JPH04272183A - 鉄心加工性に優れた低温焼付け方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は鉄心加工性および磁気特
性の優れた低温焼付け方向性電磁鋼板絶縁被膜形成方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】方向性電磁鋼板はＳｉを例えば２〜４％
含有する珪素鋼スラブを熱間圧延し、焼鈍した後１回或
いは中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して最終板
厚し、次いで脱炭焼鈍し、鋼板表面にＳｉＯ２　主体の
酸化膜を形成後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗
布し、仕上焼鈍を施してゴス方位を持つ２次再結晶を発
達させ、さらにＳ，Ｎ等の不純物を除去すると共にフォ
ルステライト（Ｍｇ２　ＳｉＯ４　）主体のグラス皮膜
を形成し、次いで絶縁皮膜形成用コーティング剤を塗布
し、焼付け処理を行って製品とされる。

【０００３】また、鉄損をより改善することを目的とし
て、仕上焼鈍後あるいは前に、方向性電磁鋼板の表面に
微細な線状歪を間隔を置いて付与し、磁区細分化するこ
とが行われている（特開昭５３−１３７０１６号公報、
特開昭５６−５１５２２号公報）。前記、線状歪が絶縁
皮膜形成後になされた場合、皮膜が局所的に損傷するこ
とがあるため、防錆、絶縁の目的で再度絶縁皮膜形成用
コーティング剤を塗布し、線状歪による鉄損改善効果が
消失しない程度の低温度で焼付け処理される。

【０００４】ところで、方向性電磁鋼板は主としてトラ
ンス、電気機器の鉄心材料として用いられるが、鉄心製
造の際には所定幅にスリット、剪断或いは打ち抜き加工
した材料を連続的に巻加工したり、積層して巻鉄心や積
鉄心として使用される。巻鉄心の場合には巻加工、圧縮
成型、歪取り焼鈍を経てレーシングと呼ばれる巻線作業
の後、ケースに入れてトランスとされる。積鉄心の場合
には主に手作業により鉄心を組立て、巻線作業を行って
トランスとされる。

【０００５】鉄心製造においては、例えば巻鉄心の場合
には皮膜の潤滑性が良く、巻加工、成型作業が円滑に行
え、且つ成型後の鋼板端面やラップ部に凹凸を生ぜず、
形状が優れていることが重要である。積鉄心の場合絶縁
性等の皮膜特性のほかに需要家での加工段階でのコイル
表面の絶縁皮膜が搬送ロール等の負荷荷重下での接触や
剪断時に剥離や発粉しない強度を有することが要求され
る。

【０００６】特に従来の方向性電磁鋼板の絶縁皮膜形成
用コーティング剤としては皮膜張力、絶縁性、耐食性等
の問題からコロイダルシリカ−リン酸塩−クロム酸塩系
或いはリン酸塩単独系のものが主として使用されている
。この皮膜成分のクロム化合物、リン化合物のトランス
加工工程での発粉や皮膜剥離による作業環境への影響を
回避するため、皮膜特性を改善することによって絶縁皮
膜の発粉、剥離を防止すべく絶縁皮膜形成用コーティン
グ剤の開発や皮膜形成法の開発が望まれている。

【０００７】絶縁皮膜形成用コーティング剤の改良によ
って皮膜の性状を改良する手段としては、例えば特開昭
６１−４７７３号公報にはコーティング剤としてＡｌ，
Ｍｇ等の第１リン酸塩に粒子径８ｎｍ以下の超微粒子コ
ロイダルシリカとクロム酸、クロム酸塩の１種或いは２
種以上を配合した混合液を仕上焼鈍後の鋼板に塗布し、
焼付け処理することによって絶縁皮膜のすべり性を改善
する技術が開示されている。

