JPH04285900A - X-ray irradiation device - Google Patents
X-ray irradiation deviceInfo
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、X線により試料の露光
処理を行うX線照射装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray irradiation device for exposing a sample to X-rays.
【0002】近年、半導体デバイスの高集積化に伴い、
微細加工を必要とし、シンクロトロンX線を用いた露光
処理や光化学反応により絶縁薄膜形成、配線用金属薄膜
及び半導体薄層の低温エピタキシャル成長等が行われる
。この場合、X線の試料上への垂直方向の幅が広い照射
、及び均一又は任意分布の照射が望まれている。そのた
め、照射X線の照射位置及び照射強度を検出する必要が
ある。In recent years, with the increasing integration of semiconductor devices,
Microfabrication is required, and insulating thin film formation, low-temperature epitaxial growth of metal thin films for wiring and semiconductor thin layers, etc. are performed by exposure processing using synchrotron X-rays and photochemical reactions. In this case, it is desired to irradiate the sample with X-rays over a wide width in the vertical direction, and to irradiate the sample with a uniform or arbitrary distribution. Therefore, it is necessary to detect the irradiation position and irradiation intensity of the irradiated X-rays.
【0003】0003
【従来の技術】図5に、従来のX線照明装置の概念図を
示す。図5(A)は全体概念を示したもので、図5(B
)はベリリウム窓を示したものである。図5(A)にお
いて、X線照射装置50は、電子蓄積リング51より放
射されたX線がビームライン52を通り、反射鏡53で
反射してX線取出し窓54より外部へ取り出される。反
射鏡53は平面鏡又はトロイダル鏡であり、X線取出し
窓54は、図5(B)に示すように、X線透過率の高い
ベリリウム(Be)により円形状に形成されたものであ
る。このベリリウム窓54より取り出されたX線は、ス
テッパ55に設けられた試料(例えばウエハ)に照射さ
れる。2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a conceptual diagram of a conventional X-ray illumination device. Figure 5(A) shows the overall concept, and Figure 5(B)
) shows a beryllium window. In FIG. 5A, in an X-ray irradiation device 50, X-rays emitted from an electron storage ring 51 pass through a beam line 52, are reflected by a reflecting mirror 53, and are taken out from an X-ray extraction window 54. The reflecting mirror 53 is a plane mirror or a toroidal mirror, and the X-ray extraction window 54 is formed into a circular shape from beryllium (Be) having high X-ray transmittance, as shown in FIG. 5(B). The X-rays taken out from this beryllium window 54 are irradiated onto a sample (for example, a wafer) provided on a stepper 55.
【0004】また、反射鏡53はカム等の機械的機構の
駆動装置56により上下に振動される。すなわち、図5
(B)に示すように、ベリリウム窓54を通過するX線
は、数mmから1cm程度の幅の水平方向に細長いビー
ム57であり、反射鏡53の振動により垂直方向に走査
されて長方形状に試料を照射するものである。なお、電
子蓄積リング51及びビームライン52内は高真空状態
下に置かれる。Further, the reflecting mirror 53 is vibrated up and down by a driving device 56, which is a mechanical mechanism such as a cam. That is, Figure 5
As shown in (B), the X-rays passing through the beryllium window 54 are horizontally elongated beams 57 with a width of several mm to 1 cm, and are scanned vertically by the vibration of the reflecting mirror 53 to form a rectangular shape. It irradiates the sample. Note that the electron storage ring 51 and the beam line 52 are placed under a high vacuum state.
【0005】このようなX線照射装置50は、ベリリウ
ム窓54を固定としていることから、この大きさでX線
の照射面積が制限されるばかりでなく、大面積のX線を
取出すためにはビームライン52内との圧力差から機械
的強度を十分にもたせる必要がある。そのため、ベリリ
ウム窓54を厚く形成しなければならず、その分X線の
透過率が著しく減少する。[0005] Since such an X-ray irradiation device 50 has a fixed beryllium window 54, not only the X-ray irradiation area is limited by this size, but also it is difficult to extract X-rays from a large area. It is necessary to provide sufficient mechanical strength due to the pressure difference with the inside of the beam line 52. Therefore, the beryllium window 54 must be formed thickly, and the transmittance of X-rays decreases accordingly.
