JPH04288076A - ２−ベンゾチアゾリルテトラゾリウム塩指示薬 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、還元物質、特にニコチ
ンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）の測定に
有用な色原性テトラゾリウム塩指示薬化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】テトラゾリウム塩は、還元物質に応答す
る色原指示試薬として十分公知である。還元に際して、
テトラゾリウム塩はホルマザン染料生成物に変換される
。これらの指示試薬は、種々の広範な分野、特に細胞染
色並びに体液中の分析対象物、たとえば尿、乳汁、血清
、及び血漿の測定にとりわけ適用されてきた医学的診断
の分野における使用が知られている。一般に、体液分析
対象物の測定は、試験される試料中に存在する分析対象
物の量の関数としてＮＡＤＨが形成される、ＮＡＤ−依
存性酵素反応を包含する。その場合、生成したＮＡＤＨ
の量は、適切なテトラゾリウム塩指示試薬をそのホルマ
ザン染料生成物に還元的に変換することによって、測定
し得る。

【０００３】医学診断試験の分野では、テトラゾリウム
塩指示試薬は、種々の異なる種類の製品に有用である。 その中で特定されるものは試薬ストリップである。この
製品は、特定の分析対象物、例えばグルコース又はコレ
ステロールに反応する化学試薬を含浸され、又は別の方
法で混和された紙又はその他の多孔質担体を包含する固
体状態用具である。混和された試薬系は、マトリックス
に塗布される試料中の分析対象物の量の関数として発色
又は変色する色原性指示薬を含有する。その結果生じる
測色反応は肉眼で観察され、定性的又は半定量的に読み
取られる。定量的結果は、適切な計器（反射率メーター
）を用いて、一つ又はそれ以上の特定の波長で、マトリ
ックス表面の反射率を読み取ることにより観察できる。

【０００４】試験試料中に存在し得る主な妨害物質の吸
光度より長い波長で強力な吸光度を有するテトラゾリウ
ム指示試薬を開発する必要性が認識されている。たとえ
ば、ヘモグロビンの色による妨害は、試料が全血である
場合に特に問題である。約６４０ｎｍを超える有意の吸
収を示す指示試薬が、ヘモグロビン妨害を実質的に克服
するために必要である。一般に用いられるテトラゾリウ
ム塩指示試薬は、塩化２−（４−ヨードフェニル）−３
−（４−ニトロフェニル）−５−フェニルテトラゾリウ
ム（ＩＮＴ）、塩化３−（４，５−ジメチルチアゾール
−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウム（Ｍ
ＴＴ）、及び塩化２，２’，５，５’−テトラフェニル
−３，３’−（３，３’−ジメトキシ−４，４’−ビフ
ェニレン）ジテトラゾリウム（ＮＢＴ）である。これら
の化合物は、４６５〜６０５ｎｍの範囲で最大吸収（Ｕ
Ｖｍａｘ）を示す。

【０００５】慣用的に用いられる従来技術のテトラゾリ
ウム塩指示試薬の別の欠点は、それらの測色反応を測定
するために用いられる計測の進展に関する。より小型で
、安価な反射率メーターの開発は、急速に進歩しつつあ
る。このような計量器のより高価な構成分の一つは、光
源、入射光又は反射光の波長を選択又は限定するための
フィルター又はその他の分光要素、及びセンサーから成
る光学系である。光学系要素の機能を削除するか、又は
組み合わせるか、あるいはより安価な要素、たとえば照
明光源にＬＥＤを用いることによって、原価の顕著な節
減を実現することができる。しかしながら、市販のＬＥ
Ｄは、製造のばらつき及び温度依存性により、有意に変
化し得る中心波長を有する光を発する。慣用的に用いら
れるテトラゾリウム塩指示試薬ＩＮＴ、ＭＴＴ、及びＮ
ＢＴは、それらのＵＶｍａｘを超える領域で強く傾斜す
る反射スペクトルを有する。したがって、ＬＥＤの製造
のばらつきを修正するために各計器を個々に検量しなけ
れば、そして温度によるばらつきを修正するためにテス
トランを行わねば、検定結果に大きな誤差が生じ得る。

【０００６】以下は、測色分析における種々のテトラゾ
リウム塩の使用に関して教示している従来の技術の代表
的なものである。Ｔａｎａｋａらの特開昭６１−８４号
（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０４：２０３４６９ｙ）は、
ニッケル（ＩＩ）の存在下における２−（２−ベンゾチ
アゾリル）−３−（カルボキシフェニル）−５−フェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムハロゲン化物の還元によって
得られるホルマザンキレートを用いるグルコースの検出
を記載している。Ｌｉｍｂａｃｈらの西独特許第３，２
４７，８９４号（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０１：１２５
９２９ｖは、グルコース検定におけるＩＮＴの使用に関
する。Ｒｉｔｔｅｒｓｄｏｒｆらの西独特許第２，１４
７，４６６号は、還元物質、たとえば還元糖、アスコル
ビン酸、及びケトステロイドの測定における７種の２−
（２−ベンゾチアゾリル）−３−フェニル−５−（４−
［トリメチルアンモニオ］フェニル）テトラゾリウム塩
の使用を記載している。

