JPH04280625A - 縦型拡散ｃｖｄ装置のロードロック室ガスコントロール装置 - Google Patents
縦型拡散ｃｖｄ装置のロードロック室ガスコントロール装置Info
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- JPH04280625A JPH04280625A JP6916491A JP6916491A JPH04280625A JP H04280625 A JPH04280625 A JP H04280625A JP 6916491 A JP6916491 A JP 6916491A JP 6916491 A JP6916491 A JP 6916491A JP H04280625 A JPH04280625 A JP H04280625A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の１つ
である縦型拡散ＣＶＤ装置に設けられるロードロック室
のガスコントロールの改善に関するものである。
である縦型拡散ＣＶＤ装置に設けられるロードロック室
のガスコントロールの改善に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】縦型拡散ＣＶＤ装置は、垂直に設けられ
た石英管からなる気密な反応室と、該反応室を囲繞して
設けられたヒータと、前記反応室の下方に連設して設け
られる気密なロードロック室と、該ロードロック室の内
部に設けられるウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構、
前記ウェーハ装入機構に載置されウェーハが多段に装填
されるボート等から構成される。
た石英管からなる気密な反応室と、該反応室を囲繞して
設けられたヒータと、前記反応室の下方に連設して設け
られる気密なロードロック室と、該ロードロック室の内
部に設けられるウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構、
前記ウェーハ装入機構に載置されウェーハが多段に装填
されるボート等から構成される。
【０００３】ウェーハの処理は、前記ロードロック室に
搬入されたウェーハをウェーハ移載機構によって前記ボ
ートに装填し、該ボートを前記ウェーハ装入機構で反応
室内部に装入し、高温反応ガス雰囲気でウェーハの処理
を行い、ウェーハの処理が完了すると前記ウェーハ装入
機構でボートをロードロック室に引出し、更に前記ウェ
ーハ移載機構によって、ウェーハがボートより取出され
る。
搬入されたウェーハをウェーハ移載機構によって前記ボ
ートに装填し、該ボートを前記ウェーハ装入機構で反応
室内部に装入し、高温反応ガス雰囲気でウェーハの処理
を行い、ウェーハの処理が完了すると前記ウェーハ装入
機構でボートをロードロック室に引出し、更に前記ウェ
ーハ移載機構によって、ウェーハがボートより取出され
る。
【０００４】上記した一連のウェーハ処理に於いて、ロ
ードロック室はウェーハの酸化防止の為、或はパーティ
クルによる汚染防止の為、清浄な窒素ガス（雰囲気ガス
）に保つ必要がある。
ードロック室はウェーハの酸化防止の為、或はパーティ
クルによる汚染防止の為、清浄な窒素ガス（雰囲気ガス
）に保つ必要がある。
【０００５】従来のロードロック室のガスコントロール
方法としては、図２に示すものがある。
方法としては、図２に示すものがある。
【０００６】反応室１下方に設けられたロードロック室
２には、窒素ガス供給管３及び排気管４が接続され、該
ガス供給管３及び排気管４に真空開閉弁５，６が設けら
れていると共に該排気管４には真空ポンプ７が設けられ
ている。この従来のものでは、真空開閉弁５を閉塞した
状態で、前記真空ポンプ７でロードロック室２を真空引
し、その後窒素ガスを充填し、窒素ガス雰囲気の大気圧
にする。窒素ガスを充填後は、ロードロック室を密閉す
る。
２には、窒素ガス供給管３及び排気管４が接続され、該
ガス供給管３及び排気管４に真空開閉弁５，６が設けら
れていると共に該排気管４には真空ポンプ７が設けられ
ている。この従来のものでは、真空開閉弁５を閉塞した
状態で、前記真空ポンプ７でロードロック室２を真空引
し、その後窒素ガスを充填し、窒素ガス雰囲気の大気圧
にする。窒素ガスを充填後は、ロードロック室を密閉す
る。
【０００７】又、図３に示すものでは、ロードロック室
２を真空に引くことなく、最初から窒素ガスを流し続け
、窒素ガスに置換すると共に置換後も窒素ガスを流し続
けて清浄を維持する。
２を真空に引くことなく、最初から窒素ガスを流し続け
、窒素ガスに置換すると共に置換後も窒素ガスを流し続
けて清浄を維持する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図２に示す
従来のものでは、ロードロック室真空時にロードロック
室に大気圧が掛かる為、ロードロック室を頑丈なものと
しなければならず、大重量大型化すると共に製作費も高
価となる。
従来のものでは、ロードロック室真空時にロードロック
室に大気圧が掛かる為、ロードロック室を頑丈なものと
しなければならず、大重量大型化すると共に製作費も高
価となる。
【０００９】又、図３に示す従来のものでは、ロードロ
ック室を軽量化でき、ロードロック室で発生したパーテ
ィクル等を直ちに排気できるという利点はあるが、窒素