【0006】一般に、薄膜窓の最大耐圧は、円形窓であ
ればその直径で決定され、長方形窓であれば短径で決定
される。すなわち、10μmより長い波長のX線を外部
に取り出すためには透過率のよいベリリウムでさえ20
μm以下の厚さにする必要があり、この厚さでビームラ
イン52の真空から大気中にX線を取り出す際には、1
気圧以上の圧力差に耐えるために10mm程度の大きさ
でなければならない。Generally, the maximum withstand pressure of a thin film window is determined by its diameter if it is a circular window, and by its short diameter if it is a rectangular window. In other words, in order to extract X-rays with wavelengths longer than 10 μm to the outside, even beryllium with good transmittance requires 20 μm.
The thickness must be less than 1 μm, and when extracting X-rays from the vacuum of the beam line 52 into the atmosphere with this thickness, 1
In order to withstand a pressure difference greater than atmospheric pressure, it must be approximately 10 mm in size.
【0007】そこで、ベリリウム窓を水平方向に長く、
垂直方向に短い長方形窓にし、X線光と共に該ベリリウ
ム窓を上下動させて照射面積を拡大させることが考えら
れている。図6に、従来のベリリウム窓を振動させるX
線照射装置の概念図を示す。図6(A)は全体概念を示
したもので、図5(A)と同一の構成部分には同一の符
号を付して説明を省略する。また、図6(B)はベリリ
ウム窓を示したものである。[0007] Therefore, the beryllium window is made longer in the horizontal direction.
It has been proposed to use a rectangular window that is short in the vertical direction and move the beryllium window up and down together with the X-ray beam to expand the irradiation area. Figure 6 shows the X
A conceptual diagram of the radiation irradiation device is shown. FIG. 6A shows the overall concept, and the same components as those in FIG. Further, FIG. 6(B) shows a beryllium window.
【0008】図6(A),(B)において、X線照射装
置50aはビームライン52の先端部には水平方向に長
く、垂直方向に短い長方形状のベリリウム窓60を設け
、その近傍のビームライン52の一部をベローズ61と
して上下動可能としている。そして、駆動装置62によ
り該ベリリウム窓60を上下方向に振動させるものであ
る。In FIGS. 6A and 6B, the X-ray irradiation device 50a has a rectangular beryllium window 60 that is long in the horizontal direction and short in the vertical direction at the tip of the beam line 52, and the beam in the vicinity is A part of the line 52 is made into a bellows 61 so that it can move up and down. A drive device 62 causes the beryllium window 60 to vibrate in the vertical direction.
【0009】このX線照射装置50aは、水平方向に細
長い又は細長い弓形状X線ビーム57を、反射鏡53及
びベリリウム窓60を同期させて駆動装置56,62に
より振動させることで、試料表面でX線を走査して照射
範囲を長方形状として照射面積を拡大するものである。
すなわち、ベリリウム窓60は細長い長方形状で耐圧の
向上が図られることから、薄くしてX線の透過率の著し
い減少を防止することができる。This X-ray irradiation device 50a vibrates a horizontally elongated or elongated arcuate X-ray beam 57 on the sample surface by synchronizing a reflecting mirror 53 and a beryllium window 60 and vibrating it using drive devices 56 and 62. The irradiation area is expanded by scanning X-rays and making the irradiation range rectangular. That is, since the beryllium window 60 has an elongated rectangular shape and is intended to improve the withstand voltage, it can be made thin to prevent a significant decrease in X-ray transmittance.