【０００７】文献で公知の種々の２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩及び／又はそれらの対応するホルマザンの代
表的なものを以下に示す。Ｓｅｒｅｂｒｙａｋｏｖａら
，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．
１０：１４０３−１４０５（１９７０）は、ベンゾチア
ゾリル−３−フェニル−（メチル）−５−ｐ−ニトロ（
ジメチルアミノ）フェニルホルマザンの合成及び染色特
性を記載している。著者らは、Ｎ−５フェニルのパラ位
置の電子求引性のニトロ基及びＮ−１位置のベンゾチア
ゾリル基がともに深色移動を示すと記載している。 Ｂｅｄｎｙａｇｉｎａ　　ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏ
ｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．２：３４２−３４５（１９
６７）は、１−ベンゾチアゾリル−、及び１−ベンズオ
キサゾリル−３−メチル（又はフェニル）−５−アリー
ルホルマザンの合成を記載している。色の深さと複素環
の塩基度との関係も考察されている。Ｇｕｌｅｍｅｎａ
ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ
．６：７７４−７７７（１９７４）は、ベンゾチアゾリ
ルホルマザンの構造及び特性に及ぼすｏ−ニトロ基の効
果を記載している。イオン化定数ならびにＩＲ及びＵＶ
スペクトルが測定され、構造と関連づけられた。Ｌｉｐ
ｕｎｏｖａら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓ
ｏｅｄｉｎ．４：４９３−４９９（１９７４）は、３−
（メチル，イソプロピル，フェニル）−１−ベンゾチア
ゾリル−５−ニトロフェニルホルマザンの調製及びそれ
らのスペクトル特性を記載している。Ｇｌｕｅｍｉｎａ
ら，Ｚｈ．Ｐｒｉｋｌ．Ｓｐｅｋｔｒｏｓｋ．２２（５
）：９４１−９４３（１９７５）は、１−ベンゾチアゾ
リル−、１−チアゾリル−、及び１−（５−ブロモチア
ゾリル）−３−メチル−５−（ｐ−ニトロフェニル）ホ
ルマザンに関する、溶剤及び温度変化の条件による正及
び負の両方のＵＶ熱変色性の観察を記載している。Ｐｏ
ｎｙａｅｖら，Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ．５５（
１１）：２６１５−２６１７（１９８５）は、光誘導形
態の１−ベンゾチアゾリル−３−メチル−５−フェニル
ホルマザン類似化合物の相互転換の動力学的研究を記載
している。これらの形態はトリフェニルホルマザンより
濃い色になることが示された。Ｌｉｐｕｎｏｖａら，Ｋ
ｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．（１
９７１）８３１−８３５は、１−ベンゾチアゾリルホル
マザンの可視スペクトルに及ぼす５−ナフチル又はｏ−
トリル基の深色効果を比較している。

【０００８】種々の２−ベンゾチアゾリルテトラゾリウ
ム塩及び関連化合物は、米国特許第３，６５５，３８２
号及び第４，２２１，８６４号の記載内容に代表される
ような、写真の分野にも用いられている。

【０００９】本発明は、還元されて、新しい、改良され
た光学的特性を有するホルマザンとなる２−ベンゾチア
ゾリルテトラゾリウム塩を提供する。本発明のこの化合
物は、一般式Ａ：

【００１０】

【化８】

【００１１】（式中、（ｉ）Ｒ１　とＲ２　、又はＲ２
　とＲ３　、又はＲ３　とＲ４　は、一緒になってベン
ゾあるいはシクロヘキシル環を形成し、これらの環は、
非置換であるか又は、アルコキシ、アリールオキシ、ア
ルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、ア
ルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カルバモイル、カ
ルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ
、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアン
モニオもしくはウレイドで置換されており、そのとき、
他は同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２　とＲ３
　が一緒になってベンゾ又はシクロヘキシル環を形成し
、かつＲ１が水素ではないという条件で、水素、アルコ
キシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハ
ロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファ
モイル、トリアルキルアンモニオ又はウレイドであるか
、又は、

【００１２】（ｉｉ）Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　
及びＲ４　のすべてが水素ではないという条件の下で、
Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４　は、同一であっても
異なっていても、水素、アルコキシ、アリールオキシ、
アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、
アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カルバモイル、
カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、スルホ、スルホンア
ミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ又はウ
レイドから選択されており、

【００１３】そのとき、Ｒ５　が以下の：（ａ１　）式
Ｂ：

【００１４】

【化９】

【００１５】（式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−
であり、（ｉ）Ｙ１　はアルコキシ、アリールオキシ、
アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、
アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、
Ｙ２　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カル
ボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スル
ホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ
、又はウレイドであり、Ｙ３はアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
ミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カ
ルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルボキシル
、シアノ、ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スルホ
、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアン
モニオ、又はウレイドであり、Ｙ４　はアルコキシ、ハ
ロ、又は水素であるか、あるいは（ｉｉ）Ｙ２　及びＹ
３　が一緒になってメチレンジオキシ又はイミダゾを形
成し、Ｙ１　及びＹ４　が水素である）、

