに至った。本発明の目的は、水性溶媒の
表面に高電圧パルスを印加することを特徴とする抗菌性
水性溶媒の製造方法を提供することである。
【０００６】本発明の方法において高電圧パルスを印加
するための水性溶媒としては、蒸留水、脱イオン水等の
精製水、食品や医薬品における用水、例えば上水等の塩
素含有水、生物実験用水が例示できる。これらの水性溶
媒は、例えば医薬品、農薬、食品等の成分を含有してい
てもよい。又、リン酸緩衝液等の緩衝成分等も含有する
ことができる。これらの成分を含むものとしては、例え
ば注射剤、シロップ剤、点眼剤、点鼻剤、外用剤等の医
薬品、スープ等の食品を例示することができる。本発明
の方法を実施するにあたり、これらの水性溶媒の温度は
特に制限されないが、通常５〜４０℃で高電圧パルスの
印加処理に付せばよい。
するための水性溶媒としては、蒸留水、脱イオン水等の
精製水、食品や医薬品における用水、例えば上水等の塩
素含有水、生物実験用水が例示できる。これらの水性溶
媒は、例えば医薬品、農薬、食品等の成分を含有してい
てもよい。又、リン酸緩衝液等の緩衝成分等も含有する
ことができる。これらの成分を含むものとしては、例え
ば注射剤、シロップ剤、点眼剤、点鼻剤、外用剤等の医
薬品、スープ等の食品を例示することができる。本発明
の方法を実施するにあたり、これらの水性溶媒の温度は
特に制限されないが、通常５〜４０℃で高電圧パルスの
印加処理に付せばよい。
【０００７】高電圧パルスは該水性溶媒に対しての印加
中に常に一定条件で印加する必要はなく、パルスの印加
条件を種々に変化させることも可能であるが、一般的に
は以下に示す条件を満足する一定条件の高電圧パルスを
印加することが好ましい。高電圧パルスのパルス電圧は
、水性溶媒の表面において空気中で放電が起こる条件で
あればよい。電圧が高くなれば抗菌効果が高くなる傾向
があるが、余りに高電圧のパルスを使用すると装置が大
がかりで経済的にも不利益になるので、例えば、電極と
水性溶媒の表面との距離が５ｍｍ程度のときは５〜５０
ＫＶ、好ましくは２０ＫＶのパルス電圧を使用すればよ
い。
中に常に一定条件で印加する必要はなく、パルスの印加
条件を種々に変化させることも可能であるが、一般的に
は以下に示す条件を満足する一定条件の高電圧パルスを
印加することが好ましい。高電圧パルスのパルス電圧は
、水性溶媒の表面において空気中で放電が起こる条件で
あればよい。電圧が高くなれば抗菌効果が高くなる傾向
があるが、余りに高電圧のパルスを使用すると装置が大
がかりで経済的にも不利益になるので、例えば、電極と
水性溶媒の表面との距離が５ｍｍ程度のときは５〜５０
ＫＶ、好ましくは２０ＫＶのパルス電圧を使用すればよ
い。
【０００８】印加すべき高電圧パルス波形の一例を図２
に示す。パルス波形は該方形波に限定されるものではな
く、尖頭波、正弦波等の種々のパルスを使用することを
できる。これらのパルス波形のうち方形波を使用するこ
とが好ましい。高電圧パルスのパルス幅を図２のパルス
波形について説明すると、パルス電圧が立ち上がるとき
における該パルス電圧の最大値の半分の値Ｖ１ から、
引き続いて最大値を経て立ち下がるときにおける最大値
の半分の値Ｖ２ までの時間Ｔとして定義される。パル
ス幅が大きくなると抗菌効果が高くなるが、パルス幅が
必要以上に大きくなると電気分解、過度の発熱等の不利
益を生じるので、パルス幅が０．０１〜１０００μｓ、
好ましくは１μｓの高電圧パルスを使用すればよい。
に示す。パルス波形は該方形波に限定されるものではな
く、尖頭波、正弦波等の種々のパルスを使用することを
できる。これらのパルス波形のうち方形波を使用するこ
とが好ましい。高電圧パルスのパルス幅を図２のパルス
波形について説明すると、パルス電圧が立ち上がるとき
における該パルス電圧の最大値の半分の値Ｖ１ から、
引き続いて最大値を経て立ち下がるときにおける最大値
の半分の値Ｖ２ までの時間Ｔとして定義される。パル
ス幅が大きくなると抗菌効果が高くなるが、パルス幅が
必要以上に大きくなると電気分解、過度の発熱等の不利
益を生じるので、パルス幅が０．０１〜１０００μｓ、
好ましくは１μｓの高電圧パルスを使用すればよい。
【０００９】高電圧パルスの周波数を図２のパルス波形
について説明すると、パルス電圧が立ち上がって最大値
を与えてから、再び立ち上がって最大値を与えるまでの
周期が１秒間に繰り返される回数として定義される。パ
ルス周波数が大きくなると抗菌効果の高い水性溶媒が得
られるが、余りに周波数の大きいパルスを使用すると放
電経路が定まらなくなり放電が液体表面に充分に施され
なくなるので、パルス周波数が１０１ 〜１０５ Ｈｚ
、好ましくは１０３ Ｈｚの高電圧パルスを使用すれば
良い。
について説明すると、パルス電圧が立ち上がって最大値