【0010】0010
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記ベリリウ
ムで形成されたX線取出し窓60は、細長い長方形状で
あり、X線においても細長い長方形状であることから、
該X線をX線取出し窓60の中心に位置合せが困難であ
るという問題がある。また、反射鏡53及びX線取出し
窓60は一定速度の振動で上下動することから、X線の
スペクトルにより照射の強度分布が不均一になるという
問題がある。However, since the X-ray extraction window 60 made of beryllium has an elongated rectangular shape, and it also has an elongated rectangular shape for X-rays,
There is a problem in that it is difficult to align the X-rays to the center of the X-ray extraction window 60. Further, since the reflecting mirror 53 and the X-ray extraction window 60 move up and down with constant vibration, there is a problem that the intensity distribution of the irradiation becomes non-uniform depending on the spectrum of the X-rays.
【0011】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、X線のX線取出し窓における位置合せを容易に
し、また試料上に所望の照射強度分布を得るX線照射装
置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an X-ray irradiation device that facilitates alignment of X-rays in an X-ray extraction window and provides a desired irradiation intensity distribution on a sample. With the goal.
【0012】0012
【課題を解決するための手段】上記課題は、X線を反射
鏡で反射させ、X線取出し窓を介して試料に照射させる
にあたり、該反射鏡及びX線取出し窓を同期駆動させる
第1及び第2の駆動部により、該照射X線を広範囲に制
御して露光を行うX線照射装置において、前記X線取出
し窓近傍におけるX線通過位置を該X線強度で検出する
検出部と、該検出部の検出により、該X線を該X線取出
し窓中央に位置させるべく前記反射鏡を駆動する第1の
駆動部、又は該X線取出し窓を駆動する前記第2の駆動
部を制御する制御部と、を有する構成とすることにより
解決される。[Means for Solving the Problems] The above-mentioned object is to provide a first and second reflector for synchronously driving the reflecting mirror and the X-ray extraction window when reflecting X-rays on a reflecting mirror and irradiating the sample through the X-ray extraction window. In an X-ray irradiation apparatus that performs exposure by controlling the irradiated X-rays over a wide range by a second driving section, the detection section detects the X-ray passage position in the vicinity of the X-ray extraction window based on the X-ray intensity; Based on the detection by the detection unit, the first drive unit that drives the reflecting mirror or the second drive unit that drives the X-ray extraction window is controlled to position the X-ray at the center of the X-ray extraction window. This problem is solved by having a configuration including a control section.
【0013】また、前記検出部は、前記X線取出し窓近
傍におけるX線強度を検出すると共に、前記制御部は、
該検出部からのX線強度に応じて前記試料に対し所定の
X線強度とすべく、前記第1の駆動部による前記反射鏡
の角速度をも制御し、前記第2の駆動部による該X線取
出し窓の移動速度をも制御するように構成する。[0013] Further, the detection section detects the X-ray intensity near the X-ray extraction window, and the control section
The first driving section also controls the angular velocity of the reflecting mirror in order to provide a predetermined X-ray intensity for the sample according to the X-ray intensity from the detection section, and the second driving section controls the X-ray intensity. The moving speed of the line extraction window is also controlled.
【0014】[0014]
【作用】上述のように、検出部によりX線取出し窓にお
けるX線通過位置を検出し、制御部によりこの検出に応
じて第1又は第2の駆動部を制御して照射X線をX線取
出し窓の中央に位置させる。すなわち、自動的にX線の
X線取出し窓における位置合せを行うことが可能となる
。[Operation] As described above, the detection section detects the X-ray passing position in the X-ray extraction window, and the control section controls the first or second drive section according to this detection to transmit the irradiated X-rays. Position it in the center of the extraction window. That is, it becomes possible to automatically align the X-rays in the X-ray extraction window.