【０００８】これらの絶縁皮膜の改善によって方向性電
磁鋼板の鉄損、磁気歪、絶縁特性と共に皮膜の潤滑性が
改良され、その結果、鉄心加工時の作業性や皮膜の発粉
、剥離現象を改善する効果が得られている。しかし、製
品にレーザー等で線状歪を付与し、低鉄損化し、低温度
で再度絶縁皮膜の焼付け処理を行う低鉄損方向性電磁鋼
板においては、線状歪による鉄損改善効果の保持のため
焼付け処理は５００℃以下のような低温度で行わなけれ
ばならず、そのため前述の従来の絶縁皮膜形成用コーテ
ィング剤では皮膜形成が十分に完了していないので、絶
縁皮膜の強度（硬度）が十分ではない。

【０００９】この結果、後の加工工程で絶縁皮膜に疵が
生じ易く、発粉や剥離現象により作業環境汚染の問題を
生じたり、表面疵による特性劣化等の問題を生じる。こ
のため、本発明の対象である超低鉄損化された方向性電
磁鋼板の場合、製作されるトランスにおいて十分に特性
を発揮させるための一つの手段として、絶縁皮膜特性の
向上による鉄心加工性を一層の向上を図ることが重要で
ある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は方向性電磁鋼
板にレーザー等によって線状歪を付与して鉄損を低下さ
せた鋼板において、歪付与の前または後に、或いは前後
両方で方向性電磁鋼板に絶縁皮膜を形成するにあたり、
すべり性が良く、鉄心加工性に優れ、かつ発粉、剥離等
のない絶縁皮膜を形成する方法を提供することを目的と
する。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは下記のとおりである。 （１）　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そのまま或は熱
延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を挟む２回以上
の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍し、
焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリップコイルとし
た後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形成用コーティ
ング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電磁鋼板の表面
に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段によって線状
歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティング剤を塗布
し、５００℃以下の低温域で焼付け処理して絶縁皮膜を
形成する方法において、前記最終的になされる絶縁皮膜
形成のためのコーティング剤として、ＣｒＯ３　：１０
重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６０重量部、Ｍ
ｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種または２種以
上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およびＮａ２　Ｓ
ｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．０重量部を配
合したものを用いることを特徴とする鉄心加工性に優れ
た低温焼付け方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。

【００１２】（２）　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そ
のまま或は熱延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を
挟む２回以上の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで
脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリッ
プコイルとした後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形
成用コーティング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電
磁鋼板の表面に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段
によって線状歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティ
ング剤を塗布し、５００℃以下の低温域で焼付け処理し
て絶縁皮膜を形成する方法において、前記最終的になさ
れる絶縁皮膜形成のためのコーティング剤として、Ｃｒ
Ｏ３　：１０重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６
０重量部、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種
または２種以上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およ
びＮａ２　ＳｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．
０重量部、さらにグリセリン、アジピン酸およびコハク
酸の何れか１種または２種以上を０．５〜５．０重量部
配合したものを用いることを特徴とする鉄心加工性に優
れた低温焼付け方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。

【００１３】（３）　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そ
のまま或は熱延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を
挟む２回以上の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで
脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリッ
プコイルとした後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形
成用コーティング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電
磁鋼板の表面に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段
によって線状歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティ
ング剤を塗布し、５００℃以下の低温域で焼付け処理し
て絶縁皮膜を形成する方法において、前記最終的になさ
れる絶縁皮膜形成のためのコーティング剤として、Ｃｒ
Ｏ３　：１０重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６
０重量部、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種
または２種以上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およ
びＮａ２　ＳｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．
０重量部、さらにグリセリン、アジピン酸およびコハク
酸の何れか１種または２種以上を０．５〜５．０重量部
ならびに粒子径：８０〜５００ｎｍのコロイダルシリカ
溶液をＳｉＯ２　として１〜１０重量部配合したものを
用いることを特徴とする鉄心加工性に優れた低温焼付け
方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。