【００１６】（ｂ１　）２−、３−、又は４−ピリジル
、（ｃ１）２−又は３−チエニル、及び（ｄ１　）２−
又は３−フラニルから選択され、そしてＲ６　が以下の
：（ａ２　）式Ｃ：

【００１７】

【化１０】

【００１８】（式中、Ｙ５　はアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
ミド、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニト
ロ、又はウレイドであり、Ｙ６　はアルコキシ、アリー
ルオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリー
ルアミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル
、カルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水
素、ニトロ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル
、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ７
　はアルコキシ、アリールオキシ、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシル、シア
ノ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スル
ホ、スルホンアミド、スルファモイル、又はウレイドで
あり、Ｙ８　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル
、ハロ、水素又はニトロである）、 （ｂ２　）式Ｄ：

【００１９】

【化１１】

【００２０】（式中、Ｙ９　はアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
ミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カ
ルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、
ニトロ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、ト
リアルキルアンモニオ、又はウレイドである）、

【００
２１】（ｃ２　）２−、４−、６−、又は８−キノリル
、あるいは２−メチルキノリル、及び

【００２２】（ｄ
２　）アントラニルから選択され、Ｘが対イオンである
化合物である。

【００２３】本発明の化合物は、６００ｎｍ以上、好ま
しくは約６５０ｎｍ以上のところに広いプラトーを示す
反射率スペクトルによって特徴づけられる。この反射率
プラトーは反射率読み取り試薬片による分析試験におい
て、特に光学的測定系が異なる中央波長を有する場合に
その改良をもたらす。

【００２４】

【好ましい態様の説明】以下の定義が対象の開示に適用
される： ”Ｃ１−４　”　　−　　残基を、たとえば炭素原子を
含めた適切な１〜４個の原子を含有する形態に限定する
ために用いられる。たとえばＣ１−４アルキル。 ”アルキル”　　−　　一般式Ｃｎ　Ｈ２ｎ＋１の直鎖
及び分枝鎖炭化水素残基、好ましくは”低級アルキル”
、たとえばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、及びｔｅｒｔ−ブチルの
Ｃ１−４　アルキル、ならびに高級アルキル、たとえば
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等。 ”アルコキシ”　　−　　残基−ＯＲ（式中、Ｒはアル
キルである）。 ”アルキルアミド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ
’（式中、Ｒ及びＲ’は、同一であっても異なってもよ
く、アルキルである）。 ”アルキルチオ”　　−　　残基−ＳＲ（式中、Ｒはア
ルキルである）。 ”アミド”　　−　　残基−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｈ。 ”アミノ”　　−　　残基−ＮＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ
’は同一であっても異なってもよく、水素又はアルキル
である）。 ”アリール”　　−　　芳香族炭素環式又は複素環式環
又は環系からこのような環又は環系に結合する水素原子
を除去することにより誘導される有機残基、たとえばフ
ェニル、ナフチル、ピリジル、オキサゾリル、キノリル
、チアゾリル、チエニル、フラニルなど。 ”アリールアミド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ
’（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく
、アリールである）。 ”アリールオキシ”　　−　　残基−ＯＲ（式中、Ｒは
アリールである）。 ”アリールチオ”　　−　　残基−ＳＲ（式中、Ｒはア
リールである）。 ”カルボアルコキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（式中、
Ｒはアルキルである）。 ”カルバボアリールオキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（
式中、Ｒはアリールである）。 ”カルバモイル”　　−　　残基−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＲ’
（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、
水素又はアルキルである）。 ”カルボキシル”　　−　　残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ。 ”ハロ”　　−　　フルオロ、クロロ、及びブロモ。 ”イミダゾ”　　−　　二価残基−Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ−。 ”メチレンジオキシ”　　−　　式−Ｏ−ＣＨ２　−Ｏ
−の二価残基。 ”フェニルアゾ”　　−　　残基−Ｎ＝Ｎ−フェニル。 ”スチリル”　　−　　残基−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ（式中、
Ｒはアリールである）。 ”スルホ”　　−　　残基−ＳＯ３　。 ”スルファミド”　　−　　残基−ＮＲＳＯ２　Ｒ’（
式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、ア
ルキル、アリール、又は水素である）。 ”スルファモイル”　　−　　残基−ＳＯ２　ＮＲＲ’
（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、
アルキル、アリール、又は水素である）。 ”トリアルキルアンモニオ”　　−　　残基−ＮＲ３＋
（式中、Ｒはアルキルである）。 ”ウレイド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）ＮＲ’（
式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、ア
ルキル、アリール、又は水素である）。

【００２５】特に別記しない限り、置換されることもあ
る残基、例えばアルキル、アリール、フェニルアゾ、及
びスチリルの場合における上記の用語の使用は、このよ
うな残基の合理的に置換された形態、ならびにそれらの
非置換形態を包含するように意図されると理解されるべ
きである。本発明の有用な化合物を生成する合理的な置
換は、当業者には明らかであって、いくつか名前を挙げ
ると、アルコキシ、アミノ、アルキルチオ、カルボアル
コキシ、カルボキシ、ヒドロキシ、スルホ、及びスルフ
ァモイルといった置換基を含むが、これらに限定される
ものではない。

【００２６】好ましいＲ１　、Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４
　残基ベンゾチアゾール基は、多く置換されることがで
きるが、実際には、通常、Ｒ１　−Ｒ４　残基のうち１
個又は２個が、水素以外のものであるか、あるいは２つ
の残基が、上述したように、組み合わされてベンゾ又は
シクロヘキシル環を形成する。さらに、合成及びホルマ
ザンの吸収スペクトル特性の観点から、特に好ましい化
合物は、（１）Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４　がすべて水素
であり、Ｒ１　がアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
ル、カルバモイル、カルボアルコキシ又はカルボキシル
であるか、（２）Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ４　がすべて水
素であり、Ｒ３　がアルコキシ、アリールオキシ、アル
キル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アル
キルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコ
キシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホン
アミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ又は
ウレイドであるか、（３）Ｒ１　が水素であって、Ｒ２
　、Ｒ３　及びＲ４　が独立してアルコキシ、アリール
オキシ又はアルキルであるか、（４）Ｒ２　及びＲ４　
がともに水素であり、Ｒ１　がアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、カルバモイル、カルボアルコキシ又は
カルボキシであり、Ｒ３　がアルコキシ、アリールオキ
シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
ボアルコキシあるいはシアノ、ハロ、ヒドロキシル、ス
ルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキル
アンモニオ又はウレイドであるか、（５）Ｒ１　及びＲ
２　が一緒になってベンゾ環を形成し、Ｒ３　はアルコ
キシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシ、シアノ
、ハロ、水素又はウレイドであり、Ｒ４　は水素である
か、（６）Ｒ３　及びＲ４　が一緒になってベンゾ環を
形成し、Ｒ１　及びＲ２　がともに水素であるか、又は
（７）Ｒ２　及びＲ３　が一緒になってシクロヘキシル
環を形成し、Ｒ１　がアルキル、アルコキシ、ハロ又は
水素であり、Ｒ４　は水素であるものである。

【００２７】製造された化合物の特性及びその合成に基
づき、最も好ましい化合物は、（ｉ）Ｒ１　、Ｒ２　及
びＲ４　が水素であり、Ｒ３　がＣ１−４　アルコキシ
（特に好ましい）、Ｃ１−４　アルキル、カルボキシ又
はハロであるか、（ｉｉ）Ｒ１　及びＲ２　が一緒にな
ってベンゾ環を形成し、Ｒ３は水素又はＣ１−４アルコ
キシであり、Ｒ４　は水素であるものである。

【００２８】好ましいＲ５　及びＲ６　残基ホルマゾン
の合成及び反射率スペクトルの特性の観点から、Ｒ５　
は好ましくは： （ａ１　）式Ｅ：

【００２９】

【化１２】

【００３０】（式中、（ｉ）Ｙ２　、Ｙ３　及びＹ４　
は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、（ｉｉ）Ｙ４　が
水素であり、Ｙ２　及びＹ３　がいずれもＣ１−４　ア
ルコキシであるか、又は一緒になってメチレンジオキシ
を形成し、あるいは（ｉｉｉ）Ｙ２　及びＹ４　がいず
れも水素であり、Ｙ３　がＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１
−４　アルキル、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４
　アルキルチオ、カルバモイル、カルボ（Ｃ１−４　）
アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニト
ロ、トリ（Ｃ１−４　）アルキルアンモニオ、又はウレ
イドである）の残基、及び（ｂ１　）２−又は３−チエ
ニルから選択されるものである。

【００３１】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ５　が以下の：３，４，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４−メチレンジ
オキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−アセトア
ミドフェニル、４−メチルチオフェニル、４−フェニル
、４−ハロフェニル、４−シアノフェニル、４−ニトロ
フェニル、２−チエニル、及び３−チエニルから選択さ
れるのが最も好ましい。

【００３２】最も好ましいＲ６　残基は、：（ａ２　）
上記の式Ｃ （式中、（ｉ）Ｙ５　は水素であり、Ｙ６　、Ｙ７　、
及びＹ８　は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、（ｉｉ
）Ｙ５　及びＹ８　はともに水素であり、Ｙ６　及びＹ
７　はともにＣ１−４　アルコキシであるか又は一緒に
なってメチレンジオキシを形成し、（ｉｉｉ）Ｙ５　、
Ｙ６　及びＹ８　は各々水素であり、Ｙ７　はＣ１−４
　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　
アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（
Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ヒド
ロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホンア
ミド、スルファモイル、又はウレイドであり、（ｉｖ）
Ｙ５　はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ６　及びＹ
８　はいずれも水素であり、Ｙ７　はＣ１−４　アルコ
キシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキル
チオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（Ｃ１−４
　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ニトロ
、フェニルアゾ、又はウレイドであり、（ｖ）Ｙ５　及
びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、あるいは（ｖ
ｉ）Ｙ５　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、
Ｙ７　はＣ１−４　アルキルアミド又はベンズアミドで
ある）の残基、及び（ｂ２　）上記の式Ｄ（式中、Ｙ９
　はＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキル、Ｃ１
−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキルチオ、ベン
ズアミド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スル
ホンアミド、又はウレイドである）の残基、及び（ｃ２
　）８−キノリルである。