を与えてから、再び立ち上がって最大値を与えるまでの
周期が１秒間に繰り返される回数として定義される。パ
ルス周波数が大きくなると抗菌効果の高い水性溶媒が得
られるが、余りに周波数の大きいパルスを使用すると放
電経路が定まらなくなり放電が液体表面に充分に施され
なくなるので、パルス周波数が１０１ 〜１０５ Ｈｚ
、好ましくは１０３ Ｈｚの高電圧パルスを使用すれば
良い。
【００１０】高電圧パルスを水性溶媒の表面に印加する
電極としては、例えばタングステン、ステンレス、白金
、グラファイト等の導電性部材で製造された種々の電極
が使用でき、例えば針状、板状、球状、線状等の種々の
形状の電極が使用できる。該電極は、水性溶媒の液体表
面からの空中放電距離が３０ｍｍ以内、好ましくは約５
ｍｍとなるように液面上方に配置される。
電極としては、例えばタングステン、ステンレス、白金
、グラファイト等の導電性部材で製造された種々の電極
が使用でき、例えば針状、板状、球状、線状等の種々の
形状の電極が使用できる。該電極は、水性溶媒の液体表
面からの空中放電距離が３０ｍｍ以内、好ましくは約５
ｍｍとなるように液面上方に配置される。
【００１１】高電圧パルスの印加時間は、発育を抑制し
ようとする微生物の種類や量、高電圧パルスのその他の
印加条件、水性溶媒に含有される食品等の成分の種類や
水性溶媒の温度等に応じて適宜決定すればよい。一般的
には、該印加時間は、その時間を長くすることにより抗
菌効果を高くすることができる。上記の様な高電圧パル
スの印加後に、高電圧パルスの印加による発熱を防止す
るために印加休止時間を設けてもよい。該印加休止工程
の後に行われる高電圧パルスの印加は、印加休止工程前
に使用した高電圧パルスと同条件の高電圧パルスを使用
してもよいが、必要により異なったパルス幅、パルス周
波数等を選択して高電圧パルスの印加を行ってもよい。
ようとする微生物の種類や量、高電圧パルスのその他の
印加条件、水性溶媒に含有される食品等の成分の種類や
水性溶媒の温度等に応じて適宜決定すればよい。一般的
には、該印加時間は、その時間を長くすることにより抗
菌効果を高くすることができる。上記の様な高電圧パル
スの印加後に、高電圧パルスの印加による発熱を防止す
るために印加休止時間を設けてもよい。該印加休止工程
の後に行われる高電圧パルスの印加は、印加休止工程前
に使用した高電圧パルスと同条件の高電圧パルスを使用
してもよいが、必要により異なったパルス幅、パルス周
波数等を選択して高電圧パルスの印加を行ってもよい。
【００１２】これらの高電圧パルスを上記の水性溶媒に
印加するにあたり、空気下で印加処理を行ってもよいが
、水性溶媒として脱イオン水を使用する場合は、アルゴ
ン雰囲気下で印加処理を行うことが最も好ましい。窒素
雰囲気下では本発明の効果が充分に得られ難いので、窒
素雰囲気下で印加処理を行うことは好ましくない。
印加するにあたり、空気下で印加処理を行ってもよいが
、水性溶媒として脱イオン水を使用する場合は、アルゴ
ン雰囲気下で印加処理を行うことが最も好ましい。窒素
雰囲気下では本発明の効果が充分に得られ難いので、窒
素雰囲気下で印加処理を行うことは好ましくない。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法により得られる抗菌性水性
溶媒は、各種の微生物に対して抗菌性を有する。例えば
、芽胞菌、大腸菌等の細菌や、酵母等の真菌に対して発
育を抑制し、若しくは殺菌性を有する。例えば、脱イオ
ン水に対してアルゴン雰囲気下に高電圧パルスを印加す
ることにより得られた抗菌性水性溶媒は、微生物が繁殖
し難いので保存用水として有用であり、また他の食品や
医薬品に添加することにより食品や医薬品の微生物汚染
を防止することができる。
溶媒は、各種の微生物に対して抗菌性を有する。例えば
、芽胞菌、大腸菌等の細菌や、酵母等の真菌に対して発
育を抑制し、若しくは殺菌性を有する。例えば、脱イオ
ン水に対してアルゴン雰囲気下に高電圧パルスを印加す
ることにより得られた抗菌性水性溶媒は、微生物が繁殖
し難いので保存用水として有用であり、また他の食品や
医薬品に添加することにより食品や医薬品の微生物汚染
を防止することができる。
【００１４】
【実施例】以下に本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【００１５】
【実施例１】図１に示す回路において、底部がステンレ
ス製の容器２に脱イオン水１００ｃｃを充填し、該液面
から５ｍｍ離れた位置にステンレス製の針状電極１を配
置した。該電極は電気回路４を経てパルス正出力部５に
接続され、更にパルス負出力部６はアース７で設置され
ている。
ス製の容器２に脱イオン水１００ｃｃを充填し、該液面
から５ｍｍ離れた位置にステンレス製の針状電極１を配
置した。該電極は電気回路４を経てパルス正出力部５に
接続され、更にパルス負出力部６はアース７で設置され
ている。
【００１６】パルス印加条件をパルス電圧：２０ＫＶ、
出力極性：正、パルス幅：１μｓ、周波数：１０００Ｈ
ｚとして空気の雰囲気下において該液面に３０分間図２
の高電圧パルスを印加した。
出力極性：正、パルス幅：１μｓ、周波数：１０００Ｈ
ｚとして空気の雰囲気下において該液面に３０分間図２
の高電圧パルスを印加した。
【００１７】
【実施例２】容器２に脱イオン水１００ｃｃを充填し、
該容器のヘッドスペース部をアルゴンにより充満させる
こと以外は実施例１と同様にして液面に高電圧パルスを
印加した。
該容器のヘッドスペース部をアルゴンにより充満させる
こと以外は実施例１と同様にして液面に高電圧パルスを
印加した。
【００１８】
【実施例３】脱イオン水にかえて、１／１５Ｍの第１リ
ン酸カリウムと１／１５Ｍの第２リン酸ナトリウムを３
：７（体積比）の割合で混合したリン酸緩衝液を使用す
ること、パルス電圧を１５ＫＶにすること以外は、実施
例１と同様にして液面に高電圧パルスを印加した。実施
例１〜３から得られた脱イオン水の抗菌性を下記の菌Ａ
〜Ｄについて以下の方法により確認した。 （確認方法） （１）直径８５ｍｍのシャーレに湯浴中で溶かした寒天
培地６．５ｍｌ（日本製薬（株）製感受性試験培地）を
流し込み、固化させた。次いで１０５ コ／ｍｌに調整
した菌液１ｍｌと湯浴中で溶かした上記寒天培地６．５
ｍｌを混合し、これを固化させた上記寒天培地の上に流
し込み、固化させた。 （２）高電圧パルスを印加した処理液９０μｌを直径１
０ｍｍのペーパーディスクにしみ込ませた。 （３）処理液を吸水させたペーパーディスクを菌を含む
寒天培地の上に載置し培養した。 培養条件 下記菌Ａ、Ｂ：３０℃ １７時間 下記菌Ｃ、Ｄ：３５℃ １７時間 （４）培養した後における抗菌性の有無は、ペーパーデ
ィスクの周縁に菌が生育していない部分が認められるか
否かにより判断した。抗菌性を有している場合は、ペー
パーディスクの周縁に菌が生育していない部分が認めら
れる。尚、この部分で形成された円（「増殖阻止円」と
称す）の直径が大きい程、処理液が有する抗菌性が強い
ことを示す。 １．菌Ａ：バチルス ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ
ｓｕｂｔｉｌｉｓ）ＡＴＣＣ６６３３（芽胞菌） ２．菌Ｂ：バチルス セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ
ｃｅｒｅｕｓ）ＡＴＣＣ１１７７８（芽胞菌） ３．菌Ｃ：ミクロコッカス ルテウス（Ｍｉｃｒｏｃ
ｏｃｃｕｓ ｌｕｔｅｕｓ） ＡＴＣＣ９３４１（細菌
類）４．菌Ｄ：大腸菌（細菌類）（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈ
ｉａ ｃｏｌｉ） ━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例１
実施例２ 実施例
３ ━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━
菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ 菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ
菌Ｄ 菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━増殖阻止 １１ １２ １２．
６ ２１．６ ２６．４ ２１．６ ２１
．０ １４．１ １６．８ １９．４円の直
径 （ｍｍ） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━以上の結果から、本発明方法で
処理した水性溶媒が抗菌力を有していることが明らかで
ある。
ン酸カリウムと１／１５Ｍの第２リン酸ナトリウムを３
：７（体積比）の割合で混合したリン酸緩衝液を使用す
ること、パルス電圧を１５ＫＶにすること以外は、実施
例１と同様にして液面に高電圧パルスを印加した。実施
例１〜３から得られた脱イオン水の抗菌性を下記の菌Ａ
〜Ｄについて以下の方法により確認した。 （確認方法） （１）直径８５ｍｍのシャーレに湯浴中で溶かした寒天
培地６．５ｍｌ（日本製薬（株）製感受性試験培地）を
流し込み、固化させた。次いで１０５ コ／ｍｌに調整
した菌液１ｍｌと湯浴中で溶かした上記寒天培地６．５
ｍｌを混合し、これを固化させた上記寒天培地の上に流
し込み、固化させた。 （２）高電圧パルスを印加した処理液９０μｌを直径１
