JPH04281402A - 高可視透過熱線反射積層体 - Google Patents
高可視透過熱線反射積層体Info
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- JPH04281402A JPH04281402A JP6917691A JP6917691A JPH04281402A JP H04281402 A JPH04281402 A JP H04281402A JP 6917691 A JP6917691 A JP 6917691A JP 6917691 A JP6917691 A JP 6917691A JP H04281402 A JPH04281402 A JP H04281402A
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- Japan
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- wavelength
- visible light
- laminate
- reflection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は熱線を効率よく反射しか
つ可視光を効率よく透過するいわゆる高可視熱線反射機
能を有する積層体に関する。
つ可視光を効率よく透過するいわゆる高可視熱線反射機
能を有する積層体に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱線反射ガラスは可視光を透過し、近赤
外線を反射させる機能を有するガラスであり、建築ビル
用や住宅用の窓ガラスとして利用されている。この熱線
反射ガラスを用いることによって、太陽から地球表面に
到達する放射線のうちの大部分を占める可視光と近赤外
線のうち、近赤外線を遮断し有益な可視光のみを取り入
れることができ、これによって冷房負荷を低減すること
が可能である。
外線を反射させる機能を有するガラスであり、建築ビル
用や住宅用の窓ガラスとして利用されている。この熱線
反射ガラスを用いることによって、太陽から地球表面に
到達する放射線のうちの大部分を占める可視光と近赤外
線のうち、近赤外線を遮断し有益な可視光のみを取り入
れることができ、これによって冷房負荷を低減すること
が可能である。
【０００３】熱線反射ガラスは反射増加膜タイプと干渉
フィルタータイプに分類される。反射増加膜タイプには
熱分解法（スプレー、ＣＶＤ）、真空法（蒸着、スパッ
ター）、メッキ法などにより比較的容易に製造でき実用
化されている。このような方法で作製された熱線反射ガ
ラスは、近赤外線を中心に広帯域で反射率が高く太陽光
の熱線を大幅に遮蔽することが可能である。一方、反射
波長域の一部が可視光にまで及ぶため可視光の一部も反
射されてしまい、着色したり、可視光全体の透過率が減
少する。
フィルタータイプに分類される。反射増加膜タイプには
熱分解法（スプレー、ＣＶＤ）、真空法（蒸着、スパッ
ター）、メッキ法などにより比較的容易に製造でき実用
化されている。このような方法で作製された熱線反射ガ
ラスは、近赤外線を中心に広帯域で反射率が高く太陽光
の熱線を大幅に遮蔽することが可能である。一方、反射
波長域の一部が可視光にまで及ぶため可視光の一部も反
射されてしまい、着色したり、可視光全体の透過率が減
少する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の反射増加膜
タイプの熱線反射ガラスでは、その近赤外域のカットオ
フ性能が鋭いものではなく、近赤外線の反射率を高める
と可視光の反射率も増加するので、可視光に高透過率を
必要とする用途、例えば自動車用ガラスに用いることは
適当ではなかった。また可視光透過率を増大させると近
赤外線の透過率も増加し、熱線反射機能は低下するとい
う問題があった。本発明の目的は、可視光の透過率を下
げずに近赤外線を高効率で反射する高可視透過熱線反射
機能を有する積層体を提供することにある。
タイプの熱線反射ガラスでは、その近赤外域のカットオ
フ性能が鋭いものではなく、近赤外線の反射率を高める
と可視光の反射率も増加するので、可視光に高透過率を
必要とする用途、例えば自動車用ガラスに用いることは
適当ではなかった。また可視光透過率を増大させると近
赤外線の透過率も増加し、熱線反射機能は低下するとい
う問題があった。本発明の目的は、可視光の透過率を下
げずに近赤外線を高効率で反射する高可視透過熱線反射
機能を有する積層体を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、可視光を反射
させない範囲で広帯域で熱線を反射する反射増加膜をコ
ーティングした透明基板と、反射域の短波長側が可視域
