JPH0427681B2 - - Google Patents
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- JPH0427681B2 JPH0427681B2 JP58160542A JP16054283A JPH0427681B2 JP H0427681 B2 JPH0427681 B2 JP H0427681B2 JP 58160542 A JP58160542 A JP 58160542A JP 16054283 A JP16054283 A JP 16054283A JP H0427681 B2 JPH0427681 B2 JP H0427681B2
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- exposure
- shutter
- amount
- light source
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- Expired - Lifetime
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は例えばウエハまたはフオトマスク上に
パターンを露光するための露光量制御装置の比較
正方法に関するものである。
パターンを露光するための露光量制御装置の比較
正方法に関するものである。
(発明の背景)
近年、半導体素子特にIC製造においては、回
路パターンの微細化が要求され、ウエハ上に1μm
以下の線幅を有するパターンを焼付ける装置、い
わぬる露光装置もウエハ上に塗布された感光材料
(フオトレジスト)に常に一定の露光量を与える
ことが望ましく、このため高精度な露光制御が望
まれてきた。
路パターンの微細化が要求され、ウエハ上に1μm
以下の線幅を有するパターンを焼付ける装置、い
わぬる露光装置もウエハ上に塗布された感光材料
(フオトレジスト)に常に一定の露光量を与える
ことが望ましく、このため高精度な露光制御が望
まれてきた。
第1図にウエハ又はフオトマスクに回路パター
ンの像を露光する露光装置の概略を示す。
ンの像を露光する露光装置の概略を示す。
第1図において、露光用の光源、例えば水銀ラ
ンプ1の光が集光レンズ2によつて集光された
後、シヤツターとなる回転板3を介して、コンデ
ンサーレンズ5、投影レンズ8をへて、ウエハ9
(フオトマスクでもよい。)に至るような、投影式
の露光装置を示す。(その他の方式の露光装置で
も同様である。)回転板3は、例えば4分割して、
遮光部と透過部を交互に設け、回転駆動機構、例
えばパルスモーター4によつて回転され、ロータ
リーシヤツターとして働く。回路パターンを有す
るガラス基板7(レテイクルやフオトマスク)
は、コンデンサーレンズ5と投影レンズ8の間に
配置され、ガラス基板7のパターンがウエハ9の
上に結像する。又、光検出器6は、光源の光強度
を測定するための光電変換素子であり、シヤツタ
ーを経た光を測光し、その出力は露光制御のため
に使われる。このような装置では、機構上シヤツ
ターの開閉動作時間が長く、数msec.〜数10msec
に及び。また、露光動作に伴う光強度(検出器6
で検出した値、又はウエハ9上で測定した値)の
変化を第2図に示す。第2図で、横軸に露光時
間、縦軸に光強度を取り、台形状の折線AとB
は、光源のランプの劣化によるちがいを表わす。
ランプが新しく、光強度が大きいと、折線Aのよ
うに、またランプが劣化して光強度が小さくなる
と折線Bのように露光時間が長くなる。尚、台形
の上底部すなわちシヤツターの全開時の光強度を
LN,Lpとする。このように、台形状の光強度特
性を有するのは、シヤツターの開閉動作時間に基
いている。これは、第1図で示したような回転板
3が1/4回転する時間によつて生じるものである。
回転板3の遮光部が光をさえぎつている状態か
ら、回転板3が1/4回転して、光を完全に透過す
る状態までにかかる時間(シヤツター開放時間)
は、第2図では時間ta−toである。尚、回転板3
の回転開始時をtoとしてある。そして、時間(ta
−to)が経過後、回転板3を光が完全に透過する
(このことを、以後シヤツター全開と呼ぶ。)の
で、光強度LN、又はLpとして安定する。そして、
所定の露光時間後、すなわちtb又は時刻tdから回
転板3がさらに1/4回転して、遮光部に、よつて
光がさえぎられる。光が完全に遮光される時刻
は、時刻tc、又はteである。尚、シヤツターの構
造上、開放動作時間と、閉成動作時間はほぼ等し
いので、時間(tc−tb)と時間(te−td)は共に
等しく、かつ時間(ta−to)ともほぼ等しくな
る。
ンプ1の光が集光レンズ2によつて集光された
後、シヤツターとなる回転板3を介して、コンデ
ンサーレンズ5、投影レンズ8をへて、ウエハ9
(フオトマスクでもよい。)に至るような、投影式
の露光装置を示す。(その他の方式の露光装置で
も同様である。)回転板3は、例えば4分割して、
遮光部と透過部を交互に設け、回転駆動機構、例
えばパルスモーター4によつて回転され、ロータ
リーシヤツターとして働く。回路パターンを有す
るガラス基板7(レテイクルやフオトマスク)
は、コンデンサーレンズ5と投影レンズ8の間に
配置され、ガラス基板7のパターンがウエハ9の
上に結像する。又、光検出器6は、光源の光強度
を測定するための光電変換素子であり、シヤツタ
ーを経た光を測光し、その出力は露光制御のため
に使われる。このような装置では、機構上シヤツ
ターの開閉動作時間が長く、数msec.〜数10msec
に及び。また、露光動作に伴う光強度(検出器6
で検出した値、又はウエハ9上で測定した値)の
変化を第2図に示す。第2図で、横軸に露光時
間、縦軸に光強度を取り、台形状の折線AとB
は、光源のランプの劣化によるちがいを表わす。
ランプが新しく、光強度が大きいと、折線Aのよ
うに、またランプが劣化して光強度が小さくなる
と折線Bのように露光時間が長くなる。尚、台形
の上底部すなわちシヤツターの全開時の光強度を
LN,Lpとする。このように、台形状の光強度特
性を有するのは、シヤツターの開閉動作時間に基
いている。これは、第1図で示したような回転板
3が1/4回転する時間によつて生じるものである。
回転板3の遮光部が光をさえぎつている状態か
ら、回転板3が1/4回転して、光を完全に透過す
る状態までにかかる時間(シヤツター開放時間)
は、第2図では時間ta−toである。尚、回転板3