【0015】また、検出部においてX線強度をも検出す
ることでX線スペクトルによる強度分布が得られ、これ
に応じて、反射鏡の角速度、X線取出し窓の移動速度を
制御すべく、制御部が第1と第2の駆動部を制御する。
これにより、材料上で均一化された又は任意の分布の照
射光量を得ることが可能となる。[0015] Furthermore, by detecting the X-ray intensity in the detection section, the intensity distribution according to the X-ray spectrum can be obtained, and accordingly, control is performed to control the angular velocity of the reflecting mirror and the moving speed of the X-ray extraction window. A section controls the first and second drive sections. This makes it possible to obtain a uniform or arbitrary distribution of irradiation light amount on the material.
【0016】[0016]
【実施例】図1に、本発明の第1の実施例の構成図を示
す。図1(A)は本発明のX線照射装置の全体概念を示
したもので、図1(B)は検出部を示したものである。
図1(A),(B)において、X線照射装置1は、電子
蓄積リング2及びビームライン3が一体的に形成され、
ビームライン3の略中央部に平面又はトロイダルの反射
鏡4が設けられる。この反射鏡4は第1の駆動部5によ
り所定の角速度で振動する。Embodiment FIG. 1 shows a configuration diagram of a first embodiment of the present invention. FIG. 1(A) shows the overall concept of the X-ray irradiation device of the present invention, and FIG. 1(B) shows the detection section. In FIGS. 1A and 1B, an X-ray irradiation device 1 includes an electron storage ring 2 and a beam line 3 integrally formed,
A planar or toroidal reflecting mirror 4 is provided approximately at the center of the beam line 3 . This reflecting mirror 4 is vibrated at a predetermined angular velocity by a first driving section 5.
【0017】また、ビームライン3の先端には、X線取
出し窓であるベリリウム窓6が設けられたフランジ7が
取付けられる。このフランジ7のビームライン3側には
、X線の検出部である検出器8a〜8fがベリリウム窓
6の形状に沿って配設される。なお、9はフランジ7の
ビームライン3への取付け孔である。Furthermore, a flange 7 provided with a beryllium window 6 serving as an X-ray extraction window is attached to the tip of the beam line 3. On the beam line 3 side of the flange 7, detectors 8a to 8f, which are X-ray detection sections, are arranged along the shape of the beryllium window 6. Note that 9 is a hole for attaching the flange 7 to the beam line 3.
【0018】一方、ビームライン3のベリリウム窓6近
傍をベローズ10に形成し、第2の駆動部11により該
ベリリウム窓を有する先端部が上下動される。また、フ
ランジ7に取付けられた検出器8a〜8fからのX線強
度に対応した出力が、制御部12に送られる。これに応
じて制御部12が第2の駆動回路13を制御して第2の
駆動部11を駆動する。On the other hand, a bellows 10 is formed in the vicinity of the beryllium window 6 of the beam line 3, and the tip portion having the beryllium window is moved up and down by the second driving section 11. Furthermore, outputs corresponding to the X-ray intensity from the detectors 8 a to 8 f attached to the flange 7 are sent to the control section 12 . In response to this, the control section 12 controls the second drive circuit 13 to drive the second drive section 11 .
【0019】なお、図示しないが電子蓄積リング2及び
ビームライン3内は真空ポンプ等により、例えば10−
9〜10−10 Torrに減圧される。Although not shown, the inside of the electron storage ring 2 and beam line 3 is heated by a vacuum pump or the like, for example, 10-
The pressure is reduced to 9-10-10 Torr.