ガスを流し続ける為大量の窒素ガスを必要とし、ランニ
ングコストが高くついていた。本発明は上記実情に鑑み
、ロードロック室を軽量化すると共に窒素ガスの使用量
を大幅に低減しようとするものである。
ック室を軽量化でき、ロードロック室で発生したパーテ
ィクル等を直ちに排気できるという利点はあるが、窒素
ガスを流し続ける為大量の窒素ガスを必要とし、ランニ
ングコストが高くついていた。本発明は上記実情に鑑み
、ロードロック室を軽量化すると共に窒素ガスの使用量
を大幅に低減しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、反応室下方に
連設されたロードロック室に雰囲気ガス供給管及び排気
管を接続し、該供給管と該排気管とに開閉弁を設け、前
記供給管の開閉弁下流と前記排気管の開閉弁上流とを循
環ポンプ、フィルタを有するバイパス管で接続し、前記
ロードロック室に酸素濃度を検出する酸素濃度検出計を
設け、該酸素濃度検出計の検出結果に基づき、開閉弁の
開閉、循環ポンプの駆動を行う様構成したことを特徴と
するものである。
連設されたロードロック室に雰囲気ガス供給管及び排気
管を接続し、該供給管と該排気管とに開閉弁を設け、前
記供給管の開閉弁下流と前記排気管の開閉弁上流とを循
環ポンプ、フィルタを有するバイパス管で接続し、前記
ロードロック室に酸素濃度を検出する酸素濃度検出計を
設け、該酸素濃度検出計の検出結果に基づき、開閉弁の
開閉、循環ポンプの駆動を行う様構成したことを特徴と
するものである。
【００１１】
【作用】酸素濃度が所定値以上の時には、両開閉弁を開
として雰囲気ガスを流通させ、酸素濃度が所定値以下の
時には両開閉弁を閉として、循環ポンプを駆動してロー
ドロック室の雰囲気ガスを循環させる。
として雰囲気ガスを流通させ、酸素濃度が所定値以下の
時には両開閉弁を閉として、循環ポンプを駆動してロー
ドロック室の雰囲気ガスを循環させる。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【００１３】尚、図１中図２中で示したものと同一のも
のには同符号を付し、その説明も省略する。
のには同符号を付し、その説明も省略する。
【００１４】供給管３に開閉弁８、排気管４に開閉弁９
を設け、前記供給管３と前記排気管９とをバイパス管１
０で接続する。該バイパス管１０の接続箇所は、前記開
閉弁８の下流側、前記開閉弁９の上流側とする。又、該
バイパス管１０には循環ポンプ１１、フィルタ１２を設
け、前記ロードロック室２には酸素濃度検出計１３及び
圧力計１４を設ける。該酸素濃度検出計１３、圧力計１
４の検出結果は、制御装置１５に入力され、該制御装置
１５は前記酸素濃度検出計１３の検出結果を基に前記開
閉弁８，９、前記循環ポンプ１１を動作させる。
を設け、前記供給管３と前記排気管９とをバイパス管１
０で接続する。該バイパス管１０の接続箇所は、前記開
閉弁８の下流側、前記開閉弁９の上流側とする。又、該
バイパス管１０には循環ポンプ１１、フィルタ１２を設
け、前記ロードロック室２には酸素濃度検出計１３及び
圧力計１４を設ける。該酸素濃度検出計１３、圧力計１
４の検出結果は、制御装置１５に入力され、該制御装置
１５は前記酸素濃度検出計１３の検出結果を基に前記開
閉弁８，９、前記循環ポンプ１１を動作させる。
【００１５】以下、作用を説明する。
【００１６】先ず、開閉弁８、開閉弁９を開け、窒素ガ
スを流し、ロードロック室２内部を窒素ガスに置換する
。この置換の過程で、ロードロック室２内部の酸素濃度
が設定した濃度、例えば１ｐｐｍ 以下となったら、前
記開閉弁８、開閉弁９を閉塞する。前記循環ポンプ１１
を駆動し、封入された窒素ガスをバイパス管１０に流通
循環させる。尚、ロードロック室２、前記開閉弁８、開
閉弁９からのリークを考慮し、ロードロック室２内部の
圧力は大気よりも若干高くなる様に、前記制御装置１５
で前記開閉弁８の開閉を制御する。
スを流し、ロードロック室２内部を窒素ガスに置換する
。この置換の過程で、ロードロック室２内部の酸素濃度
が設定した濃度、例えば１ｐｐｍ 以下となったら、前
記開閉弁８、開閉弁９を閉塞する。前記循環ポンプ１１
を駆動し、封入された窒素ガスをバイパス管１０に流通
循環させる。尚、ロードロック室２、前記開閉弁８、開
閉弁９からのリークを考慮し、ロードロック室２内部の
圧力は大気よりも若干高くなる様に、前記制御装置１５
で前記開閉弁８の開閉を制御する。
【００１７】前記した様に、ロードロック室２内部には
ウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構が設けられ、ウェ
ーハの装填、移載が行われるが、これら動作時に発生し
たパーティクルは前記フィルタ１２を流通する過程で除
去される。
ウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構が設けられ、ウェ
ーハの装填、移載が行われるが、これら動作時に発生し
たパーティクルは前記フィルタ１２を流通する過程で除
去される。
【００１８】時間の経過と共に酸素濃度が変化し、前記
設定値を越えると、前記制御装置１５は前記開閉弁８、
開閉弁９を開き、循環ポンプ１１を停止させ、酸素濃度
が設定値以下となるまで、窒素ガスを流す。係る制御を
繰返してウェーハの処理を行う。