の回転開始時をtoとしてある。そして、時間(ta
−to)が経過後、回転板3を光が完全に透過する
(このことを、以後シヤツター全開と呼ぶ。)の
で、光強度LN、又はLpとして安定する。そして、
所定の露光時間後、すなわちtb又は時刻tdから回
転板3がさらに1/4回転して、遮光部に、よつて
光がさえぎられる。光が完全に遮光される時刻
は、時刻tc、又はteである。尚、シヤツターの構
造上、開放動作時間と、閉成動作時間はほぼ等し
いので、時間(tc−tb)と時間(te−td)は共に
等しく、かつ時間(ta−to)ともほぼ等しくな
る。
この光強度特性に示したように、普通このよう
な装置では、露光量を一定にするため、ランプの
明るさに応じて露光時間を変えている。この従来
の露光制御について、第3図により説明する。第
3図において、光電検出器6の光電出力は増幅器
11によつて増幅された後、抵抗12、コンデン
サー14、増幅器13による積分器に入力する。
積分器の出力が、露光量に比例した値、いわゆる
光量積分値である。この積分器の出力は、比較器
15によつて、あらかじめ定めた目標値を示す基
準電圧Esと比較される。一方、フリツプフロツ
プ回路16は、露光動作の開始時点でセツトさ
れ、シヤツター駆動回路17によつて、モーター
等を駆動してシヤツターを開く。シヤツターが開
いた後、上述の如く光量積分値が基準電圧Esに
達すると、比較器15の出力が反転してフリツプ
フロツプ回路16がリセツトされる。このリセツ
トにより、駆動回路17は、モーター等をさらに
回転して、シヤツターを閉じる。こうして、ラン
プの明るさが変わつても光量積分値が、一定値に
なるように、シヤツターは制御される。ここで、
その時の露光量を第4図のグラフに示す。第4図
のグラフで横軸に第2図と同一の時間軸を取り、
縦軸に露光量、すなわち光量積分値を取る。露光
開始時toから時刻taまでは、第2図のように、シ
ヤツターの開放動作時間であり、光量積分値はな
だらかに上昇していく。時刻taから時刻tb、又は
時刻tdまでは、シヤツター全開期間である。尚、
AとBは第2図で示したように、光源の光強度が
大きいときと、小さいときを示す。そしてA、又
はBの光量積分値が基準電圧Esに達すると、シ
ヤツター閉じ動作が始まる。しかしながら、シヤ
ツターが完全に閉じるまでの時間(fc−tb)、又
は(fe−td)にも、露光されることになり、その
結果総露光量はEo、又はEo′となり、所定の目標
値Eよりも(Eo−Es)、又は(Eo′−Es)だけ超
過することになる。
な装置では、露光量を一定にするため、ランプの
明るさに応じて露光時間を変えている。この従来
の露光制御について、第3図により説明する。第
3図において、光電検出器6の光電出力は増幅器
11によつて増幅された後、抵抗12、コンデン
サー14、増幅器13による積分器に入力する。
積分器の出力が、露光量に比例した値、いわゆる
光量積分値である。この積分器の出力は、比較器
15によつて、あらかじめ定めた目標値を示す基
準電圧Esと比較される。一方、フリツプフロツ
プ回路16は、露光動作の開始時点でセツトさ
れ、シヤツター駆動回路17によつて、モーター
等を駆動してシヤツターを開く。シヤツターが開
いた後、上述の如く光量積分値が基準電圧Esに
達すると、比較器15の出力が反転してフリツプ
フロツプ回路16がリセツトされる。このリセツ
トにより、駆動回路17は、モーター等をさらに
回転して、シヤツターを閉じる。こうして、ラン
プの明るさが変わつても光量積分値が、一定値に
なるように、シヤツターは制御される。ここで、
その時の露光量を第4図のグラフに示す。第4図
のグラフで横軸に第2図と同一の時間軸を取り、
縦軸に露光量、すなわち光量積分値を取る。露光
開始時toから時刻taまでは、第2図のように、シ
ヤツターの開放動作時間であり、光量積分値はな
だらかに上昇していく。時刻taから時刻tb、又は
時刻tdまでは、シヤツター全開期間である。尚、
AとBは第2図で示したように、光源の光強度が
大きいときと、小さいときを示す。そしてA、又
はBの光量積分値が基準電圧Esに達すると、シ
ヤツター閉じ動作が始まる。しかしながら、シヤ
ツターが完全に閉じるまでの時間(fc−tb)、又
は(fe−td)にも、露光されることになり、その
結果総露光量はEo、又はEo′となり、所定の目標
値Eよりも(Eo−Es)、又は(Eo′−Es)だけ超
過することになる。
光源の光強度が常に一定であれば超過分を予測
して、総露光量を決定できるが、実際には、ラン
プの劣化に伴い光源の明るさは大きく変化する。
従つて、第4図に示したように、時間(tc−tb)
と時間(te−td)は同じでも、超過分は変化して
しまう。この超過分の変化(Eo−Eo′)は、光源
の光強度が小さく、露光時間が十分に長い場合に
は無視できる。しかし、光源の光強度が大きくな
り、全露光量中に占める、シヤツターの閉じ動作
時間中の露光量の割合が大きくなつた場合、超過
分の変化(Eo−Eo′)による総露光量の変動は重
要な問題となる。一般に、露光量の制御として、
総露光量の変動は数%以下が必要とされるが、上
述の従来の露光装置では、超過分に対する配慮が
なされていないので、長期間に渡つて、安定した
露光量を得ることができない欠点を有していた。
して、総露光量を決定できるが、実際には、ラン
プの劣化に伴い光源の明るさは大きく変化する。
従つて、第4図に示したように、時間(tc−tb)
と時間(te−td)は同じでも、超過分は変化して
しまう。この超過分の変化(Eo−Eo′)は、光源
の光強度が小さく、露光時間が十分に長い場合に
は無視できる。しかし、光源の光強度が大きくな
り、全露光量中に占める、シヤツターの閉じ動作
時間中の露光量の割合が大きくなつた場合、超過
分の変化(Eo−Eo′)による総露光量の変動は重
要な問題となる。一般に、露光量の制御として、
総露光量の変動は数%以下が必要とされるが、上
述の従来の露光装置では、超過分に対する配慮が
なされていないので、長期間に渡つて、安定した
露光量を得ることができない欠点を有していた。
この欠点を解決するため、特開昭57−71132号
公報や特開昭57−101839号公報に開示されている
ように、シヤツタ閉成動作の遅れによる超過露光
量を計測し、シヤツタ閉成動作の開始時間を補正
する制御が考えられている。
公報や特開昭57−101839号公報に開示されている
ように、シヤツタ閉成動作の遅れによる超過露光