【００１４】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明者らは鋼板表面にレーザー等により線状歪を間隔を
置いて付与し、また線状歪付与前後に絶縁皮膜形成用コ
ーティング剤を施し、低温度で焼付け処理する工程にお
ける前記従来の問題点解決のため検討を行った。この結
果、このような低温焼付け皮膜においては、従来のリン
酸塩−コロイダルシリカ−クロム化合物系コーティング
或いはリン酸塩単独系のコーティング剤では皮膜形成が
十分に進行せず、皮膜の強度、潤滑性が得られないこと
が分かった。この対策を検討した結果、クロム酸−Ａｌ
、Ｃａ、Ｍｇ等の酸化物−リン酸系組成をベースとして
、グリセリン等の還元剤と粗粒子コロイドを添加した組
成で、低温焼付けにも拘らず潤滑性が著しく良好で、硬
度が著しく高められることが判明した。このコーティン
グ剤により、絶縁皮膜の潤滑性、耐食性、密着性等が著
しく向上し、加工工程で発粉、皮膜剥離等による作業環
境問題のない絶縁皮膜の形成ができることを見出した。

【００１５】以下、実験データに基づき詳細に説明する
。公知の方法で製造した板厚０．２３ｍｍの高磁束密度
方向性電磁鋼板の仕上焼鈍後のコイルからサンプルを切
り出し、８５０℃×４Ｈｒの歪取り焼鈍を行い、コイル
セットと歪を除去した。次いで２％Ｈ２　ＳＯ４　で８
０℃×２０秒の軽酸洗の後、粒子径１０ｎｍの２０％コ
ロイダルシリカ１００ｍｌ、５０％第１リン酸Ａｌ５５
ｍｌ、無水クロム酸７ｇからなる組成のコーティング剤
を焼付け後の重量で４．５ｇ／ｍ２　になるように塗布
し、Ｎ２　雰囲気中で８００℃×２０秒の焼付け処理を
行った。次いでレーザー処理により製品板表面に圧延直
交方向に間隔５ｍｍで線状歪付与処理を行い、鉄損特性
の改善処理を行った。

【００１６】この鋼板に表１に示す組成の絶縁皮膜形成
用コーティング剤を焼付け後の重量で２．５ｇ／ｍ２　
になるように塗布し、３５０℃×２０秒間、大気中で低
温焼付け処理を行った。得られた製品板から試料を切り
出し、図１、図２に示す方法により絶縁皮膜潤滑性（Ａ
法，Ｂ法）を測定した。また、別に切り出した試料によ
り、図３、図４の方法で歪取り焼鈍後の皮膜の焼付状況
を測定した。さらに皮膜の耐食性、磁気特性への影響等
についても調査を行った。結果を表２に示す。この結果
、本発明のように微粒子のコロイダルシリカを主成分に
使用しない絶縁皮膜形成用コーティング剤においては皮
膜特性が優れ、潤滑性等の著しい向上が見られ、特に粗
粒子のコロイダルシリカを併用したものは潤滑特性の著
しい改善効果が得られた。

【００１７】次に、本発明の絶縁皮膜の形成方法につい
て述べる。本発明における絶縁皮膜形成用コーティング
剤は、クロム酸１０重量部に対し、リン酸３０〜６０重
量部、Ａｌ、Ｃａ，Ｍｇの酸化物の１種または２種以上
６〜１６重量部、必要に応じてグリセリン、コハク酸、
アジピン酸の１種または２種以上、および／または粒子
径８０〜５００ｎｍの粗粒子コロイダルシリカ溶液をＳ
ｉＯ２として１〜１０重量部からなる組成を有する。

【００１８】ＣｒＯ３　は皮膜を緻密化して硬さをもた
らすためと、フリーリン酸およびリン酸塩との反応によ
り、リン酸、リン酸塩の吸湿を抑えるために重要である
。クロム酸は多すぎるとフリーのクロム酸のためにベタ
ツキが生じたり、皮膜の緻密性を損なう。逆に少なすぎ
るとフリーのリン酸が皮膜焼付け後に残存するため吸湿
して、ベタツキや錆を発生する。

【００１９】Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇの酸化物はリン酸、クロ
ム酸と反応して安定な化合物を形成する。これにより皮
膜を緻密化し、絶縁性、皮膜張力を向上し、密着性の良
い皮膜を形成する。ＣｒＯ３　１０重量部に対し６重量
部より少ないとフリーのＣｒが増加しベタツキ発生の領
域が広がる。また、絶縁性、耐食性等の皮膜特性が劣化
する。一方、１６重量部より多い場合、酸化物の不溶解
分が生じて、外観、密着性を損なうため好ましくない。

【００２０】リン酸は他の成分と反応してリン酸化合物
を形成し、皮膜を緻密なガラス皮膜にする作用が強く、
潤滑性、皮膜張力等に大きい影響力を持つ。クロム酸１
０重量部に対し、３０重量部未満では潤滑性の向上効果
が弱く、Ａｌ等の酸化物の不溶解分が生じて皮膜特性を
損なう。逆に、６０重量部超の添加では、フリーのリン
酸分の増加により、吸湿性によるベタツキ等の問題を生
じる。

【００２１】本発明のように低温焼付け皮膜においては
、クロム酸、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ等の酸化物、リン酸の配
合割合はこのように緻密にコントロールされる。Ｈ３　
ＢＯ３　および／またはＮａ２　ＳｉＯ３の添加はクロ
ム酸１０重量部に対し、０．５〜５．０重量部の割合で
添加される。これらの添加は皮膜のガラス化、緻密化に
有効で、同時に焼付け皮膜形成温度を低下するのにも効
果的である。添加量がクロム酸１０重量部に対し０．５
重量部未満では、このようなガラス化作用が弱く、添加
量５．０重量部超では皮膜の硬さが低下したり、Ｎａ２
　ＳｉＯ３　ではベタツキ現象が生じるため好ましくな
い。

【００２２】必要に応じて配合されるグリセリン、アジ
ピン酸、コハク酸は皮膜焼付け温度の低温化に有効であ
る。本発明のようにレーザー等による線状歪を付与して
磁区制御して鉄損を改善する工程においては、線状歪の
保持のためには焼付け温度は５００℃以下の低温度で行
うことが重要である。グリセリン等の還元剤はＣｒＯ３
　１０重量部に対し０．５〜５．０重量部の範囲で添加
される。０．５重量部より少ないとこの効果が少ない。 一方、５．０重量部より多いと溶液の安定性が低下する
ため好ましくなく、またこの場合、有機成分の増加によ
り焼付け時に圧縮応力が生じるため磁性劣化の問題も生
じる。

【００２３】粗粒子のコロイダルシリカの添加は粒子径
８０〜５００ｎｍ、添加量はクロム酸１０重量部に対し
、ＳｉＯ２　として１〜１０重量部である。粗粒子コロ
イダルシリカはその粒子の球面形状によって皮膜に微細
な球面突起を形成する。この形状効果及び粒子によって
皮膜の潤滑性と硬さを向上し、鉄心加工性を向上する。 粗粒子のコロイダルシリカの粒径は８０〜５００ｎｍで
ある。粒子径が８０ｎｍより小さいと潤滑性の改善効果
が小さい。粒子径が５００ｎｍ超だと本発明のように塗
布量の比較的少ないコーティングでは、占積率を劣化さ
せたり、コーティング溶液の安定性に問題がある。最も
好ましいのは１００〜３００ｎｍの粒径である。

【００２４】粗粒子のコロイダルシリカの添加量をクロ
ム酸１０重量部当たりＳｉＯ２　換算で１〜１０重量部
とする理由は、１重量部より少ないと潤滑性等の改善効
果が小さく、１０重量部より多いと粒子径が大きいとき
と同様に占積率の低下をもたらすため好ましくない。こ
れらの組成からなる絶縁皮膜形成用コーティング剤は水
溶液とされてコーティングロール等によって鋼板に塗布
され、焼付け処理される。この際の乾燥条件は鋼板温度
５００℃以下で焼付け処理される。この場合の雰囲気条
件はＮ２　等の雰囲気ガス中或いは大気中等のいずれで
も構わない。

【００２５】焼付け温度は５００℃以下である。５００
℃より高いとレーザー等による線状歪による鉄損改善効
果が歪の解放により減少する。好ましくは２５０〜４５
０℃である。これらの乾燥・焼付け条件の最適点はコー
ティング剤の組成により変化する。以下、実施例につい
て述べる。