【0020】このようなX線照射装置1は、電子蓄積リ
ング2より放射されたX線14が反射鏡4で反射してベ
リリウム窓6を通過する際、検出器8a〜8fにより該
X線14がベリリウム窓6のどの位置を通過しているか
を検出する。この検出器8a〜8fからの出力信号が制
御部12に送られ、制御部12において位置判定を行う
。そして、制御部12が第2の駆動回路13を介して第
2の駆動部11を駆動し、X線14がベリリウム窓6の
中央に位置するように制御するものである。すなわち、
位置合せのための自動追従を行いつつ、第1及び第2の
駆動部5,11を同期させて振動させることにより、試
料上で長方形状にX線14を照射することができる。こ
のように、X線のベリリウム窓6における位置合せを容
易に行うことができるものである。In the X-ray irradiation device 1, when the X-rays 14 emitted from the electron storage ring 2 are reflected by the reflecting mirror 4 and pass through the beryllium window 6, the X-rays 14 are detected by the detectors 8a to 8f. It is detected which position of the beryllium window 6 is passing through. Output signals from the detectors 8a to 8f are sent to the control unit 12, and the position is determined in the control unit 12. Then, the control section 12 drives the second drive section 11 via the second drive circuit 13 to control the X-ray 14 to be located at the center of the beryllium window 6. That is,
By synchronizing and vibrating the first and second drive units 5 and 11 while performing automatic tracking for alignment, it is possible to irradiate the sample with X-rays 14 in a rectangular shape. In this manner, alignment of the X-rays in the beryllium window 6 can be easily performed.
【0021】なお、上述の実施例ではベリリウム窓6を
移動させてX線のベリリウム窓6における位置合せを行
う場合を示しているが、図1(A)破線に示すように第
1の駆動回路15、第1の駆動部5を介して反射鏡4の
角度を制御しても同様である。また、検出器8a〜8f
をベリリウム窓6の真空側に設けた場合を示しているが
、ベリリウム窓6の外側(大気側)に設けてもよい。In the above embodiment, the beryllium window 6 is moved to align the X-rays in the beryllium window 6, but as shown by the broken line in FIG. 1(A), the first drive circuit 15. The same effect can be obtained even if the angle of the reflecting mirror 4 is controlled via the first driving section 5. In addition, the detectors 8a to 8f
Although shown is a case in which it is provided on the vacuum side of the beryllium window 6, it may also be provided on the outside of the beryllium window 6 (atmospheric side).
【0022】ここで、図2に、本発明の検出部を説明す
るための図を示す。図2は、照射光を弓形のX線14a
とした場合を示しており、この弓形のX線14の強度を
検出器8b,8d,8fがほぼ同程度に検出し、検出器
8a,8c,8eでは検出しないようにベリリウム窓6
の位置を自動調整して位置合せを行うものである。FIG. 2 shows a diagram for explaining the detection section of the present invention. In FIG. 2, the irradiation light is an arcuate X-ray 14a.
Detectors 8b, 8d, and 8f detect the intensity of the arcuate X-ray 14 to the same degree, and the beryllium window 6 is arranged so that the intensity of the arcuate X-ray 14 is not detected by detectors 8a, 8c, and 8e.
The alignment is performed by automatically adjusting the position of the image.
【0023】次に、図3に、本発明の第2の実施例の概
念図を示す。なお、図1と同一部分に同一の符号を付し
、説明を省略する。図3のX線照射装置1は、制御部1
2が照射量制御回路16、第1の駆動回路15を介して
第1の駆動部5を駆動し、反射鏡4の回転角速度を制御
するものである。この場合、検出器8a〜8fは、X線
強度を検出することにより、ベリリウム窓6のX線通過
位置及び試料への照射強度を制御部12において判定す
る。制御部12は、X線強度に応じて試料へのX線の照
射量を設定し、照射量制御回路16で設定に応じた反射
鏡4の回転角速度とすべく第1の駆動回路15、第1の
駆動部5を介して反射鏡4を回転させる。また、制御部
12は検出器8a〜8fによるX線強度に応じて、ベリ
リウム窓6の移動速度を第2の駆動回路13、第2の駆
動部11により制御する。Next, FIG. 3 shows a conceptual diagram of a second embodiment of the present invention. Note that the same parts as in FIG. The X-ray irradiation device 1 in FIG.