【００３３】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ６　が以下の：３，４，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、２，４−ジメトキシ
フェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−メ
トキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、４−メチ
ルチオフェニル、４−カルボキシフェニル、４−ニトロ
フェニル、２−メトキシフェニル、２−メトキシ−４−
カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、２
，５−ジメトキシフェニル−４−ベンズアミドフェニル
、１−ナフチル、４−ニトロ−１−ナフチル、４−メト
キシ−１−ナフチル、８−キノリル、２−メチル−４−
カルボキシフェニル、４−カルボメトキシフェニル、４
−シアノフェニル、及び４−シアノ−１−ナフチルから
選択されるのが最も好ましい。

【００３４】対陰イオン 対陰イオンの選択は、主として特定のテトラゾリウム塩
の安定性及び溶解性の考察に基づく。概して、塩化物、
臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、フルオロホウ酸塩、過塩素
酸塩、及び硫酸塩などの無機陰イオン；ならびに酢酸塩
、シュウ酸塩、酒石酸塩、及びアリールスルホン酸塩（
ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩）な
どの有機陰イオンのような対陰イオンから選択される。

【００３５】合成方法 テトラゾリウム塩は、文献で十分公知の方法によって合
成される（Ｈｏｏｐｅｒ，Ｗ．Ｄ．，Ｒｅｖ．Ｐｕｒｅ
　　ａｎｄ　　Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，１９６９，１９
，２２１；Ｐｕｔｔｅｒ，Ｒ．，ｉｎ　　Ｍｅｔｈｏｄ
ｅｎ　　ｄｅｒ　　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅ
ｍｉｅ，Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ−Ｍｕｌｌｅｒ　　編
，Ｔｈｉｅｍｅ　　Ｖｅｒｌａｇ：Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ
，１９６５，Ｂｄ．１０／３，ｐ．６３３；Ｎｉｎｅｈ
ａｍ，Ａ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９５５，ｐｐ．
３５５−４８３）。一般に、本発明のテトラゾリウム塩
は、まず２−ヒドラジノチアゾールをアルデヒドと反応
させ、次にその結果生じたヒドラゾンをジアゾ化アニリ
ンで処理して合成する。その結果生じたホルマザンを、
次に十分公知の方法によって酸化して、テトラゾリウム
塩にする。その結果として、合成は３つの主な出発原料
、すなわちアルデヒド、アニリン、及び２−ヒドラジノ
チアゾールを包含する。

【００３６】

【化１３】

【００３７】２−ヒドラジノチアゾールの製造好適に置
換された２−ヒドラジノベンゾチアゾールの製造は、１
−ハロ−２−ニトロアレン（１）から、最初に、ハライ
ドをチオシアン酸塩と置き換えてニトロチオシアン酸塩
（２）を生成する。これを、次いでスズのような還元剤
を用いて還元し、得られたアミノチオシアン酸塩（３）
を環化して２−アミノベンゾチアゾール（４）とする。

【００３８】

【化１４】

【００３９】アミンをチオシアノゲンで処理することに
よっても、同じアミノチオシアン酸塩（３）を合成し得
る（Ｍｅｔｚｇｅｒ，Ｊ．Ｖ．，　　Ｃｏｍｐｒｅｈｅ
ｎｓｉｖｅ　　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　　Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ，Ｃ．Ｗ．Ｒ
ｅｅｓ　　編；Ｐｅｒａｇａｍｏｎ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒ
ｋ，１９８４；Ｖｏｌ．６，Ｐａｒｔ　　４ｂ，ｐ．３
２４）。

【００４０】

【化１５】

【００４１】次に、１４０℃でエチレングリコール中で
ヒドラジンを２−アミノベンゾチアゾール（４）と反応
させて、２−ヒドラジノベンゾチアゾール（５）を合成
する（Ｌｉｕ，Ｋ−Ｃ．，Ｓｈｉｈ，Ｂ−Ｊ．，Ａｒｃ
ｈ．Ｐｈａｒｍ．，１９８５，１８，２８３）。

【００４２】

【化１６】

【００４３】２−アミノベンゾチアゾール（４）のその
他の合成方法は、芳香族アミン（６）を無機酸及びチオ
シアン酸塩と反応させてチオウレア（８）を生成する（
Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ，１８
０）か、又は芳香族アミンをＮ−ベンゾイルチオシアン
酸塩と反応させてＮ−ベンゾイルチオウレア（７）を形
成し、次いでベンゾイル基を加水分解してチオウレアを
生成する（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．
ＩＩＩ，６３５）。これらの文献には、チオウレアのそ
の他の合成方法も見出される。次に、これらのチオウレ
アを臭素のような試薬で酸化して、２−アミノベンゾチ
アゾールを生成する（Ｂｈａｒｇａｖｅ，Ｐ．Ｎ．Ｂａ
ｌｉｇａ　　Ｂ．Ｔ．，Ｊ．Ｉｎｄ．Ｃｈｅｍ．，１９
５８，５，８０７）。