設定値を越えると、前記制御装置１５は前記開閉弁８、
開閉弁９を開き、循環ポンプ１１を停止させ、酸素濃度
が設定値以下となるまで、窒素ガスを流す。係る制御を
繰返してウェーハの処理を行う。
【００１９】尚、前記フィルタの位置は、循環ポンプ１
１の上流であっても、下流であっても良く、更に循環ポ
ンプ１１による封入窒素ガスの循環は、連続的であって
も又間欠的であっても良い。又、窒素ガスに代え各種不
活性ガスを使用することも可能である。
１の上流であっても、下流であっても良く、更に循環ポ
ンプ１１による封入窒素ガスの循環は、連続的であって
も又間欠的であっても良い。又、窒素ガスに代え各種不
活性ガスを使用することも可能である。
【００２０】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、窒素ガ
ス置換時に真空引きしないので、ロードロック室を軽量
とすることができ、又窒素ガス置換後は酸素濃度が所定
値以上となった時にのみ窒素ガスを流通させるので、窒
素ガスの使用量が大幅に低減する。
ス置換時に真空引きしないので、ロードロック室を軽量
とすることができ、又窒素ガス置換後は酸素濃度が所定
値以上となった時にのみ窒素ガスを流通させるので、窒
素ガスの使用量が大幅に低減する。
【図１】本発明の一実施例を示す説明図である。
【図２】従来例の説明図である。
【図３】他の従来例の説明図である。
１ 反応室
２ ロードロック室
３ 供給管
４ 排気管
８ 開閉弁
９ 開閉弁
１０ バイパス管
１１ 循環ポンプ
１２ フィルタ
１３ 酸素濃度検出計
Claims (1)
- 【請求項１】 反応室下方に連設されたロードロック
室に雰囲気ガス供給管及び排気管を接続し、該供給管と
該排気管とに開閉弁を設け、前記供給管の開閉弁下流と
前記排気管の開閉弁上流とを循環ポンプ、フィルタを有
するバイパス管で接続し、前記ロードロック室に酸素濃
度を検出する酸素濃度検出計を設け、該酸素濃度検出計
の検出結果に基づき、開閉弁の開閉、循環ポンプの駆動
を行う様構成したことを特徴とする縦型拡散ＣＶＤ装置
のロードロック室ガスコントロール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6916491A JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散ｃｖｄ装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6916491A JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散ｃｖｄ装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04280625A true JPH04280625A (ja) | 1992-10-06 |
| JPH0795528B2 JPH0795528B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=13394797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6916491A Expired - Fee Related JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散ｃｖｄ装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0795528B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372076B1 (ko) * | 1999-07-05 | 2003-02-14 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 디바이스의 제조 장치 |
| US7618830B2 (en) * | 2003-06-18 | 2009-11-17 | Dongbu Electronics Co., Ltd. | Rapid thermal processing apparatus and methods |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6916491A patent/JPH0795528B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372076B1 (ko) * | 1999-07-05 | 2003-02-14 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 디바이스의 제조 장치 |
| US7618830B2 (en) * | 2003-06-18 | 2009-11-17 | Dongbu Electronics Co., Ltd. | Rapid thermal processing apparatus and methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0795528B2 (ja) | 1995-10-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |