JPH042856A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
- Publication number
- JPH042856A JPH042856A JP9885390A JP9885390A JPH042856A JP H042856 A JPH042856 A JP H042856A JP 9885390 A JP9885390 A JP 9885390A JP 9885390 A JP9885390 A JP 9885390A JP H042856 A JPH042856 A JP H042856A
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- JP
- Japan
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- heating chamber
- beltlike
- sensor
- unit
- thin
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、布等の薄肉帯状体を連続的に加熱するヒート
セット、乾燥装置等の加熱装置に関するものである。
セット、乾燥装置等の加熱装置に関するものである。
加熱装置の一例である乾燥装置では、水分及び助剤やワ
ックス等の処理剤を含む布が乾燥室(加熱室)内を連続
走行され、該乾燥室内に供給される熱風により上記水分
を乾燥させると共に上記処理剤を算発させるように構成
されている。
ックス等の処理剤を含む布が乾燥室(加熱室)内を連続
走行され、該乾燥室内に供給される熱風により上記水分
を乾燥させると共に上記処理剤を算発させるように構成
されている。
上記乾燥室内には、該乾燥室内の湿度を検出する湿度セ
ンサが設けられており、該湿度センサにより検出される
上記乾燥室内の湿度に応して上記乾燥室に連通されたダ
クト上に配備されたバルブ(排気量調節手段)の開度が
制御され、上記乾燥室内の水菖気が該ダクトを通して排
気される。
ンサが設けられており、該湿度センサにより検出される
上記乾燥室内の湿度に応して上記乾燥室に連通されたダ
クト上に配備されたバルブ(排気量調節手段)の開度が
制御され、上記乾燥室内の水菖気が該ダクトを通して排
気される。
この場合、上記湿度センサとしては、例えば高分子薄膜
センサ等が用いられている。
センサ等が用いられている。
他方、上記のような湿度センサに代えて、上記ダクト上
に汚染センサを備えたものも提案されている。
に汚染センサを備えたものも提案されている。
上記汚染センサは、上記処理剤が蒸発して気化すること
により発生する汚染ガスの汚染度合を検出する為のもの
であって、例えば光学的な赤外線センサが用いられてい
る。
により発生する汚染ガスの汚染度合を検出する為のもの
であって、例えば光学的な赤外線センサが用いられてい
る。
尚、この場合、上記汚染センサが上記ダクト上に配備さ
れるのは、取付作業の簡便性を考慮したものである。
れるのは、取付作業の簡便性を考慮したものである。
ところで、上記のような汚染センサを備えた乾燥装置で
は、上述の如く、該汚染センサがその取付作業の簡便性
のみを考慮して布の走行位置から離れたダクト上に配備
されていることから、上記布からの処理剤の気化状況を
的確且つ迅速に把握することができない。
は、上述の如く、該汚染センサがその取付作業の簡便性
のみを考慮して布の走行位置から離れたダクト上に配備
されていることから、上記布からの処理剤の気化状況を
的確且つ迅速に把握することができない。
従って、乾燥室内における汚染ガスの発生状況に応じて
適宜迅速に上記バルブの開度を制御することができない
。
適宜迅速に上記バルブの開度を制御することができない
。
そこで、本発明の目的とするところは、汚染ガスの発生
状況に即して迅速に当該加熱装置を制御し得るように上
記汚染センサの配備位置を考慮された加熱装置を提供す
ることである。
状況に即して迅速に当該加熱装置を制御し得るように上
記汚染センサの配備位置を考慮された加熱装置を提供す
ることである。
〔1lIlを解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明が採用する主たる手
段は、その要旨とするところが、処理剤を含む薄肉帯状
体を汚染センサを備えた加熱室内で連続走行させ、該加
熱室内に供給される熱風により上記処理剤を蒸発させ、
ここで発生した本気を排気量調節手段を具備したダクト
を通して排気するようにした加熱装置において、上記汚
染センサを、上記加熱室内の出口近傍であって上記薄肉
帯状体が減率乾燥の状態に遷移する部分に対応させて設
けた点に係る加熱装置である。
段は、その要旨とするところが、処理剤を含む薄肉帯状
体を汚染センサを備えた加熱室内で連続走行させ、該加
熱室内に供給される熱風により上記処理剤を蒸発させ、
ここで発生した本気を排気量調節手段を具備したダクト
を通して排気するようにした加熱装置において、上記汚
染センサを、上記加熱室内の出口近傍であって上記薄肉
帯状体が減率乾燥の状態に遷移する部分に対応させて設
けた点に係る加熱装置である。
以下添付図面を参照して、本発明を具体化した実施例に
付き説明し、本発明の理解に供する。尚、以下の実施例
は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的
範囲を限定する性格のものではない。
付き説明し、本発明の理解に供する。尚、以下の実施例
は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的
範囲を限定する性格のものではない。
ここに、第1図は本発明の一実施例に係る乾燥装置の概
略構成を示すものであって、同図(alは側面図、同図
(blは平面図、第2図は上記乾燥装置に適用されるバ
ルブの制御系のブロック図、第3図は上記乾燥装置に通
用可能な他の実施例に係るバルブの制御系のブロック図
、第4図は乾燥室内における温度変化状況を示すグラフ
である。
略構成を示すものであって、同図(alは側面図、同図
(blは平面図、第2図は上記乾燥装置に適用されるバ
ルブの制御系のブロック図、第3図は上記乾燥装置に通
用可能な他の実施例に係るバルブの制御系のブロック図
、第4図は乾燥室内における温度変化状況を示すグラフ
である。
この実施例に係る乾燥装置では、第1図(al、 (b
lに示す如く、乾燥室1(加熱室)に、該乾燥室1内に
熱風を供給する熱風供給装置2が接続されている。上記
乾燥室lの上部には排気用のダクト3が接続されており
、該ダクト3内には、例えばモータ等のアクチエエータ
4によりその開度が制御されるバルブ5(排気量調節手
段)が配備されている。この排気量調節手段としては、
上記バルブ5に代えて、ダンパや排気ファンを用いても
良い。
lに示す如く、乾燥室1(加熱室)に、該乾燥室1内に
熱風を供給する熱風供給装置2が接続されている。上記
乾燥室lの上部には排気用のダクト3が接続されており
、該ダクト3内には、例えばモータ等のアクチエエータ
4によりその開度が制御されるバルブ5(排気量調節手
段)が配備されている。この排気量調節手段としては、
上記バルブ5に代えて、ダンパや排気ファンを用いても
良い。
更に、上記乾燥室lの上部には、該乾燥室l内の湿度を
検出する湿度センサ6が配備されている。
検出する湿度センサ6が配備されている。
上記乾燥室1内の出口1.近傍であって、布7が減率乾
燥の状態に遷移する部分(第4図中の矢印Aで示す部分
である。そして、処理剤の気化が最も促進されて汚染ガ
スの最も多量に発生し易い領域であって、布7の水分の
蒸発が略完了して該布7の温度が上昇傾向に遷移する領
域であってこの領域は水辺外の液体においてもその液体
の性りに応じて個別に存在する。これに対して矢印Bで
示す部分は恒率乾燥と呼ばれる。)に対応させて、汚染
センサ8が設けられている。上記汚染センサ8は、気化
された処理剤による汚染の度合を検出するためのもので
あって、例えば光学的な赤外線センサが用いられる。
燥の状態に遷移する部分(第4図中の矢印Aで示す部分
である。そして、処理剤の気化が最も促進されて汚染ガ
スの最も多量に発生し易い領域であって、布7の水分の
蒸発が略完了して該布7の温度が上昇傾向に遷移する領
域であってこの領域は水辺外の液体においてもその液体
の性りに応じて個別に存在する。これに対して矢印Bで
示す部分は恒率乾燥と呼ばれる。)に対応させて、汚染
センサ8が設けられている。上記汚染センサ8は、気化
された処理剤による汚染の度合を検出するためのもので
あって、例えば光学的な赤外線センサが用いられる。
通常、上記布7の走行速度は、経済的な観点から、出口
1a部分で必要最高温度(例えば120℃〜130℃)
が得られるように設定されることから、上記出口1.近
傍と、減率乾燥に遷移する領域とが雌型なる。
1a部分で必要最高温度(例えば120℃〜130℃)
が得られるように設定されることから、上記出口1.近
傍と、減率乾燥に遷移する領域とが雌型なる。
第2図に、上記アクチエエータ4の制御系のブロック図
を示す。
を示す。
即ち、湿度センサ6からの出力値と湿度設定器9からの
設定値とが比較されてコントローラ10による制御量が
決定される。上記コントローラlOにより決定された制
御量は、スイッチ回路11を通してインバータ12に出
力され、上記湿度センサ6により検出される上記乾燥i
l内の湿度に応じて上記バルブ5の開度が制御さる。
設定値とが比較されてコントローラ10による制御量が
決定される。上記コントローラlOにより決定された制
御量は、スイッチ回路11を通してインバータ12に出
力され、上記湿度センサ6により検出される上記乾燥i
l内の湿度に応じて上記バルブ5の開度が制御さる。
他方、上記汚染センサ8からの出力値と汚染度設定器1
3からの設定値との比較でコントローラ14による制御
量が決定される。該コントローラ14により決定された
制御量は、スイッチ回路15を通して上記インバータ1
2に出力され、上記汚染センサ8により検出される上記
乾燥室1内の汚染度に応じて上記バルブ5の開度が制御
される。
3からの設定値との比較でコントローラ14による制御
量が決定される。該コントローラ14により決定された
制御量は、スイッチ回路15を通して上記インバータ1
2に出力され、上記汚染センサ8により検出される上記
乾燥室1内の汚染度に応じて上記バルブ5の開度が制御
される。
同図において、16.17は増幅器であって、湿度セン
サ6からの出力値に基づく制御量と汚染センサ8からの
出力値に基づく制御量とを同レベルで比較し得るように
水準化する作用を成す、この場合、上記湿度センサ6か
らの出力値と汚染センサ8からの出力値とが当初から同
一基準レベルであれば、上記のような増幅器16.17
等を省略することができる。
サ6からの出力値に基づく制御量と汚染センサ8からの
出力値に基づく制御量とを同レベルで比較し得るように
水準化する作用を成す、この場合、上記湿度センサ6か
らの出力値と汚染センサ8からの出力値とが当初から同
一基準レベルであれば、上記のような増幅器16.17
等を省略することができる。
上記増幅器16.17により水準化された各制御量は、
上限コントローラ18及びコントローラ19に出力され
る。
上限コントローラ18及びコントローラ19に出力され
る。
上記上限コントローラ18は、湿度、汚染度共に超えて
はならない上限値、即ち、水蟇気若しくは汚染ガスが乾
燥室1内において飽和状態となって水滴若しくは処理剤
が滴下し始める値を超えたか否かを監視し、上記上限値
を超えた場合には、その上限値を超えた湿度センサ6若
しくは汚染センサ8からの検出値に基づく制御量により
上記アクチュエータ4を制御すべ(、上記スイッチ回路
11若しくは15のいずれかをオンさせる。
はならない上限値、即ち、水蟇気若しくは汚染ガスが乾
燥室1内において飽和状態となって水滴若しくは処理剤
が滴下し始める値を超えたか否かを監視し、上記上限値
を超えた場合には、その上限値を超えた湿度センサ6若
しくは汚染センサ8からの検出値に基づく制御量により
上記アクチュエータ4を制御すべ(、上記スイッチ回路
11若しくは15のいずれかをオンさせる。
この場合、何れかの上記制御量が上限値を超えた時には
、上記インバータ12へ直接制御信号を出力し、上記ア
クチエエータ4により上記バルブ5を全開させるように
しても良い。
、上記インバータ12へ直接制御信号を出力し、上記ア
クチエエータ4により上記バルブ5を全開させるように
しても良い。
上記コントローラ19は、上記各制御量が何れも上限値
を超えていない場合、予め定められた所定の優先度に従
って、即ち、上記湿度センサ6に基づく制御量若しくは
上記汚染センサ8に基づく制御量に従って上記アクチュ
エータ4を制御すべく、上記スイッチ回路11若しくは
15の何れかをオンさせる作用を成す。
を超えていない場合、予め定められた所定の優先度に従
って、即ち、上記湿度センサ6に基づく制御量若しくは
上記汚染センサ8に基づく制御量に従って上記アクチュ
エータ4を制御すべく、上記スイッチ回路11若しくは
15の何れかをオンさせる作用を成す。
本実施例に係る乾燥装置は上記したように構成されてい
る。
る。
従って、当該装置においては、当初例えば湿度センサ6
に基づく制御量により上記バルブ5が開閉制御されてい
る場合、例えば上記布7が何らかの原因により乾燥室1
内においてその走行が停止した時、上記布7が過乾燥の
状態になると共に上記乾燥室1内へ水分を含んだ新たな
布が供給されないことから、該乾燥室1内における温度
が上昇し始める。すると、上記乾燥室1内の壁面や布に
付着していた処理剤の気化が益々活性化され、該乾燥室
1内における汚染ガスの濃度が上昇する。
に基づく制御量により上記バルブ5が開閉制御されてい
る場合、例えば上記布7が何らかの原因により乾燥室1
内においてその走行が停止した時、上記布7が過乾燥の
状態になると共に上記乾燥室1内へ水分を含んだ新たな
布が供給されないことから、該乾燥室1内における温度
が上昇し始める。すると、上記乾燥室1内の壁面や布に
付着していた処理剤の気化が益々活性化され、該乾燥室
1内における汚染ガスの濃度が上昇する。
ところが、当該装置においては、汚染ガスの高濃度状態
が汚染センサ8により的確且つ迅速に検出され、上限コ
ントローラ18が作動することにより、スイッチ回路1
1がオフされてスイッチ回路15がオンされる。その結
果、汚染センサ8に基づく制御量により上記アクチエエ
ータ4が適宜迅速に制御されて上記バルブ5は上記乾燥
室1内における汚染度に見合った開度制御が実施される
こととなり、布7への処理剤の滴下は効果的に防止され
る。尚この場合、布の走行が停止した時、無条件にて汚
染センサ8による制御に切り替えるように制御しても良
い。
が汚染センサ8により的確且つ迅速に検出され、上限コ
ントローラ18が作動することにより、スイッチ回路1
1がオフされてスイッチ回路15がオンされる。その結
果、汚染センサ8に基づく制御量により上記アクチエエ
ータ4が適宜迅速に制御されて上記バルブ5は上記乾燥
室1内における汚染度に見合った開度制御が実施される
こととなり、布7への処理剤の滴下は効果的に防止され
る。尚この場合、布の走行が停止した時、無条件にて汚
染センサ8による制御に切り替えるように制御しても良
い。
他方、汚染センサ8に基づく制御量により上記バルブ5
の開度が制御されている場合であって、乾燥室1内にお
ける湿度が過度に上昇した時、上限コントローラ18の
作用によりスイッチ回路11.15が切り換えられて湿
度センサ6に基づく制御量により上記バルブ5の開度が
制御されることとなることから、上記布7への水滴の落
下も効果的に防止される。
の開度が制御されている場合であって、乾燥室1内にお
ける湿度が過度に上昇した時、上限コントローラ18の
作用によりスイッチ回路11.15が切り換えられて湿
度センサ6に基づく制御量により上記バルブ5の開度が
制御されることとなることから、上記布7への水滴の落
下も効果的に防止される。
上記したように本実施例装置によれば、水分の凛発状況
や処理剤の気化状況に応じて上記バルブ5の開度が適宜
迅速に調整されることから、上記布7への処理剤の滴下
や水滴の落下が防止され、上記布7を高品質の状態に乾
燥させることができる。
や処理剤の気化状況に応じて上記バルブ5の開度が適宜
迅速に調整されることから、上記布7への処理剤の滴下
や水滴の落下が防止され、上記布7を高品質の状態に乾
燥させることができる。
尚、本発明に係る乾燥装置においては、第3図に示すよ
うに、湿度センサ6、汚染センサ8からの各検出値を直
接増幅器16.17により水準化し、この水準化された
各検出値に基づいて上記上限コントローラ18を制御す
るようにしても良い。
うに、湿度センサ6、汚染センサ8からの各検出値を直
接増幅器16.17により水準化し、この水準化された
各検出値に基づいて上記上限コントローラ18を制御す
るようにしても良い。
更に本実施例においては、水分が極端に低く、処理剤の
付着量が多い布であることが予め判明している場合には
、当初から汚染センサ8に基づく制御を実施するように
切替可能に構成することも可能である。
付着量が多い布であることが予め判明している場合には
、当初から汚染センサ8に基づく制御を実施するように
切替可能に構成することも可能である。
そして、上述の如<、湯度センサ6及び汚染センサ8か
らの検出データに基づいてバルブ5の開度を自動的に調
整し得るように構成することにより、手動制御した場合
のバルブ5の制御に対するオペレータの個別的なバラツ
キが解消され、常に最適な制御を実施して高品質の状態
に布を乾燥させることができる。同時に、オペレータは
常時監視の状態から解放され、システム全体の省人化を
図り得る。
らの検出データに基づいてバルブ5の開度を自動的に調
整し得るように構成することにより、手動制御した場合
のバルブ5の制御に対するオペレータの個別的なバラツ
キが解消され、常に最適な制御を実施して高品質の状態
に布を乾燥させることができる。同時に、オペレータは
常時監視の状態から解放され、システム全体の省人化を
図り得る。
また、本実施例装置において、上限コントローラ18や
他のコントローラを含めてシステムの処理機能を単一若
しくは複数のCPUにて負担させるようにして構成する
ことも可能である。
他のコントローラを含めてシステムの処理機能を単一若
しくは複数のCPUにて負担させるようにして構成する
ことも可能である。
本発明は、上記したように、処理剤を含む薄肉帯状体を
汚染センサを備えた加熱室内で連続走行させ、該加熱室
内に供給される熱風により上記処理剤を蒸発させ、ここ
で発生した蒸気を排気量調節手段を具備したダクトを通
して排気するようにした加熱装置において、上記汚染セ
ンサを、上記加熱室内の出口近傍であって上記薄肉帯状
体が減率乾燥の状態に遷移する部分に対応させて設けた
ことを特徴とする加熱装置であるから、汚染ガスの発生
状況に即して適宜迅速に当該加熱装置を制御することが
できる。
汚染センサを備えた加熱室内で連続走行させ、該加熱室
内に供給される熱風により上記処理剤を蒸発させ、ここ
で発生した蒸気を排気量調節手段を具備したダクトを通
して排気するようにした加熱装置において、上記汚染セ
ンサを、上記加熱室内の出口近傍であって上記薄肉帯状
体が減率乾燥の状態に遷移する部分に対応させて設けた
ことを特徴とする加熱装置であるから、汚染ガスの発生
状況に即して適宜迅速に当該加熱装置を制御することが
できる。
第1図は本発明の一実施例に係る乾燥装置の概略構成を
示すものであって、同図ialは側面図、同図(blは
平面図、第2図は上記乾燥装置に通用されるバルブの制
御系のブロック図、第3図は上記乾燥装置に通用可能な
他の実施例に係るバルブの制御系のブロック図、第4図
は乾燥室内における温度変化状況を示すグラフである。 〔符号の説明〕 l・・・乾燥室(加熱室) 18・・・出口2・・
・熱風供給装置 3・・・ダクト4・・・アクチ
ュエータ 5・・・バルブ(排気量調節手段) 6・・・湿度センサ 7・・・布8・・・汚染
センサ 9・・・湿度設定器0.14.19・
・・コントローラ 1.15・・・スイッチ回路 3・・・汚染度設定器 6.17・・・増幅器 8・・・上限コントローラ
示すものであって、同図ialは側面図、同図(blは
平面図、第2図は上記乾燥装置に通用されるバルブの制
御系のブロック図、第3図は上記乾燥装置に通用可能な
他の実施例に係るバルブの制御系のブロック図、第4図
は乾燥室内における温度変化状況を示すグラフである。 〔符号の説明〕 l・・・乾燥室(加熱室) 18・・・出口2・・
・熱風供給装置 3・・・ダクト4・・・アクチ
ュエータ 5・・・バルブ(排気量調節手段) 6・・・湿度センサ 7・・・布8・・・汚染
センサ 9・・・湿度設定器0.14.19・
・・コントローラ 1.15・・・スイッチ回路 3・・・汚染度設定器 6.17・・・増幅器 8・・・上限コントローラ
Claims (1)
- 1、処理剤を含む薄肉帯状体を汚染センサを備えた加熱
室内で連続走行させ、該加熱室内に供給される熱風によ
り上記処理剤を蒸発させ、ここで発生した蒸気を排気量
調節手段を具備したダクトを通して排気するようにした
加熱装置において、上記汚染センサを、上記加熱室内の
出口近傍であって上記薄肉帯状体が減率乾燥の状態に遷
移する部分に対応させて設けたことを特徴とする加熱装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9885390A JPH042856A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9885390A JPH042856A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042856A true JPH042856A (ja) | 1992-01-07 |
| JPH0577783B2 JPH0577783B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=14230790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9885390A Granted JPH042856A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH042856A (ja) |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP9885390A patent/JPH042856A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0577783B2 (ja) | 1993-10-27 |
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