０ｍｍのペーパーディスクにしみ込ませた。 （３）処理液を吸水させたペーパーディスクを菌を含む
寒天培地の上に載置し培養した。 培養条件 下記菌Ａ、Ｂ：３０℃ １７時間 下記菌Ｃ、Ｄ：３５℃ １７時間 （４）培養した後における抗菌性の有無は、ペーパーデ
ィスクの周縁に菌が生育していない部分が認められるか
否かにより判断した。抗菌性を有している場合は、ペー
パーディスクの周縁に菌が生育していない部分が認めら
れる。尚、この部分で形成された円（「増殖阻止円」と
称す）の直径が大きい程、処理液が有する抗菌性が強い
ことを示す。 １．菌Ａ：バチルス ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ
ｓｕｂｔｉｌｉｓ）ＡＴＣＣ６６３３（芽胞菌） ２．菌Ｂ：バチルス セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ
ｃｅｒｅｕｓ）ＡＴＣＣ１１７７８（芽胞菌） ３．菌Ｃ：ミクロコッカス ルテウス（Ｍｉｃｒｏｃ
ｏｃｃｕｓ ｌｕｔｅｕｓ） ＡＴＣＣ９３４１（細菌
類）４．菌Ｄ：大腸菌（細菌類）（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈ
ｉａ ｃｏｌｉ） ━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例１
実施例２ 実施例
３ ━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━
菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ 菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ
菌Ｄ 菌Ａ 菌Ｂ 菌Ｃ━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━増殖阻止 １１ １２ １２．
６ ２１．６ ２６．４ ２１．６ ２１
．０ １４．１ １６．８ １９．４円の直
径 （ｍｍ） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━以上の結果から、本発明方法で
処理した水性溶媒が抗菌力を有していることが明らかで
ある。
【００１９】
【実施例４】印加時間を２０分にした以外は実施例２と
同様にして液面に高電圧パルスを印加した。実施例３に
より得られた直後の脱イオン水、この脱イオン水を３０
℃で１日保存した液、及び同様にして４日間保存した液
について菌Ａ〜Ｃに対する抗菌性を上記の方法により測
定し、これにより実施例３から得られた脱イオン水の抗
菌力の持続性を確認した。
同様にして液面に高電圧パルスを印加した。実施例３に
より得られた直後の脱イオン水、この脱イオン水を３０
℃で１日保存した液、及び同様にして４日間保存した液
について菌Ａ〜Ｃに対する抗菌性を上記の方法により測
定し、これにより実施例３から得られた脱イオン水の抗
菌力の持続性を確認した。
【００２０】
━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━
処理直後 １日後 ４日後
━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━ 菌Ａ
１６．３ １５．７ １５
．５ ━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━ 菌
Ｂ １８．１ １７．５
１７．５ ━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━
菌Ｃ １８．６ １８．３
１７．５ ━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━以上の結果から、本発明
の方法で処理した水性溶媒が抗菌力の持続性を有してい
ることが明らかである。
━━━━━━━━
処理直後 １日後 ４日後
━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━ 菌Ａ
１６．３ １５．７ １５
．５ ━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━ 菌
Ｂ １８．１ １７．５
１７．５ ━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━
菌Ｃ １８．６ １８．３
１７．５ ━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━以上の結果から、本発明
の方法で処理した水性溶媒が抗菌力の持続性を有してい