に重ならない波長範囲の近赤外線を、鋭い波長選択性で
反射させる波長フィルターを積層させた、近赤外線を広
範囲に反射し、かつ高可視光透過率を有する積層体であ
る。
させない範囲で広帯域で熱線を反射する反射増加膜をコ
ーティングした透明基板と、反射域の短波長側が可視域
に重ならない波長範囲の近赤外線を、鋭い波長選択性で
反射させる波長フィルターを積層させた、近赤外線を広
範囲に反射し、かつ高可視光透過率を有する積層体であ
る。
【０００６】以下、本発明について詳述する。本発明に
用いられる前記反射増加膜は従来知られている技術であ
る、熱分解法、真空法、メッキ法などの方法で、近赤外
域を広帯域に反射し、かつ可視域に対し高透過率である
ものを作製する。すなわちこの反射増加膜は、可視域と
近赤外域の境界である約８００ｎｍ付近から長波長の帯
域で反射率がゼロから徐々に増加し、ある波長、例えば
約１５００ｎｍ付近において反射率が約８０％以上に達
し、それより長波長でも約８０％以上の高反射率を有す
るものである。その製造方法は例えば特公昭５７−２４
５２４に示されるような錫をドープした酸化インジウム
の層を、１０−７気圧より小さい酸素分圧に制御した雰
囲気下で、約３８０から５００℃に加熱処理し製造する
方法が挙げられる。この方法で約８００ｎｍから約１５
００ｎｍの範囲で徐々に反射率が増加するような分光反
射率を有する反射増加膜を得ることができる。上記の錫
をドープした酸化インジウムの層の他に酸化タングステ
ンの層も使用することができる。
用いられる前記反射増加膜は従来知られている技術であ
る、熱分解法、真空法、メッキ法などの方法で、近赤外
域を広帯域に反射し、かつ可視域に対し高透過率である
ものを作製する。すなわちこの反射増加膜は、可視域と
近赤外域の境界である約８００ｎｍ付近から長波長の帯
域で反射率がゼロから徐々に増加し、ある波長、例えば
約１５００ｎｍ付近において反射率が約８０％以上に達
し、それより長波長でも約８０％以上の高反射率を有す
るものである。その製造方法は例えば特公昭５７−２４
５２４に示されるような錫をドープした酸化インジウム
の層を、１０−７気圧より小さい酸素分圧に制御した雰
囲気下で、約３８０から５００℃に加熱処理し製造する
方法が挙げられる。この方法で約８００ｎｍから約１５
００ｎｍの範囲で徐々に反射率が増加するような分光反
射率を有する反射増加膜を得ることができる。上記の錫
をドープした酸化インジウムの層の他に酸化タングステ
ンの層も使用することができる。
【０００７】また反射増加膜を被覆する基板としては透
明性を有し、反射増加膜が被覆可能なフィルムまたはシ
ートであれば何でもよい。たとえば一般に用いられてい
るソーダガラスや低熱膨張耐熱性ガラスなどのいわゆる
無機ガラス、および有機ガラスといわれるアクリル、ポ
リエステルあるいはポリカーボネートなどが挙げられる
。
明性を有し、反射増加膜が被覆可能なフィルムまたはシ
ートであれば何でもよい。たとえば一般に用いられてい
るソーダガラスや低熱膨張耐熱性ガラスなどのいわゆる
無機ガラス、および有機ガラスといわれるアクリル、ポ
リエステルあるいはポリカーボネートなどが挙げられる
。
【０００８】波長フィルターは反射域の短波長側が可視
域に重ならない波長範囲の近赤外線を、鋭い波長選択性
で反射させる波長フィルターを使用する。すなわち上記
反射増加膜では十分に反射できない約８００ｎｍから約
１５００ｎｍの範囲の近赤外線を反射させ得る波長フィ
ルターを使用する。このような光学特性を有する波長フ
ィルターは例えば屈折率の異なる層を交互に重ねて作製
された多層膜フィルターやホログラフィーによって得ら
れた半値全幅（以下単に半値幅という）が５０〜５００
ｎｍの反射型ホログラムを用いることができる。
域に重ならない波長範囲の近赤外線を、鋭い波長選択性
で反射させる波長フィルターを使用する。すなわち上記
反射増加膜では十分に反射できない約８００ｎｍから約
１５００ｎｍの範囲の近赤外線を反射させ得る波長フィ
ルターを使用する。このような光学特性を有する波長フ
ィルターは例えば屈折率の異なる層を交互に重ねて作製
された多層膜フィルターやホログラフィーによって得ら
れた半値全幅（以下単に半値幅という）が５０〜５００
ｎｍの反射型ホログラムを用いることができる。
【０００９】反射型ホログラムは図１の如く鋭い波長選
択性を有するので、可視光を透過し、かつ赤外域の最も
短かい波長の部分を反射させることが可能である。この
反射型ホログラムの作製方法としては、例えば本願出願
人がさきに出願した特願平２−２３６１３２に記載され
ている記録材料を用いることができる。この種の記録材
料で作製した反射型ホログラムをポリビニルブチラール
フィルムを中間膜として合せガラスとする場合、ポリビ
ニルブチラールフィルム中に存在する可塑剤によってホ
ログラムが膨潤し、再生波長は記録波長よりも長波長と
なる傾向を有するので、約８００ｎｍから約１５００ｎ
ｍの範囲内に約８０％以上の反射率を有し半値幅が約７
０ｎｍの波長フィルターを作製することができる。反射
型ホログラムの波長帯域が狭い場合には、２種以上の異
なる波長帯域を反射するホログラムを積層させ、その帯
域を広げることができる。
択性を有するので、可視光を透過し、かつ赤外域の最も
短かい波長の部分を反射させることが可能である。この
反射型ホログラムの作製方法としては、例えば本願出願
人がさきに出願した特願平２−２３６１３２に記載され
ている記録材料を用いることができる。この種の記録材
料で作製した反射型ホログラムをポリビニルブチラール
フィルムを中間膜として合せガラスとする場合、ポリビ
ニルブチラールフィルム中に存在する可塑剤によってホ
ログラムが膨潤し、再生波長は記録波長よりも長波長と
なる傾向を有するので、約８００ｎｍから約１５００ｎ
ｍの範囲内に約８０％以上の反射率を有し半値幅が約７
０ｎｍの波長フィルターを作製することができる。反射
型ホログラムの波長帯域が狭い場合には、２種以上の異
なる波長帯域を反射するホログラムを積層させ、その帯
域を広げることができる。
【００１０】これらの波長フィルタの可視光における光
吸収はゼロに近いので、約８００ｎｍから約１５００ｎ
ｍの範囲で徐々に反射率が増加する反射増加膜と、この
範囲で約８０％以上の反射率を有しかつ鋭い波長選択性
で反射させる波長フィルターとを積層させた積層体は、
約８００ｎｍ以上の波長の光に対して高い反射率を示し
、しかも約４００〜約７５０ｎｍの可視光に対して約７
０％以上の高い透過率を示す。
吸収はゼロに近いので、約８００ｎｍから約１５００ｎ
ｍの範囲で徐々に反射率が増加する反射増加膜と、この
範囲で約８０％以上の反射率を有しかつ鋭い波長選択性
で反射させる波長フィルターとを積層させた積層体は、
約８００ｎｍ以上の波長の光に対して高い反射率を示し
、しかも約４００〜約７５０ｎｍの可視光に対して約７
０％以上の高い透過率を示す。
【００１１】上記反射増加膜と波長フィルターを積層さ
せるが、それぞれの間に中間膜を介してもよい。中間膜
は上述のホログラムの再生波長を制御するために用いた
り、例えば接着強度を高めるためや、紫外線吸収剤を加
え紫外線も遮断するために用いられる。積層体としては
例えば、反射増加膜付きガラス板／ポリビニルブチラー
ル膜／波長フィルター／ポリビニルブチラール膜／ガラ
ス板（ただし、反射増加膜はポリビニルブチラールに面
する）、反射増加膜付きポリエステルフィルム／波長フ
ィルター／アクリル板（ただし、反射増加膜は波長フィ
ルターに面する）、反射増加膜付きガラス／波長フィル
ターなどが挙げられる。
せるが、それぞれの間に中間膜を介してもよい。中間膜
は上述のホログラムの再生波長を制御するために用いた
り、例えば接着強度を高めるためや、紫外線吸収剤を加
え紫外線も遮断するために用いられる。積層体としては
例えば、反射増加膜付きガラス板／ポリビニルブチラー
ル膜／波長フィルター／ポリビニルブチラール膜／ガラ
ス板（ただし、反射増加膜はポリビニルブチラールに面
する）、反射増加膜付きポリエステルフィルム／波長フ
ィルター／アクリル板（ただし、反射増加膜は波長フィ
ルターに面する）、反射増加膜付きガラス／波長フィル
ターなどが挙げられる。
【００１２】
【発明の効果】本発明により、近赤外線の反射機能を損
なわずに、高可視光透過率を有する高可視透過熱線反射
積層体例えば約８００ｎｍから約２０００ｎｍの範囲の
光に対して約７０％以上の高い平均反射率と、約４００
〜約７５０ｎｍの可視光に対して約７０％以上の高い透
過率を示す積層体を作製することが可能となった。
なわずに、高可視光透過率を有する高可視透過熱線反射
積層体例えば約８００ｎｍから約２０００ｎｍの範囲の
光に対して約７０％以上の高い平均反射率と、約４００
〜約７５０ｎｍの可視光に対して約７０％以上の高い透
過率を示す積層体を作製することが可能となった。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。 実施例１ １００ｇｒの酸化インジウム（ＩｎＣｌ３）を１リット
ルの酢酸ｎ−ブチルエステルに溶解した溶液に４ｃｃの
塩化スズ（ＳｎＣｌ４）を添加した。この溶液をアトマ
イジングノズルにより酸素で微粒子化し、約５００℃で
２ｍｍｘ２０ｃｍｘ２０ｃｍのガラス基板上に噴霧し約
０．３μｍの層を生成させた。さらにこの被覆された基
体を容器に入れ４５０℃に加熱し、この容器内をまず１
０−４ｍｍＨｇ以下に排気して、次に酸素分圧を１０−
７気圧以下にするために、１５ｍｍＨｇの圧力になるま
でＣＯガスを導入し、３０分後にこの容器を再び排気し