【００４４】

【化１７】

【００４５】アルデヒドの合成 アルデヒドは、市販品を購入するか、あるいは当業者に
よく知られた方法で合成することもできる。

【００４６】たとえば、アリールメタンのベンジル酸化
（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ　　Ｏｒｇａｎ
ｉｃ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　Ｔｈｉｒｄ　　Ｅｄｉ
ｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏ
ｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐ．１０７９）
、アリール酸塩化物（同書　　ｐ．３９６）、又はアリ
ール酸誘導体の還元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｒ．Ｃ．，Ｃｏｍ
ｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　　ＯｒｇａｎｉｃＴｒａｎｓｆ
ｏｒｍａｔｉｏｎｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１
９８９；ｐｐ．６０４−６０５）により、アルデヒドを
合成する。

【００４７】アルデヒドを合成するために、アリールハ
ロゲン化物を用いてもよい。この方法では、金属転位反
応は、アルデヒドを生成するために、種々の試薬、例え
ばジメチルホルムアミドで処理できるアリール金属種を
生じる（同書　　ｐ．６８１−６８３）。

【００４８】前述のアリールアルデヒド、酸、メタン、
及びハロゲン化合物は、テトラゾリウム塩に転換される
前に種々の官能基で誘導される。これは、芳香族求核性
置換（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ　　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　　ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＴｈｉｒｄ　　Ｅｄｉ
ｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏ
ｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐｐ．５７６−
６０７）、芳香族求電子性置換（同書　　ｐｐ．４４７
−５１１）、又はヘテロ原子向性金属化反応（Ｇｓｃｈ
ｗｅｎｄ，Ｈ．Ｗ．，Ｒｏｄｒｉｇｕｅｚ，Ｈ，Ｒ．，
　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，Ｊｏｈｎ
　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙ
ｏｒｋ，１９７９；Ｖｏｌ．２６，１）によって達成さ
れる。

【００４９】テトラゾリウム塩のアルデヒド部分がフェ
ノール又はアミンを含有する場合は、この基は、これら
とテトラゾリウム塩を合成するために用いられるジアゾ
化アニリン又は酸化剤との間の反応が起きないよう、保
護されねばならない。

【００５０】これは、酢酸塩としてヒドロキシアリール
アルデヒドを保護し、ホルマザンを生成するための一連
の反応を実施し、ついでｐＨ１０で酢酸塩を加水分解す
ることによって達成される。ｐＨ５に酸性化し、ついで
濾過すると、所望のホルマザンが生じる。

【００５１】テトラゾリウム塩の合成に際して、その結
果生じたホルマザンを酸化剤と反応させる場合は、フェ
ノールをジヒドロピランのような酸性で不安定な基によ
って保護し（Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．，Ｐｒｏｔｅｃｔ
ｉｖｅ　　Ｇｒｏｕｐｓ　　ｉｎＯｒｇａｎｉｃ　　Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ
　　Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ；１９８１，ｐｐ．
８７−１１３）、これを酸性条件下でテトラゾリウム塩
を攪拌することにより除去する。

【００５２】同様に、アルデヒド部分におけるアミンは
、それらの反応を阻止するために保護されねばならない
。これは、酸性で不安定なカルバミド酸塩を用いること
によって、最もよく成し遂げられ（同書　　ｐｐ．２１
８−２４７）、そのカルバミド酸塩は、酸性条件下でテ
トラゾリウム塩を攪拌することにより、後に除去される
。

【００５３】アリールアミンの合成 アリールアミンは、対応するニトロ又はアジド化合物の
還元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｐ．Ｃ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓ
ｉｖｅ　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔ
ｉｏｎｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８９；ｐ
ｐ．４１２−４１５又は４０９−４１０）、アリール金
属化合物と求電子性窒素試薬間との反応（同書ｐｐ．３
９９−４００）、又はアシルアジド又は酸化アミドの転
位（同書　　ｐｐ．４３１−４３２）により合成する。

【００５４】アルデヒドの場合と同様に、求電子性及び
求核性の芳香族置換を用いて、異なる官能基をアリール
アミン又は合成前駆体に導入することができる。

【００５５】化合物の使用 本発明のテトラゾリウム塩化合物の主な用途は還元性物
質を検出する色原指示薬としてである。特に、本化合物
はＮＡＤＨの検出において有利である。ＮＡＤＨは、色
々な生化学物質に特異的な、酵素触媒検出反応において
生成されるので、本化合物は特に医学診断試験において
有用である。しかし、一般に、たとえば硫化水素ガス、
ジボラン、水素化ヒ素又は水素化リンのような他の還元
性物質も検出される。

【００５６】本化合物は、特に、反射率スペクトルにお
いて、約６００ｎｍを超えるところで広範なプラトーを
示すことが判明した。本発明の最も好ましい指示化合物
は約６５０ｎｍ以上でプラトーを有する（つまり、６４
０と６６０ｎｍの間で約５０ｎｍ巾の最も平坦な部分が
はじまる）。このような反射率のプラトーは、試薬片か
らの反射率を測定することに基づく分析試験の精度を改
良せしめる。