ることが明らかである。
【図１】本発明の方法を実施するための回路の１例を示
す図である。
す図である。
【図２】本発明の方法に使用する高電圧パルスの波形の
１例を示す図である。
１例を示す図である。
１ 電極
２ 容器
３ 水性溶媒
４ 電気回路
５ パルス正出力部
６ パルス負出力部
７ アース
Claims (1)
- 【請求項１】 水性溶媒の表面に高電圧パルスを印加
することを特徴とする抗菌性水性溶媒の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034184A JP2794225B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 抗菌性水性溶媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034184A JP2794225B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 抗菌性水性溶媒の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04271892A true JPH04271892A (ja) | 1992-09-28 |
| JP2794225B2 JP2794225B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=12407114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3034184A Expired - Fee Related JP2794225B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 抗菌性水性溶媒の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794225B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010523326A (ja) * | 2007-04-10 | 2010-07-15 | トゥエンティーワンシー シップビルディング カンパニー リミテッド | 水中パルスプラズマ処理装置及びそれを用いた船舶バラスト水処理システム及びその方法 |
| JP2022135910A (ja) * | 2021-03-03 | 2022-09-15 | 国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構 | 加熱処理方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56141739U (ja) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | ||
| JPS56141738U (ja) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | ||
| JPH02284689A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-22 | Fujita Corp | 水の殺菌方法 |
-
1991
- 1991-02-28 JP JP3034184A patent/JP2794225B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56141739U (ja) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | ||
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|---|---|---|---|---|
| JP2010523326A (ja) * | 2007-04-10 | 2010-07-15 | トゥエンティーワンシー シップビルディング カンパニー リミテッド | 水中パルスプラズマ処理装置及びそれを用いた船舶バラスト水処理システム及びその方法 |
| JP2022135910A (ja) * | 2021-03-03 | 2022-09-15 | 国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構 | 加熱処理方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794225B2 (ja) | 1998-09-03 |
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