2 drives the first drive unit 5 via the irradiation amount control circuit 16 and the first drive circuit 15 to control the rotational angular velocity of the reflecting mirror 4. In this case, the detectors 8a to 8f determine the X-ray passing position of the beryllium window 6 and the irradiation intensity to the sample in the control unit 12 by detecting the X-ray intensity. The control unit 12 sets the amount of X-ray irradiation to the sample according to the X-ray intensity, and controls the first driving circuit 15 and the second The reflecting mirror 4 is rotated via the drive unit 5 of No. 1. Further, the control section 12 controls the moving speed of the beryllium window 6 by the second drive circuit 13 and the second drive section 11 according to the X-ray intensity from the detectors 8a to 8f.
【0024】すなわち、X線14のベリリウム窓6にお
ける位置合せを行いつつ、反射鏡4の回転角速度及びベ
リリウム窓6の移動速度を制御するものである。これは
、X線14を反射鏡4で反射させると、反射鏡4の入射
角によって反射強度及び反射X線のスペクトルが変化す
ることから、反射X線を等速度で試料に照射すると、照
射位置によって照射X線の強度、スペクトルが変化する
ためである。従って、反射鏡4の回転を制御し、ベリリ
ウム窓6の移動速度を制御することによって、試料表面
上のX線照射量を一定にすることができると共に、任意
の照射量とすることができる。これにより、試料表面上
で所望の照射量を得ることができる。That is, the rotational angular velocity of the reflecting mirror 4 and the moving speed of the beryllium window 6 are controlled while aligning the X-rays 14 in the beryllium window 6. This is because when the X-rays 14 are reflected by the reflecting mirror 4, the reflected intensity and the spectrum of the reflected X-rays change depending on the incident angle of the reflecting mirror 4. Therefore, if the reflected This is because the intensity and spectrum of the irradiated X-rays change depending on the temperature. Therefore, by controlling the rotation of the reflecting mirror 4 and controlling the moving speed of the beryllium window 6, the amount of X-ray irradiation on the sample surface can be made constant and can be set to an arbitrary amount. Thereby, a desired amount of irradiation can be obtained on the sample surface.
【0025】次に、図4に、本発明の他の実施例の一部
概念図を示す。図4は、検出器8a〜8fをベリリウム
窓6とは別個に検出組立体17としてビームライン3の
先端に取付け、該検出組立体17にベリリウム窓6を有
するフランジ7を取付けるものである。これにより、検
出器8a〜8fをそのままに、ベリリウム窓6のみを容
易に交換することができる。Next, FIG. 4 shows a partial conceptual diagram of another embodiment of the present invention. In FIG. 4, the detectors 8a to 8f are attached to the tip of the beam line 3 as a detection assembly 17 separately from the beryllium window 6, and the flange 7 having the beryllium window 6 is attached to the detection assembly 17. Thereby, only the beryllium window 6 can be easily replaced while leaving the detectors 8a to 8f as they are.
【0026】なお、上記実施例では検出部しとて6個の
検出器を設けた場合を示したが、必ずしも6個に限られ
るものでなく、数を増加させれば、その分検出精度が向
上するものである。Although the above embodiment shows the case where six detectors are provided as the detection section, the number is not necessarily limited to six, and if the number is increased, the detection accuracy will increase accordingly. It will improve.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、X線の強
度、通過位置をX線取出し窓近傍で検出部により検出し
、これに応じて該X線取出し窓等を制御部で移動制御さ
せることにより、X線のX線取出し窓における位置合せ
を容易に行うことができる。また、X線強度に応じて反
射鏡の回転角速度を制御し、X線取出し窓の移動速度を
制御することにより、試料へのX線の照射量を均一にし
、又は任意の分布で照射することができる。As described above, according to the present invention, the intensity and passing position of X-rays are detected by the detection unit near the X-ray extraction window, and the X-ray extraction window, etc. is moved by the control unit accordingly. By controlling the X-rays, it is possible to easily align the X-rays at the X-ray extraction window. In addition, by controlling the rotational angular velocity of the reflecting mirror and the moving speed of the X-ray extraction window according to the X-ray intensity, it is possible to make the amount of X-ray irradiation on the sample uniform or to irradiate it with an arbitrary distribution. Can be done.