冷却して、図２に示す約８００ｎｍから約１５００ｎｍ
の範囲で反射率が増加するような分光反射率を有する反
射増加膜を被覆したガラスを得ることができる。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。 実施例１ １００ｇｒの酸化インジウム（ＩｎＣｌ３）を１リット
ルの酢酸ｎ−ブチルエステルに溶解した溶液に４ｃｃの
塩化スズ（ＳｎＣｌ４）を添加した。この溶液をアトマ
イジングノズルにより酸素で微粒子化し、約５００℃で
２ｍｍｘ２０ｃｍｘ２０ｃｍのガラス基板上に噴霧し約
０．３μｍの層を生成させた。さらにこの被覆された基
体を容器に入れ４５０℃に加熱し、この容器内をまず１
０−４ｍｍＨｇ以下に排気して、次に酸素分圧を１０−
７気圧以下にするために、１５ｍｍＨｇの圧力になるま
でＣＯガスを導入し、３０分後にこの容器を再び排気し
冷却して、図２に示す約８００ｎｍから約１５００ｎｍ
の範囲で反射率が増加するような分光反射率を有する反
射増加膜を被覆したガラスを得ることができる。
【００１４】特願平２−２３６１３２の実施例１に示さ
れるホログラム記録用感光体を用いて、５１４．５ｎｍ
のレーザ光で全露光量が約５００ｍＪ／ｃｍ２ となる
ように図４に示す二光束干渉露光法によって、アルゴン
イオンレーザー５から発振した５１４．５ｎｍの光をビ
ームエクスパンダー７，コリメーターレンズ８により平
行光にし、さらにビームスプリッター９により二分され
た光を全反射ミラー１０，１０’を調節して入射角θ＝
５０°，６０°，７５°の３種類で３枚の感光体１１に
それぞれ露光した。その後、感光材を３０Ｗの蛍光灯を
用いて３ｃｍの距離から約２０分全面露光し、重合を完
結させ固定化し、約５８０ｎｍ、約６１５ｎｍおよび約
６５０ｎｍの中心波長と約７０ｎｍの半値幅を有する膜
厚み２３μｍの反射型ホログラム１、２、３をそれぞれ
作製した。
れるホログラム記録用感光体を用いて、５１４．５ｎｍ
のレーザ光で全露光量が約５００ｍＪ／ｃｍ２ となる
ように図４に示す二光束干渉露光法によって、アルゴン
イオンレーザー５から発振した５１４．５ｎｍの光をビ
ームエクスパンダー７，コリメーターレンズ８により平
行光にし、さらにビームスプリッター９により二分され
た光を全反射ミラー１０，１０’を調節して入射角θ＝
５０°，６０°，７５°の３種類で３枚の感光体１１に
それぞれ露光した。その後、感光材を３０Ｗの蛍光灯を
用いて３ｃｍの距離から約２０分全面露光し、重合を完
結させ固定化し、約５８０ｎｍ、約６１５ｎｍおよび約
６５０ｎｍの中心波長と約７０ｎｍの半値幅を有する膜
厚み２３μｍの反射型ホログラム１、２、３をそれぞれ
作製した。
【００１５】上記反射増加膜付きガラスと上記３種類の
ホログラムとを、厚み２ｍｍのガラス板、中間膜として
厚み０．５ｍｍのポリビニルブチラールフィルム２枚（
積水化学工業株式会社製）を用いて１５０℃，１５気圧
のオートクレーブ条件で積層体とすると同時に、反射型
ホログラムの反射波長帯域をそれぞれ約８００ｎｍ、約
８７５ｎｍ、約９５０ｎｍに変化させた。
ホログラムとを、厚み２ｍｍのガラス板、中間膜として
厚み０．５ｍｍのポリビニルブチラールフィルム２枚（
積水化学工業株式会社製）を用いて１５０℃，１５気圧
のオートクレーブ条件で積層体とすると同時に、反射型
ホログラムの反射波長帯域をそれぞれ約８００ｎｍ、約
８７５ｎｍ、約９５０ｎｍに変化させた。
【００１６】これにより図３に示すように反射増加膜付
きガラス板１／ポリビニルブチラール膜３／３枚の波長
フィルター４／ポリビニルブチラール膜３／ガラス板１
（ただし、反射増加膜２はポリビニルブチラールに面す
る）からなる、図５に示す分光反射率を有する厚み約５
ｍｍの積層体が得られた。
きガラス板１／ポリビニルブチラール膜３／３枚の波長
フィルター４／ポリビニルブチラール膜３／ガラス板１
（ただし、反射増加膜２はポリビニルブチラールに面す
る）からなる、図５に示す分光反射率を有する厚み約５
ｍｍの積層体が得られた。
【００１７】実施例２
図６に示す分光反射率を有する市販の多層膜フィルター
と実施例１で得られた反射増加膜付きガラスを、中間膜
としてポリビニルブチラールフィルム（積水化学工業株
式会社製）を用いて１５０℃，１５気圧のオートクレー
ブ条件で積層体とした。これにより図７に示す分光反射
率を有する積層体が得られた。
と実施例１で得られた反射増加膜付きガラスを、中間膜
としてポリビニルブチラールフィルム（積水化学工業株
式会社製）を用いて１５０℃，１５気圧のオートクレー
ブ条件で積層体とした。これにより図７に示す分光反射
率を有する積層体が得られた。
【図１】 本発明の１実施例に用いるホログラムの分
光反射率を示す。
光反射率を示す。