【００５７】試薬ストリップは、当該分析対象物を含有
する液体試験試料と接触させると反応して変色する試験
組成物を包含する固体担体マトリックスからなる分析具
として、当業界で公知である。このような試験組成物は
、本発明の場合、（ａ）分析対象物と反応して還元物質
を生じる単数又は複数の試薬、及び（ｂ）このような還
元物質により還元されて色原性ホルマザン染料物質を生
じ得る、本明細書に記載されているような２−チアゾリ
ルテトラゾリウム塩を包含する。このような試薬ストリ
ップの呈色応答は、肉眼で観察されて半定量的値を示す
が、しかしながら、定量的結果は、あらかじめ確定され
た波長で担体マトリックスの反射率を測定することによ
って得られる。このような測定は、反応した担体マトリ
ックスを光源で照射し、検出器要素で反射光を測定する
ことにより、担体マトリックスの反射率を検知すること
を含む。

【００５８】反射率プラトーを有するテトラゾリウム塩
指示試薬の所見を用いると、その光学系（光源、検出器
要素、スペクトル制御要素、たとえばフィルター、及び
その他の部分の組合）の中心波長のばらつきを受けやす
い計器を用いて試薬ストリップからの反射率を読み取る
場合に、特に有益である。光学系の中心波長のばらつき
は、種々の因子、たとえば主照明光源又はフィルターの
ようなスペクトル制御要素の中心波長のばらつきによっ
て引き起こされる。たとえば、光源として発光ダイオー
ド（ＬＥＤ）を用いると、放射される光の波長は、一般
にひとつの計器内では±４ｎｍ変化し、製造のばらつき
のために、異なる計器のＬＥＤ間では±８ｎｍまで変化
する。さらに、ＬＥＤは温度効果によっても、同様に中
心波長の変化を受けやすい。広帯光源をフィルターとと
もに用いて中心波長のスペクトル制御を提供する場合、
ひとつの計器内のばらつきは一般に１ｎｍ以下であるが
、しかしながら計器間では、ばらつきは±６ｎｍという
高さである。したがって、本発明は、計器中の検出要素
に反応する光の中心波長が約±５ｎｍの範囲のばらつき
を受ける場合に適用可能である。

【００５９】本発明に用いるための試薬ストリップを製
造する場合、担体マトリックスの選択、分析対象物と反
応して還元物質を生じる試験試薬、及びこのような試薬
及びテトラゾリウム指示試薬が担体マトリックスに包含
される方法は、試薬ストリップの当業界には十分公知で
ある。ちょうど２〜３の実施例を詳述するために、一般
的担体マトリックスは多孔性かつ吸収性の紙、布、ガラ
ス繊維フィルター、重合性膜及びフィルム等である。組
込み方法には、１つ又はそれ以上の工程での、溶液、懸
濁液、又はその他の液体形態の試験組成物による形成さ
れた担体マトリックスの含浸、その後のマトリックスの
乾燥；たとえば、フィルム又は膜形成処方物の溶液の注
ぎ込み又は層形成による、試験組成物の１つ又はそれ以
上の成分の存在下でのマトリックスの形成が含まれる。

【００６０】

【実施例】以下の実施例で本発明をさらに説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００６１】Ａ．化合物合成 ヒドラゾンの合成 １２５ｍｌの無水エタノール中の２５ｍｍｏｌの適切な
アルデヒド及び２５ｍｍｏｌの適切なヒドラジンのスラ
リーを、３時間還流した。ソックレー抽出器中で、モレ
キュラーシーブ３Ａを用いて水を除去した。混合液を室
温に冷却し、次いで濾過して、ヒドラゾンを生成した。

【００６２】ホルマザンの合成 ６０ｍｌの３Ｎ　　ＨＣｌ中の８．５ｍｍｏｌのアミン
のスラリー又は溶液を５℃に冷却することにより、まず
ジアゾニウム塩を合成した。次に、５ｍｌの水に溶解し
た亜硝酸ナトリウム（０．７０ｇ、１０．１５ｍｍｏｌ
）を滴下した。３０分攪拌後、混合液を、１２０ｍｌの
１：１（容量比）ＤＭＦ−ピリジン混液に溶解した８．
５ｍｍｏｌのヒドラゾンの冷（−２５℃）混合液に滴下
した。 反応は、滴下中は−１５℃より高温にしない。２時間の
攪拌を行いつつ、その混合液を室温まで加温した。濾過
により、黒色固体としてホルマザンを生じた。不純物は
、メタノールで何度も洗浄するか、又はメタノールに溶
解した固体を還流し、熱い間に濾過することにより除去
することができた。

【００６３】テトラゾリウム塩の合成 １．５ｍｍｏｌのホルマザンのスラリーを、２０ｍｌの
酢酸及び４ｍｌの亜硝酸イソアミルとともに１６〜４８
時間攪拌した。次に、その混合液を濾過して、テトラゾ
リウム塩を得た。その塩が沈殿しない場合は、エテール
で希釈すると沈殿を生じた。

【００６４】Ｂ．試薬ストリップの調製各指示試薬を試
薬ストリップに含浸し、既知量のグルコース、コレステ
ロール、又はＮＡＤＨを含有する溶液で試験した。試薬
ストリップは、単一の試薬パッドが付着するポリスチレ
ンハンドルからなる。試薬パッドは０．２ｘ０．２イン
チ四方で、適切な分析対象物を含有する試料のアリコー
トを用いた場合に計器で読み取れる変色をさせる試薬を
含有する。乾相試薬パッドは、実施例のようにセルロー
ス繊維又はナイロン膜から成る固体支持体である。試薬
パッドをまず、メタノールのような溶剤に溶解した当該
テトラゾリウム塩（０．８Ｍ／リットル）及び洗剤（０
．３％）の溶液で含浸した。試薬パッドに含浸される第
二溶液は、以下の成分を含有した：