【図1】本発明の第1の実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の検出部を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a detection section of the present invention.
【図3】本発明の第2の実施例の概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram of a second embodiment of the present invention.
【図4】本発明の他の実施例の一部概念図である。FIG. 4 is a partial conceptual diagram of another embodiment of the present invention.
【図5】従来のX線照射装置の概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram of a conventional X-ray irradiation device.
【図6】従来のベリリウム窓を振動させるX線照射装置
の概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram of a conventional X-ray irradiation device that vibrates a beryllium window.
1 X線照射装置 2 電子蓄積リング 3 ビームライン 4 反射鏡 5 第1の駆動部 6 ベリリウム窓 8a〜8f 検出器 10 ベローズ 11 第2の駆動部 12 制御部 1. X-ray irradiation device 2 Electron storage ring 3 Beam line 4 Reflector 5 First drive section 6 Beryllium window 8a-8f Detector 10 Bellows 11 Second drive section 12 Control section
Claims (2)
せ、X線取出し窓(6)を介して試料に照射させるにあ
たり、該反射鏡(4)及びX線取出し窓(6)を同期駆
動させる第1及び第2の駆動部(5,11)により、該
照射X線を広範囲に制御して露光を行うX線照射装置に
おいて、前記X線取出し窓(6)近傍におけるX線通過
位置を該X線強度で検出する検出部(8a〜8f)と、
該検出部(8a〜8f)の検出により、該X線(14)
を該X線取出し窓(6)中央に位置させるべく前記反射
鏡(4)を駆動する第1の駆動部(5)、又は該X線取
出し窓(6)を駆動する前記第2の駆動部(11)を制
御する制御部(12)と、を有することを特徴とするX
線照射装置。Claim 1: When the X-rays (14) are reflected by the reflecting mirror (4) and irradiated onto the sample through the X-ray extracting window (6), the reflecting mirror (4) and the X-ray extracting window (6) In an X-ray irradiation device that performs exposure by controlling the irradiated X-rays over a wide range by first and second drive units (5, 11) that synchronously drive the X-rays near the X-ray extraction window (6), a detection unit (8a to 8f) that detects the passing position using the X-ray intensity;
By the detection of the detection unit (8a to 8f), the X-ray (14)
a first drive unit (5) that drives the reflecting mirror (4) to position the reflector (4) at the center of the X-ray extraction window (6), or a second drive unit that drives the X-ray extraction window (6). (11) A control unit (12) that controls the
Line irradiation device.
線取出し窓(6)近傍におけるX線強度を検出すると共
に、前記制御部(12)は、該検出部(8a〜8f)か
らのX線強度に応じて前記試料に対し所定のX線強度と
すべく、前記第1の駆動部(5)による前記反射鏡(4
)の角速度をも制御し、前記第2の駆動部(11)によ
る該X線取出し窓(6)の移動速度をも制御することを
特徴とする請求項1記載のX線照射装置。2. The detection unit (8a to 8f) is configured to detect the
In addition to detecting the X-ray intensity near the radiation extraction window (6), the control section (12) controls the sample to a predetermined X-ray intensity according to the X-ray intensity from the detection section (8a to 8f). In order to
2. The X-ray irradiation apparatus according to claim 1, wherein the angular velocity of the X-ray extraction window (6) by the second drive section (11) is also controlled.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4991991A JPH04285900A (en) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | X-ray irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4991991A JPH04285900A (en) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | X-ray irradiation device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04285900A true JPH04285900A (en) | 1992-10-09 |
Family
ID=12844423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4991991A Withdrawn JPH04285900A (en) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | X-ray irradiation device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04285900A (en) |
-
1991
- 1991-03-14 JP JP4991991A patent/JPH04285900A/en not_active Withdrawn
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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