【図２】 本発明の１実施例に用いる反射増加膜の分
光反射率を示す。
光反射率を示す。
【図３】 本発明の実施例１の積層体の構成を示す断
面図。
面図。
【図４】 本発明の積層体の製造に用いるホログラム
を製造するためのホログラム記録用光学系を示す。
を製造するためのホログラム記録用光学系を示す。
【図５】 実施例１の積層体の分光反射率を示す。
【図６】 本発明の実施例２に用いる多層膜フィルタ
ーの分光反射率を示す。
ーの分光反射率を示す。
【図７】 実施例２の積層体の分光反射率を示す。
１．．ガラス
２．．反射増加膜
３．．ポリビニルブチラール
４．．反射型ホログラム（３枚重ね）
５．．アルゴンイオンレーザー
６．．シャッター
７．．ビームエクスパンダー
８．．コリメーターレンズ
９．．ビームスプリッター
１０，１０’．．全反射ミラー
１１．．ホログラム記録用感光体
Claims (5)
- 【請求項１】 広帯域で近赤外線を反射する薄膜コー
ティングを施した透明基板と鋭い波長選択反射を有する
波長フィルターからなる高熱線反射率と高可視光透過率
を有する積層体。 - 【請求項２】 前記透明基板が無機ガラスあるいは有
機ガラスである請求項１記載の積層体。 - 【請求項３】 前記有機ガラスがアクリル、ポリエス
テルあるいはポリカーボネートからなるフィルムまたは
シートである請求項２記載の積層体。 - 【請求項４】 前記波長フィルターがホログラフィー
によって作製されたものである請求項１記載の積層体。 - 【請求項５】 前記波長フィルターが多層膜フィルタ
ーによって作製されたものである請求項１記載の積層体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6917691A JPH04281402A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 高可視透過熱線反射積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6917691A JPH04281402A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 高可視透過熱線反射積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04281402A true JPH04281402A (ja) | 1992-10-07 |
Family
ID=13395153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6917691A Pending JPH04281402A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 高可視透過熱線反射積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04281402A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2078166A2 (es) * | 1993-12-16 | 1995-12-01 | Univ Alicante | Filtro holografico que refleja la radiacion uv-ir y procedimiento con su correspondiente dispositivo para su fabricacion. |
| JP2002277816A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Minolta Co Ltd | 映像表示装置 |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6917691A patent/JPH04281402A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2078166A2 (es) * | 1993-12-16 | 1995-12-01 | Univ Alicante | Filtro holografico que refleja la radiacion uv-ir y procedimiento con su correspondiente dispositivo para su fabricacion. |
| JP2002277816A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Minolta Co Ltd | 映像表示装置 |
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