【００２６】

【実施例】実施例１ 重量％でＣ；０．００８２％，Ｓｉ；３．３５％，Ｍｎ
；０．０６７％，Ｓ；０．０２４％，Ａｌ；０．０３２
％、残部が鉄及び不可避の不純物からなる珪素鋼スラブ
を公知の方法で熱延、焼鈍、冷延して最終板厚０．２３
ｍｍとした。次いでＮ２　＋Ｈ２　湿潤雰囲気中で脱炭
焼鈍した後、焼鈍分離剤を塗布し、１２００℃×２０Ｈ
ｒの仕上焼鈍を行い、グラス皮膜を形成した。次いで余
剰のＭｇＯを水洗で除去し、軽酸洗の後、粒子径１０ｎ
ｍの２０％コロイダルシリカ１００ｍｌ、５０％第１リ
ン酸Ａｌ　　５５ｍｌ、無水クロム酸４ｇからなる公知
の絶縁皮膜形成用コーティング剤を焼付け処理後の重量
で４．０ｇ／ｍ２　になるように塗布し、８１０℃×２
０秒、Ｎ２　中で焼付け処理を行った。その後、レーザ
ー照射により鋼板の圧延直交方向に５ｍｍ間隔で線状歪
を付与し、鉄損改善処理を行った。次いで表３に示す組
成の絶縁皮膜形成用コーティング剤を焼付け後の皮膜重
量で２．０ｇ／ｍ２　になるように塗布し、４５０℃で
６０秒間、大気中で焼付け処理を行った。この鋼板から
サンプルを切り出し、皮膜特性の調査を行った。結果を
表４に示す。

【００２７】本発明の絶縁皮膜形成用コーティング剤に
よる皮膜は、潤滑性、耐食性等の特性で、いずれも従来
の微粒子コロイダルシリカ−クロム酸−リン酸塩系皮膜
に比較して、同等以上の特性が得られた。 実施例２ 実施例１と同様にして得たレーザー処理後の鋼板を出発
材として、この鋼板に表５に示す組成の粗粒子のコロイ
ダルシリカを添加した絶縁皮膜形成用コーティング剤を
実施例１と同様にして塗布し、３５０℃で３０秒間、大
気中で焼付け処理を行った。

【００２８】この焼付け処理後の鋼板からサンプルを切
り出し、皮膜特性の調査を行った。結果を表６に示す。 本発明の絶縁皮膜形成用コーティング剤によるものは実
施例１と同様に低温度焼付けにも拘らず、潤滑性、耐食
性等いずれも良好な結果が得られた。

【００２９】

【表１】

【００３０】

【表２】

【００３１】

【表３】

【００３２】

【表４】

【００３３】

【表５】

【００３４】

【表６】

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、低温焼付け処理にも拘
らず、鋼板の潤滑性が著しく良好で、需要家におけるト
ランス加工時の皮膜成分の発粉、剥離等による作業環境
汚染の問題のない絶縁皮膜形成法が提供できる。また、
絶縁皮膜の耐食性が良好で、レーザー等による線状歪付
与による磁性の改善効果を劣化させない絶縁皮膜を形成
でき、低温で吸湿性のない緻密な絶縁皮膜を形成するこ
とができる。

【００３６】この結果、図３に示すように、従来の絶縁
皮膜形成用コーティング剤に比較して低温度焼付けでの
潤滑性、耐食性が著しく改善される。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１はＡ法の説明図で、挟み板１−１，１−２
間に試料２を置き重錘３にて荷重Ｎを加え、試料２を引
き出す力Ａをバネ計りで測定し、すべり摩擦係数μをμ
（ＦＦ）＝Ａ／Ｎにより求める。

【図２】図２はＢ法の説明図で、絶縁皮膜上に一定加重
を加えた鋼球を置き、その鋼球を往復運動させて、鋼球
が絶縁皮膜から受ける抵抗値を歪ゲージにより連続的に
測定する。

【図３】図３は鋼板の積層方法の説明図で、長さ３×４
ｃｍに剪断した鋼板を図に示す如く交互に積層する。

【図４】図４は鋼板の焼付き状態の評価方法の説明図で
、図３に示すように鋼板を積層した後、圧力６０ｋｇ／
ｃｍ２　でボルト締めし、次いで８５０℃×４Ｈｒ　　
Ｎ２　、ＤＰ１０℃中で焼鈍後、図に示す如くバネ計り
で剥離荷重を測定し、焼付き状態を評価する。

【図５】図５は絶縁皮膜の焼付け温度と皮膜の耐食性（
吸湿性）を示す図である。☆の本発明材は実施例２の絶
縁皮膜成分Ｎｏ．４を塗布・焼付けした材料、★は実施
例２のＮｏ．６の比較例の特公昭５３−２８３７５号公
報による皮膜剤を塗布・焼付けした材料を大気中、５０
℃×４８Ｈｒ、湿度９８％で放置した後、表面の状態を
調査した結果を示す。

【図６】図６は絶縁皮膜の組成と焼付け後の皮膜の潤滑
性（図４に示す方法による潤滑性）を示す図である。本
発明の組成の皮膜ではいずれも良好な潤滑性を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そのまま
   或は熱延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を挟む２
   回以上の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで脱炭焼
   鈍し、焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリップコイ
   ルとした後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形成用コ
   ーティング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電磁鋼板
   の表面に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段によっ
   て線状歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティング剤
   を塗布し、５００℃以下の低温域で焼付け処理して絶縁
   皮膜を形成する方法において、前記最終的になされる絶
   縁皮膜形成のためのコーティング剤として、ＣｒＯ３　
   ：１０重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６０重量
   部、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種または
   ２種以上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およびＮａ
   ２　ＳｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．０重量
   部を配合したものを用いることを特徴とする鉄心加工性
   に優れた低温焼付け方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。
2. 【請求項２】　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そのまま
   或は熱延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を挟む２
   回以上の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで脱炭焼
   鈍し、焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリップコイ
   ルとした後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形成用コ
   ーティング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電磁鋼板
   の表面に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段によっ
   て線状歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティング剤
   を塗布し、５００℃以下の低温域で焼付け処理して絶縁
   皮膜を形成する方法において、前記最終的になされる絶
   縁皮膜形成のためのコーティング剤として、ＣｒＯ３　
   ：１０重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６０重量
   部、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種または
   ２種以上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およびＮａ
   ２　ＳｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．０重量
   部、さらにグリセリン、アジピン酸およびコハク酸の何
   れか１種または２種以上を０．５〜５．０重量部配合し
   たものを用いることを特徴とする鉄心加工性に優れた低
   温焼付け方向性電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。
3. 【請求項３】　　珪素鋼スラブを熱間圧延し、そのまま
   或は熱延板焼鈍を施した後、１回或は中間焼鈍を挟む２
   回以上の冷間圧延を施して最終板厚とし、次いで脱炭焼
   鈍し、焼鈍分離剤を塗布し、巻き取ってストリップコイ
   ルとした後、仕上焼鈍を施し、次いで絶縁皮膜形成用コ
   ーティング剤を塗布し、焼付け処理した方向性電磁鋼板
   の表面に、光学的、機械的、化学的或は熱的手段によっ
   て線状歪を付与し、再度絶縁皮膜形成用コーティング剤
   を塗布し、５００℃以下の低温域で焼付け処理して絶縁
   皮膜を形成する方法において、前記最終的になされる絶
   縁皮膜形成のためのコーティング剤として、ＣｒＯ３　
   ：１０重量部に対し、Ｈ３　ＰＯ４　：３０〜６０重量
   部、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＡｌ２　Ｏ３　の１種または
   ２種以上を６〜１６重量部、Ｈ３　ＢＯ３　およびＮａ
   ２　ＳｉＯ３　の一方または双方を０．５〜５．０重量
   部、さらにグリセリン、アジピン酸およびコハク酸の何
   れか１種または２種以上を０．５〜５．０重量部ならび
   に粒子径：８０〜５００ｎｍのコロイダルシリカ溶液を
   ＳｉＯ２　として１〜１０重量部配合したものを用いる
   ことを特徴とする鉄心加工性に優れた低温焼付け方向性
   電磁鋼板絶縁皮膜形成方法。