量を計測し、シヤツタ閉成動作の開始時間を補正
する制御が考えられている。
この補正制御をアナログ的に行なう場合は回路
規模も小さく簡単であるが、積分器や補正量を記
憶するコンデンサ等に高精度な部品を必要とし高
価になるとともに、繰返し長期間の露光に対して
はコンデンサのリーク等が問題となり正確な補正
が望めなくなる。さらに、この場合は測光のダイ
ナミツクレンジが狭く、光源の輝度が大幅に変化
することに対しても不利である。
規模も小さく簡単であるが、積分器や補正量を記
憶するコンデンサ等に高精度な部品を必要とし高
価になるとともに、繰返し長期間の露光に対して
はコンデンサのリーク等が問題となり正確な補正
が望めなくなる。さらに、この場合は測光のダイ
ナミツクレンジが狭く、光源の輝度が大幅に変化
することに対しても不利である。
他方、この補正制御をデジタル的に行う場合
は、露光強度に応じた光電信号を電圧/周波数変
換器によつてパルス化し、そのパルスを計数する
カウンタ等の他に補正タイマ、補正カウンタ等が
必要となり回路規模はアナグロ方式より大きくな
る欠点があつた。
は、露光強度に応じた光電信号を電圧/周波数変
換器によつてパルス化し、そのパルスを計数する
カウンタ等の他に補正タイマ、補正カウンタ等が
必要となり回路規模はアナグロ方式より大きくな
る欠点があつた。
さらにアナログ方式であれ、デジタル方式であ
れ、従来の技術では光電検出器6の出力信号のみ
に基いて露光量制御を行つているので、光電検出
器を含む光量制御手段(第3図中の6,11〜1
4)の経時的な感度変化、あるいは光電検出器6
からウエハ9までの種々の光学系の経時変化等が
起こると、ウエハ9へ与えられる実露光量が狂つ
てくるといつた問題があつた。
れ、従来の技術では光電検出器6の出力信号のみ
に基いて露光量制御を行つているので、光電検出
器を含む光量制御手段(第3図中の6,11〜1
4)の経時的な感度変化、あるいは光電検出器6
からウエハ9までの種々の光学系の経時変化等が
起こると、ウエハ9へ与えられる実露光量が狂つ
てくるといつた問題があつた。
(発明の目的)
本発明は、そのような問題点を解決し、感光物
(ウエハ等)上で得られる露光量を常に目標値通
りに安定させることを目的とし、特に従来のよう
な補正手段を必要としない露光量制御装置におい
て好適な測光感度の安定化を図ることを目的とす
るものである。
(ウエハ等)上で得られる露光量を常に目標値通
りに安定させることを目的とし、特に従来のよう
な補正手段を必要としない露光量制御装置におい
て好適な測光感度の安定化を図ることを目的とす
るものである。
(発明の概要)
本発明の露光量制御装置の較正方法では、光源
からの光を感光物に照射するための照明系と前記
感光物への露光量を制御する光量制御手段とを備
えた露光装置において、前記感光物を載置するス
テージ上に照度測定器を設け、この照度測定器の
出力に基いて前記光量制御手段を較するものであ
る。
からの光を感光物に照射するための照明系と前記
感光物への露光量を制御する光量制御手段とを備
えた露光装置において、前記感光物を載置するス
テージ上に照度測定器を設け、この照度測定器の
出力に基いて前記光量制御手段を較するものであ
る。
好ましくは前記光量制御手段は前記光源からの
光の強度に応じた信号を積算する積算光量計測器
を備えるものであり、前記照度測定器の出力に基
いて前記積算光量計測器の積分感度を較正する。
光の強度に応じた信号を積算する積算光量計測器
を備えるものであり、前記照度測定器の出力に基
いて前記積算光量計測器の積分感度を較正する。
(実施例)
次に本発明を実施例に基いて説明する。第5図
は本発明を実施するための露光量制御装置の一実
施例を示す。第5図において、楕円反射鏡20の
第1焦点位置に設けられた光源1からの光は楕円
反射鏡20によつて集光され、その集点である第
2焦点位置に設けたシヤツタ3を介して第1のコ
ンデンサレンズ21を通り平行光束とされ、フラ
イアン・レンズ等を用いたオプチカル・キンテグ
レータ22を通り、第2のコンデンサレンズ5、
回路パターンを有するガラス基板7、投影レンズ
8を通つてウエハ9の上に露光さる。尚、第2の
コンデンサ・レンズ5に至る光路中には、露光波
長の光をほぼ全て透過する干渉フイルターが設け
られている。
は本発明を実施するための露光量制御装置の一実
施例を示す。第5図において、楕円反射鏡20の
第1焦点位置に設けられた光源1からの光は楕円
反射鏡20によつて集光され、その集点である第
2焦点位置に設けたシヤツタ3を介して第1のコ
ンデンサレンズ21を通り平行光束とされ、フラ
イアン・レンズ等を用いたオプチカル・キンテグ
レータ22を通り、第2のコンデンサレンズ5、
回路パターンを有するガラス基板7、投影レンズ
8を通つてウエハ9の上に露光さる。尚、第2の
コンデンサ・レンズ5に至る光路中には、露光波
長の光をほぼ全て透過する干渉フイルターが設け
られている。
測光手段は光電検出器6及びフイルタ23から
なり、露光用の光軸lからはずれた位置に設けら
れ、光源1からの光を直接受光し、その光強度に
応じた光電信号を露光制御手段24に出力する。
シヤツタ3は露光光の光軸lに対して45°傾いて
配置され、シヤツタ3で反射する光は、装置のア
ライメント用の顕微鏡等の照明光としても利用さ
れるが、シヤツタ3で反射する光が逆走して光源
検出器6に入射することによつて生じる光電信号
の誤差を防ぐ利点もある。第6図はシヤツタ3の
詳細図、第7図は第6図に示したシヤツタ3のシ
ヤツタブレードの形状の平面図を示す。第6図に
示す如く、シヤツタ3は表側の反射板30に反射
板30より直径が大きい遮光性の遮光板31をは
り合わせてなり、第7図に示すように4枚のブレ
ード部3aと4箇所の切欠き部3bとが円周方向
に等分割に形成されている。遮光板31の各ブレ
ード部3aの一部にはスリツト開口31bが90度
の角度で4個設けられている。このスリツト開口
31bはシヤツタ3のブレード部3a位置を検出
するために設けられたステータス・マークであ
る。すなわちシヤツタ3の裏側に設けられた投光
器25からシヤツタ3に照射された光がスリツト
開口31bを介して反射板30の裏面で反射し、
受光器26に入射することによりシヤツタ3のブ
レード部3aの位置を検出する。このシヤツタ3
はパルスモータ4によつて角度θすなわち1/8回
転することによつて開放及び閉成動作を行う。
なり、露光用の光軸lからはずれた位置に設けら
れ、光源1からの光を直接受光し、その光強度に
応じた光電信号を露光制御手段24に出力する。
シヤツタ3は露光光の光軸lに対して45°傾いて
配置され、シヤツタ3で反射する光は、装置のア
ライメント用の顕微鏡等の照明光としても利用さ
れるが、シヤツタ3で反射する光が逆走して光源
検出器6に入射することによつて生じる光電信号
の誤差を防ぐ利点もある。第6図はシヤツタ3の
詳細図、第7図は第6図に示したシヤツタ3のシ
ヤツタブレードの形状の平面図を示す。第6図に
示す如く、シヤツタ3は表側の反射板30に反射
板30より直径が大きい遮光性の遮光板31をは
り合わせてなり、第7図に示すように4枚のブレ
ード部3aと4箇所の切欠き部3bとが円周方向
に等分割に形成されている。遮光板31の各ブレ
ード部3aの一部にはスリツト開口31bが90度
の角度で4個設けられている。このスリツト開口
31bはシヤツタ3のブレード部3a位置を検出
するために設けられたステータス・マークであ
る。すなわちシヤツタ3の裏側に設けられた投光
器25からシヤツタ3に照射された光がスリツト
開口31bを介して反射板30の裏面で反射し、
受光器26に入射することによりシヤツタ3のブ
レード部3aの位置を検出する。このシヤツタ3
はパルスモータ4によつて角度θすなわち1/8回
転することによつて開放及び閉成動作を行う。
このシヤツタ3の開閉動作とは関係なく測光手
段をシヤツタ3の前段に配置した本発明の作用に
ついて第8図及び第9図を用いて説明する。第8
図、第9図においてイはシヤツタ3の開放動作開
始後、閉成動作完了までの光量積分値を示し、C
は光電検出器6における光量積分値、Dはウエハ
9における光量積分値を示す。ロはウエハ9にお
ける露光の光強度分布、ハは光電検出器6の光強
度分布を示す。なお第8図はランプが新しく、光
強度が大きい場合、第9図はランプが劣化して、
光強度が小さくなつた場合を示す。
段をシヤツタ3の前段に配置した本発明の作用に
ついて第8図及び第9図を用いて説明する。第8
図、第9図においてイはシヤツタ3の開放動作開
始後、閉成動作完了までの光量積分値を示し、C
は光電検出器6における光量積分値、Dはウエハ
9における光量積分値を示す。ロはウエハ9にお
ける露光の光強度分布、ハは光電検出器6の光強
度分布を示す。なお第8図はランプが新しく、光
強度が大きい場合、第9図はランプが劣化して、
光強度が小さくなつた場合を示す。
第8図、第9図イに示す如く、シヤツタ3の開
放動作開始と同時toに光電検出器6の出力が積分
され、この光量積分値が露光量目標値に相当する
基準電圧Esに達した時点tb又はtdでシヤツタ3の
閉成動作を開始する。このtb又はtd時にウエハ9
面での実際の露光量の積分値は基準電圧Esに対
して、わずかに不足しているがシヤツタ3の閉成
完了時tc又はteまでの露光量が、この不足分に対
応している。すなわちシヤツタ3としてロータ
リ・シヤツタを用いることによつて、シヤツタ開
放時の作動遅れ(ta−to)と閉成時の作動遅れ
(tc−tb)又は(te−td)とが等しいという特性
を利用して、シヤツタ開放の動作遅れによりウエ
ハ9面での実際の露光量不足をシヤツタ閉成時の
作動遅れによる露光分で補つている。したがつて
露光強度、シヤツタ駆動時間によらず、目標とす
る露光量に対して高精度の制御を行うことができ
る。
放動作開始と同時toに光電検出器6の出力が積分
され、この光量積分値が露光量目標値に相当する
基準電圧Esに達した時点tb又はtdでシヤツタ3の
閉成動作を開始する。このtb又はtd時にウエハ9
面での実際の露光量の積分値は基準電圧Esに対
して、わずかに不足しているがシヤツタ3の閉成
完了時tc又はteまでの露光量が、この不足分に対
応している。すなわちシヤツタ3としてロータ
リ・シヤツタを用いることによつて、シヤツタ開
放時の作動遅れ(ta−to)と閉成時の作動遅れ
(tc−tb)又は(te−td)とが等しいという特性
を利用して、シヤツタ開放の動作遅れによりウエ
ハ9面での実際の露光量不足をシヤツタ閉成時の
作動遅れによる露光分で補つている。したがつて
露光強度、シヤツタ駆動時間によらず、目標とす
る露光量に対して高精度の制御を行うことができ
る。
この露光量の制御を行なう本実施例の露光制御
手段24のブロツク図を第10図に示す。第10
図において100は光電検出器6の光電信号を増
巾し、電圧信号S1、として出力するアンプであ
る。101はアンプ100からの電圧信号S1をパ
ルス信号S2に変換する電圧/周波数変換器であ
る。102はこのパルス信号S2を計数し比較器1
04に光量計数値S4を出力するカウンタである。
カウンタ102で計数された光量計数値S4はシヤ
ツタ開放開始時にマイクロコンピユータ(CPU)
103のクリア信号S3によつて零に戻される。1
05は目標値セツトレジスタで、CPU103か
らのセツト信号S7を入力し、比較器104に適正
露光量に相当するパルス数S5を出力する。比較器
104はこのパルス数S5とカウンタ102からの
光量計数値S4を比較し、これらの値が一致した場
合シヤツタ閉じ信号S6をCPU103に出力する。
106はシヤツタ3を回転するパルスモータ4の
ドライブ回路である。なお、107はシヤツタ3
の後部に配置され受光器24の出力信号を増幅
し、光電信号S3をコンパレータ108に出力する
増幅器であり、コンパレータ108はこの光電信
号S3を入力して、CPU103にステータス信号
S9を出力する。
手段24のブロツク図を第10図に示す。第10
図において100は光電検出器6の光電信号を増
巾し、電圧信号S1、として出力するアンプであ
る。101はアンプ100からの電圧信号S1をパ
ルス信号S2に変換する電圧/周波数変換器であ
る。102はこのパルス信号S2を計数し比較器1
04に光量計数値S4を出力するカウンタである。
カウンタ102で計数された光量計数値S4はシヤ
ツタ開放開始時にマイクロコンピユータ(CPU)
103のクリア信号S3によつて零に戻される。1
05は目標値セツトレジスタで、CPU103か
らのセツト信号S7を入力し、比較器104に適正
露光量に相当するパルス数S5を出力する。比較器
104はこのパルス数S5とカウンタ102からの
光量計数値S4を比較し、これらの値が一致した場
合シヤツタ閉じ信号S6をCPU103に出力する。
106はシヤツタ3を回転するパルスモータ4の
ドライブ回路である。なお、107はシヤツタ3
の後部に配置され受光器24の出力信号を増幅
し、光電信号S3をコンパレータ108に出力する
増幅器であり、コンパレータ108はこの光電信
号S3を入力して、CPU103にステータス信号
S9を出力する。
次に、第10図に示した露光制御手段24の動
作を説明する。第11図及び第12図はCPU1
03に含まれるプログラムのフローチヤートであ
り、第11図は本実施例の露光量制御装置の電源
投入時のイニシヤライズ・プログラムに含まれる
シヤツタ3の初期位置セツトのためのサブ・ルー
チン化したフローチヤート、第11図は露光動作
のためのサブ・ルーチン化したフローチヤートで
ある。
作を説明する。第11図及び第12図はCPU1
03に含まれるプログラムのフローチヤートであ
り、第11図は本実施例の露光量制御装置の電源
投入時のイニシヤライズ・プログラムに含まれる
シヤツタ3の初期位置セツトのためのサブ・ルー
チン化したフローチヤート、第11図は露光動作
のためのサブ・ルーチン化したフローチヤートで
ある。
露光量制御装置の電源投入時にはシヤツタ3の
ブレード部3aが任意の位置にあるため、ブレー
ド部3aの位置決めを行う必要がある。第10図
において、露光量制御装置の電源が投入されると
CPU103はステツプ200でシヤツタ3が角度2θ
すなわち90度回転するために必要なパルス数N2θ
のモータ駆動データS10をドライブ回路106に
出力し、パルスモータ4はドライブ回路106に
より制御され低速回転を開始する。なおNは単位
角度を回転するためのパルス数である。同時に
CPU103はステツプ201でコンパレータ108
からのステータス信号S9をモニターし、受光器2
4がシヤツタ3後面のスリツト開口31bを検知
し、ステータス信号S9が「L」から「H」になつ
たときステツプ202でモータ駆動データS10の出力
を停止し、パルスモータ4の回転を停止させる。
この状態のときに、シヤツタ3の4個のブレード
部3aのうちの1個が、光軸lをさえぎるように
位置し、シヤツタ3の閉状態が達成される。ここ
でモータ駆動データS10のパルス数をN2θとした
のはシヤツタ3に設けたスリツト開口31bが90
度毎の角度で設けられているため、シヤツタ3を
少なくとも90度回転すればスリツト開口31bが
必ず検知されるからである。このようにしてシヤ
ツタ3の閉状態が達成された後にウエハ9の露光
動作を行う。
ブレード部3aが任意の位置にあるため、ブレー
ド部3aの位置決めを行う必要がある。第10図
において、露光量制御装置の電源が投入されると
CPU103はステツプ200でシヤツタ3が角度2θ
すなわち90度回転するために必要なパルス数N2θ
のモータ駆動データS10をドライブ回路106に
出力し、パルスモータ4はドライブ回路106に
より制御され低速回転を開始する。なおNは単位
角度を回転するためのパルス数である。同時に
CPU103はステツプ201でコンパレータ108
からのステータス信号S9をモニターし、受光器2
4がシヤツタ3後面のスリツト開口31bを検知
し、ステータス信号S9が「L」から「H」になつ
たときステツプ202でモータ駆動データS10の出力
を停止し、パルスモータ4の回転を停止させる。
この状態のときに、シヤツタ3の4個のブレード
部3aのうちの1個が、光軸lをさえぎるように
位置し、シヤツタ3の閉状態が達成される。ここ
でモータ駆動データS10のパルス数をN2θとした
のはシヤツタ3に設けたスリツト開口31bが90
度毎の角度で設けられているため、シヤツタ3を
少なくとも90度回転すればスリツト開口31bが
必ず検知されるからである。このようにしてシヤ
ツタ3の閉状態が達成された後にウエハ9の露光
動作を行う。
第12図において、露光動作が開始されると、
ステツプ210でCPU103は、セツト信号S7を目
標値セツトレジスタ105に出力し、目標値セツ
トレジスタ105は適正露光量に相当するバルス
数S5を比較器104に出力する。次にステツプ
211でクリア信号S3をカウンタ102に出力し、
カウンタ102に残つている光量計数値S4を零に
する。これと一定タイミングを置いてステツプ
212でモータ駆動データS10として、シヤツタ3を
角度θすなわち1/8回転だけ回転させるパルス数
Nθをドライブ回転106に出力してパルスモー
タ4を駆動させ、シヤツタ3の回転を開始する。
この時刻が第8図及び第9図のtoに相当する。
ステツプ210でCPU103は、セツト信号S7を目
標値セツトレジスタ105に出力し、目標値セツ
トレジスタ105は適正露光量に相当するバルス
数S5を比較器104に出力する。次にステツプ
211でクリア信号S3をカウンタ102に出力し、
カウンタ102に残つている光量計数値S4を零に
する。これと一定タイミングを置いてステツプ
212でモータ駆動データS10として、シヤツタ3を
角度θすなわち1/8回転だけ回転させるパルス数
Nθをドライブ回転106に出力してパルスモー
タ4を駆動させ、シヤツタ3の回転を開始する。
この時刻が第8図及び第9図のtoに相当する。
カウンタ102はシヤツタ3の回転が開始する
と同時に電圧/周波数変換器101からのパルス
信号S2を計数する。
と同時に電圧/周波数変換器101からのパルス
信号S2を計数する。
ステツプモータ4が高速回転し、シヤツタ3を
1/8回転させると、ステツプモータ4は回転を停
止し、シヤツタ3は全開状態となり、光量積分値
は第8図及び第9図のta時の値となる。ステツプ
モータ4が回転を停止した後もカウンタ102は
電圧/周波数変換器101からのパルス信号S2を
計数し、光量計数値S4を比較器104に出力す
る。またCPU103はステツプ212で比較器10
4からの閉じ信号S6をモニターしており、光量積
分値が第8図tb又は第9図td時の値となり比較器
104で光量計算値S4と適正露光量に相当するパ
ルス数S5が一致し、閉じ信号S6が「L」から
「H」になつたときを検出する。閉じ信号S6が
「H」になるとステツプ214で再びステツプモータ
4を回転させるためのパルスNθのモータ駆動デ
ータS10を出力し、シヤツタ3の閉成を開始する
ステツプモータ4がパルス数Nθ分回転し、停止
するとシヤツタ3は全閉状態となる。このときウ
エハ9面の露光量積分値は第8図tc,又は第9図
te時の値となり適正露光量となる。
1/8回転させると、ステツプモータ4は回転を停
止し、シヤツタ3は全開状態となり、光量積分値
は第8図及び第9図のta時の値となる。ステツプ
モータ4が回転を停止した後もカウンタ102は
電圧/周波数変換器101からのパルス信号S2を
計数し、光量計数値S4を比較器104に出力す
る。またCPU103はステツプ212で比較器10
4からの閉じ信号S6をモニターしており、光量積
分値が第8図tb又は第9図td時の値となり比較器
104で光量計算値S4と適正露光量に相当するパ
ルス数S5が一致し、閉じ信号S6が「L」から
「H」になつたときを検出する。閉じ信号S6が
「H」になるとステツプ214で再びステツプモータ
4を回転させるためのパルスNθのモータ駆動デ
ータS10を出力し、シヤツタ3の閉成を開始する
ステツプモータ4がパルス数Nθ分回転し、停止
するとシヤツタ3は全閉状態となる。このときウ
エハ9面の露光量積分値は第8図tc,又は第9図
te時の値となり適正露光量となる。
なお第9図の露光制御手段24の実施例におい
て、比較器104の閉じ信号S6によつて、CPU
103にシヤツター閉成のための割り込み処理を
実行させるようにしてもよく、さらにカウンタ1
02,比較器104及び目標値セツトレジスタ1
05をCPU103の内部でプログラムによつて
同様に構成することもできる。
て、比較器104の閉じ信号S6によつて、CPU
103にシヤツター閉成のための割り込み処理を
実行させるようにしてもよく、さらにカウンタ1
02,比較器104及び目標値セツトレジスタ1
05をCPU103の内部でプログラムによつて
同様に構成することもできる。
その他に、電圧/周波数変換器101とカウン
タ102間にゲート回路を設ける。そして露光開
始に役立つて、そのカウンタに適正露光量に相当
する値をセツトし、露光開始とともにゲート回路
を開き、パルス信号S2のパルス数をカウンタ10
2の値から減算するようにする。そしてカウンタ
102の値が零になつたとき、閉じる信号S6を出
力してシヤツタを閉じるようにしてもよい。
タ102間にゲート回路を設ける。そして露光開
始に役立つて、そのカウンタに適正露光量に相当
する値をセツトし、露光開始とともにゲート回路
を開き、パルス信号S2のパルス数をカウンタ10
2の値から減算するようにする。そしてカウンタ
102の値が零になつたとき、閉じる信号S6を出
力してシヤツタを閉じるようにしてもよい。
第13図は、比較的シヤツタ制御時間が短かく
アナログ制御が適用し得る露光制御手段24の実
施例ブロツク図を示す。第13図において第3図
と同一符号は同一構成を示す。ただし光電検出器
6の位置は第5図に示した位置である。また第3
図に示した例と相違し、積分器を成すコンデンサ
14と並列にスイツチ40を設けてある。
アナログ制御が適用し得る露光制御手段24の実
施例ブロツク図を示す。第13図において第3図
と同一符号は同一構成を示す。ただし光電検出器
6の位置は第5図に示した位置である。また第3
図に示した例と相違し、積分器を成すコンデンサ
14と並列にスイツチ40を設けてある。
露光開始信号が入るとスイツチ40が開き、光
量の積分を開始し、光量積分値と目標値を比較器
15で比較し、シヤツタが全開状態になつた後に
光量積分値が目標値に達すると、シヤツタの閉成
動作を行なうことにより適正露光量を得ることが
できる。
量の積分を開始し、光量積分値と目標値を比較器
15で比較し、シヤツタが全開状態になつた後に
光量積分値が目標値に達すると、シヤツタの閉成
動作を行なうことにより適正露光量を得ることが
できる。
第14図は他の実施例の一部を示したもので、
測定手段の他の変形例のいくつかを示す。
測定手段の他の変形例のいくつかを示す。
第1は光電検出器6aを楕円反射鏡20を保持
する保持具20aの周辺で、楕円反射鏡20の開
口部に設けた場合、第2は、光電検出器6bが楕
円反射鏡2の上方で、光源1の上部電極1aが通
る開口部から射出する光を受光するように設けた
場合、第3は光源1の像をレンズ51でフアイバ
束52の一端面に結像し、フアイバ束52の他端
で光電検出器6cで光量を検出する場合である。
この第3の測光手段によれば、光電検出器6cを
光源1から場所に配置できるので、光電検出器6
cが光源1からの高温にさらされることがなく、
安定した光電信号が得られる。さらに光源1が高
圧水銀放電管の場合に、まれに発生する爆発事故
に対しても、光電検出器6cを保設することがで
きる。また光電検出器6,6a,6b及び6cと
光源1との間に露光用の波長の光を選択的に透過
するフイルタ23や防熱フイルタ等を設けること
により、光源1が露光用の波長以外の波長の光を
発生しても適正露光量を検出することができると
共に、光源からの熱線の影響も受けなくなる。
する保持具20aの周辺で、楕円反射鏡20の開
口部に設けた場合、第2は、光電検出器6bが楕
円反射鏡2の上方で、光源1の上部電極1aが通
る開口部から射出する光を受光するように設けた
場合、第3は光源1の像をレンズ51でフアイバ
束52の一端面に結像し、フアイバ束52の他端
で光電検出器6cで光量を検出する場合である。
この第3の測光手段によれば、光電検出器6cを
光源1から場所に配置できるので、光電検出器6
cが光源1からの高温にさらされることがなく、
安定した光電信号が得られる。さらに光源1が高
圧水銀放電管の場合に、まれに発生する爆発事故
に対しても、光電検出器6cを保設することがで
きる。また光電検出器6,6a,6b及び6cと
光源1との間に露光用の波長の光を選択的に透過
するフイルタ23や防熱フイルタ等を設けること
により、光源1が露光用の波長以外の波長の光を
発生しても適正露光量を検出することができると
共に、光源からの熱線の影響も受けなくなる。
第15図に本発明の他の実施例を示す。第15
図の示した光学系は、特開昭57−85019号公報に
開示されたもので、光源1用のランプを交換した
ときに光源1の輝点の位置を楕円反射鏡20の第
1焦点に正確に位置合わせするためのモニタ光学
系を附加したものである。光源1から発した露光
光は楕円反射鏡20で反射し、楕円反射鏡20の
第2焦点F2′との間に斜設されたダイクロイツク
ミラー54でさらに反射し、干渉フイルタやイン
テグレータを含む光学部材55を通り反射鏡54
で反射され、コンデンサレンズ5に導かれる。
図の示した光学系は、特開昭57−85019号公報に
開示されたもので、光源1用のランプを交換した
ときに光源1の輝点の位置を楕円反射鏡20の第
1焦点に正確に位置合わせするためのモニタ光学
系を附加したものである。光源1から発した露光
光は楕円反射鏡20で反射し、楕円反射鏡20の
第2焦点F2′との間に斜設されたダイクロイツク
ミラー54でさらに反射し、干渉フイルタやイン
テグレータを含む光学部材55を通り反射鏡54
で反射され、コンデンサレンズ5に導かれる。
ダイクロイツクミラー54を露光用波長の光の
数%程度及び露光用波長以外の波長の光が透過す
るような分光特性のものにしておくと、ダイクロ
イツクミラー54は露光用波長の光のほとんど全
部を反射し、第2焦点F2に光源の像を結像する。
この第2焦点F2の位置にシヤツタを設ける。ま
た露光用波長の光の一部及びこの波長より長い波
長の光はダイクロイツクミラー54を透過して第
2の焦点F2′に光源1の像を結像する。この透過
光は光学系の光り軸l外に設けられた正レンズ5
7a、反射鏡58a、指標板59aからなる第1
の光源位置検出系及び同じく光学系の光り軸l外
に設けられた正レンズ57b、反射鏡58a、指
標板59bはフイルタ24及び光電検出器6dか
らなる測光手段と交換可能に配置する。本実施例
において、光源1用のランプを交換するときは指
標板59bを配置し、光源1の位置合せを行い、
この位置合せ終了後は測光手段を指標板59bの
位置に挿入して、露光制御のための測光を行な
う。
数%程度及び露光用波長以外の波長の光が透過す
るような分光特性のものにしておくと、ダイクロ
イツクミラー54は露光用波長の光のほとんど全
部を反射し、第2焦点F2に光源の像を結像する。
この第2焦点F2の位置にシヤツタを設ける。ま
た露光用波長の光の一部及びこの波長より長い波
長の光はダイクロイツクミラー54を透過して第
2の焦点F2′に光源1の像を結像する。この透過
光は光学系の光り軸l外に設けられた正レンズ5
7a、反射鏡58a、指標板59aからなる第1
の光源位置検出系及び同じく光学系の光り軸l外
に設けられた正レンズ57b、反射鏡58a、指
標板59bはフイルタ24及び光電検出器6dか
らなる測光手段と交換可能に配置する。本実施例
において、光源1用のランプを交換するときは指
標板59bを配置し、光源1の位置合せを行い、
この位置合せ終了後は測光手段を指標板59bの
位置に挿入して、露光制御のための測光を行な
う。
以上、本発明の各実施例を説明したが、要する
に測光のための光電検出器がシヤツタとは無関係
に光源からの光の強度を常に検出するように設け
るとともに、シヤツタの開放時間(ta−to)と閉
成時間(tc−tb)、(te−td)とが等しいという条
件のもとで、極めて正確な露光量が得られるもの
である。また、この条件が成り立てば、シヤツタ
はロータリー式にする必要はなく、往復直線移動
式のシヤツタをソレノイドで駆動してもよい。
に測光のための光電検出器がシヤツタとは無関係
に光源からの光の強度を常に検出するように設け
るとともに、シヤツタの開放時間(ta−to)と閉
成時間(tc−tb)、(te−td)とが等しいという条
件のもとで、極めて正確な露光量が得られるもの
である。また、この条件が成り立てば、シヤツタ
はロータリー式にする必要はなく、往復直線移動
式のシヤツタをソレノイドで駆動してもよい。
そして上記実施例のような露光量制御装置が組
み込まれた縮小投影型露光装置の場合、感光基板
を載置して二次元移動させるステージに、照明光
の照度分布を測定したり、レチクルの投影像を検
出したりするための微小開口(スリツト)を有す
る光電検出器を設けることが特開昭57−117238号
公報に開示されている。そこで、このようなステ
ージ上の光電検出器を用いることができる場合
は、その光電検出器によつて実際の露光量をモニ
ターとして、測光用の増幅器100のゲイン及び
電圧/周波数変換101の変換比等を適正なもの
に調整することができる。すなわち、いわゆる光
量積分の感度を較正することが可能となる。
み込まれた縮小投影型露光装置の場合、感光基板
を載置して二次元移動させるステージに、照明光
の照度分布を測定したり、レチクルの投影像を検
出したりするための微小開口(スリツト)を有す
る光電検出器を設けることが特開昭57−117238号
公報に開示されている。そこで、このようなステ
ージ上の光電検出器を用いることができる場合
は、その光電検出器によつて実際の露光量をモニ
ターとして、測光用の増幅器100のゲイン及び
電圧/周波数変換101の変換比等を適正なもの
に調整することができる。すなわち、いわゆる光
量積分の感度を較正することが可能となる。
(発明の効果)
以上述べたように、本発明によれば、ステージ
上に照度検出器を設けて照明光の強度を検出し、
その出力に基づいて露光量制御手段を較正するよ
うにしたので、簡単な構成ながら長期間に亘つて
感光物への実露光量を目標値通りに案内に保つこ
とができる。また、光源の光強度が大幅に変化し
たとき、例えば第15図で説明したように光源用
のランプを新品に交換した直後でも、確実に適正
露光量を得ることができる。また、投影露光装置
の場合、この種の露光量制御手段の測光用光電検
出器は感光物へパターンを転写するマスクよりも
光源側に設けられているため、投影光学系による
照明光量の損失分を検出することができなかつた
が、本発明によればステージ上の照度測定器によ
つて投影光学系を通つてきた照明光の光量を検出
するので、露光量制御手段は投影光学系での損失
分を加味して較正されるという利点も得ることが
できるものである。
上に照度検出器を設けて照明光の強度を検出し、
その出力に基づいて露光量制御手段を較正するよ
うにしたので、簡単な構成ながら長期間に亘つて
感光物への実露光量を目標値通りに案内に保つこ
とができる。また、光源の光強度が大幅に変化し
たとき、例えば第15図で説明したように光源用
のランプを新品に交換した直後でも、確実に適正
露光量を得ることができる。また、投影露光装置
の場合、この種の露光量制御手段の測光用光電検
出器は感光物へパターンを転写するマスクよりも
光源側に設けられているため、投影光学系による
照明光量の損失分を検出することができなかつた
が、本発明によればステージ上の照度測定器によ
つて投影光学系を通つてきた照明光の光量を検出
するので、露光量制御手段は投影光学系での損失
分を加味して較正されるという利点も得ることが
できるものである。
第1図は従来の露光装置のブロツク図、第2図
は露光強度分布図、第3図は従来の露光制御のブ
ロツク図、第4図は光量積分値の分布図、第5図
は本発明の一実施例の構成図、第6図は第5図に
示した実施例に使用しているシヤツタの構造図、
第7図は同じくシヤツタのブレード形状の平面
図、第8図、第9図イは光量積分値の分布図、ロ
は光強度分布図、第10図は第5図に示した実施
例の露光制御手段のブロツク図、第11図、第1
2図は第10図に示した露光制御手段のプログラ
ムのフローチヤート、第13図は露光制御手段の
他の実施例のブロツク図、第14図は本発明の他
の実施例の構成図、第15図は同じく本発明の他
の実施例の構成図である。 1……光源、2……焦光レンズ、3……シヤツ
タ、4……パルスモータ、5……基板、6,6
a,6b,6c,6d……光電検出器、7……基
板、8……投影レスズ、9……ウエハ、11……
増幅器、12……抵抗、13……増幅器、14…
…コンデンサ、15……比較器、16……フリツ
プフロツプ回路、17……駆動回路、20……楕
円反射鏡、21……コンデンサレンズ、22……
オプチカルインテグレータ、100……増幅器、
101……電圧/周波数変換器、102……カウ
ンタ、103……CPU、104……比較器、1
05……目標値セツトレジスタ、106……ドラ
イブ回路。
は露光強度分布図、第3図は従来の露光制御のブ
ロツク図、第4図は光量積分値の分布図、第5図
は本発明の一実施例の構成図、第6図は第5図に
示した実施例に使用しているシヤツタの構造図、
第7図は同じくシヤツタのブレード形状の平面
図、第8図、第9図イは光量積分値の分布図、ロ
は光強度分布図、第10図は第5図に示した実施
例の露光制御手段のブロツク図、第11図、第1
2図は第10図に示した露光制御手段のプログラ
ムのフローチヤート、第13図は露光制御手段の
他の実施例のブロツク図、第14図は本発明の他
の実施例の構成図、第15図は同じく本発明の他
の実施例の構成図である。 1……光源、2……焦光レンズ、3……シヤツ
タ、4……パルスモータ、5……基板、6,6
a,6b,6c,6d……光電検出器、7……基
板、8……投影レスズ、9……ウエハ、11……
増幅器、12……抵抗、13……増幅器、14…
…コンデンサ、15……比較器、16……フリツ
プフロツプ回路、17……駆動回路、20……楕
円反射鏡、21……コンデンサレンズ、22……
オプチカルインテグレータ、100……増幅器、
101……電圧/周波数変換器、102……カウ
ンタ、103……CPU、104……比較器、1
05……目標値セツトレジスタ、106……ドラ
イブ回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光源からの光を感光物に照射するための照明
系と前記感光物への露光量を制御する光量制御手
段とを備えた露光装置において、前記感光物を載
置するステージ上に照度測定器を設け、この照度
測定器の出力に基いて前記光量制御手段を較正す
ることを特徴とする露光量制御装置の較正方法。 2 前記光量制御手段が前記光源からの光の強度
に応じた信号を積算する積算光量計測器を備え、
前記照度測定器の出力に基いて前記積算光量計測
器の積分感度を較正することを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の露光量制御装置の較正方
法。 3 光源からの光をマクス基板に照射するための
照明光学系と、前記照明光の照射によつて前記マ
スク基板に形成されたパターンの像を感光基板上
に結像投影する投影光学系と、前記感光基板を載
置して移動するステージと、前記マスク基板に達
成する前の前記照明光の強度を検出して前記感光
基板に与えられる露光量を目標値に制御する光量
制御手段とを備えた露光装置において、前記ステ
ージ上に照度測定用の光電検出器を設け、この光
電検出器の出力に基いて前記光量制御手段を較正
することを特徴とする露光量制御装置の較正方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160542A JPS6052852A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 露光量制御装置の較正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160542A JPS6052852A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 露光量制御装置の較正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052852A JPS6052852A (ja) | 1985-03-26 |
| JPH0427681B2 true JPH0427681B2 (ja) | 1992-05-12 |
Family
ID=15717230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58160542A Granted JPS6052852A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 露光量制御装置の較正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052852A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63111617A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | 縮小投影露光装置 |
| JPH1092722A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2007180229A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
| DE102012211979A1 (de) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Ophthalmologische Vorrichtung |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP58160542A patent/JPS6052852A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6052852A (ja) | 1985-03-26 |
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