【００６５】

【表１】

【００６６】０〜３３ｍＭの少なくとも５つの異なる分
析対象物濃度を有する約０．０１ｍｌのいくつかの試験
溶液（血清、血漿、水溶液）を、乾燥試薬パッドの中央
に塗布した。約６０秒の遅滞時間後、各指示試薬の反射
スペクトルを、４００〜１１００ｎｍの波長範囲にわた
って、５ｎｍ増分で測定した。

【００６７】Ｃ．実用性データ 以下は、本発明の種々の合成されたテトラゾリウム塩に
固有のスペクトル及びその他の分析データの表である。 化合物は、それらのベンゾチアゾリル残基の形態により
、ついでそれらのＲ６　置換基により、最後にそれらの
Ｒ５　置換基によって、順にまとめられている。たとえ
ば、示された最初の化合物は、Ａ．１．ａ）であり、Ａ
式［式中、Ｒ１　−Ｒ４は水素（非置換のベンゾチアゾ
リル環を形成している）であり、Ｒ６は４−ニトロフェ
ニルであり、Ｒ５　は４−アセトアミドフェニルである
］を有し；第二の化合物Ａ．１．ｂ）は、化合物Ａ．１
．ａ）と同じベンゾチアゾリル残基及び同じＲ６　置換
基を有するが、しかしＲ５　と同様にフェニルである；
等。

【００６８】テトラゾリウム塩の反射スペクトルは、そ
れらが観察又は測定される周囲の状況によるものと理解
される。個々のテトラゾリウム塩を比較するために、以
下のデータは６００ｎｍより大きい波長での反射スペク
トルの最も平坦な部分の相対的扁平度の測定値を含み、
スペクトルは上記のパートＢに記載されたように調製さ
れたグルコース又はコレステロール試薬ストリップを用
いて発生される。スペクトルの相対的扁平度は、下記の
ように検出された分析対象物のレベルに関して標準化さ
れるＫ／Ｓ単位のデータで表される。

【００６９】Ｋ／Ｓは、式：（１−Ｒ）２　／２Ｒ（式
中、Ｒは計器で読み取る反射率単位である）で定義され
る。Ｋ／Ｓのパーセント変化（パーセンテイジで表され
る）は、５０ｎｍの範囲にわたる変化を、このような範
囲での高及び低Ｋ／Ｓ値の平均で割った値である。

【００７０】本化合物のプラトー特性は、本発明の目的
に関しては、約６００ｎｍを超える波長で始まる３０〜
５０ｎｍ波長スパンにわたる約１７％未満の反射スペク
トルのパーセント変化（上記の段落に記載されているよ
うなＫ／Ｓにより表される）と理解されるべきである。 最も好ましいのは、テトラゾリウム塩指示試薬が５０ｎ
ｍ波長スパンにわたって約５％又はそれ未満のＫ／Ｓの
パーセント変化を示すものである。最も平らな部分が約
６５０ｎｍ以上の波長、好ましくは約６７５ｎｍ以上に
おいて得られる、より傾斜した反射率スペクトルを有す
る化合物が、いずれにせよ好ましい。

【００７１】図面を参照すると、図１〜４は、グルコー
スの種々の濃度で、従来技術のテトラゾリウム塩ＩＮＴ
、ＭＴＴ、ＮＢＴ、及びＵＳＳＲを還元した場合に生じ
るホルマザンの反射スペクトルを示す。比較のために、
図５〜１０は、本発明の選択された化合物に関する対応
スペクトルを示す。本化合物からのホルマザンのスペク
トルにおけるプラトーの存在、及び従来の技術からのホ
ルマザンの場合のその不在は、容易に明らかである。

【００７２】上記の４つの従来技術の化合物は、以下の
ように６５０〜７００ｎｍの波長範囲にわたるＫ／Ｓの
パーセント変化を示す： ＩＮＴ　　　　　　　　　　　　　　７１％ＭＴＴ　　
　　　　　　　　　　１７８％ＮＢＴ　　　　　　　　
　　　　　　７３％ＵＳＳＲ　　　　　　　　　　　　
２８％

【００７３】ホルマザンに関するパーセントＫ／
Ｓが低いほど、テトラゾリウム塩は反射率の測定に、そ
れゆえ分析対象物濃度の測定に用いる光学系の中心波長
のばらつきに、より多く対応できる。

【００７４】以下の非標準的略語を、以後の文中に用い
る： ”ＵＶ”　　−　　ホルマザンのＵＶ反射スペクトルの
最大反射率ピークの波長（ｎｍ）。吸光係数及び測定中
に用いる溶剤は、括弧内に示される。 ”ｎｍ”　　−　　５０ｎｍ波長スパンにわたるホルマ
ザンの反射スペクトルの最も扁平な部分の位置（開始及
び収量波長（ｎｍ）で表される）。 ”Ｋ／Ｓ”　　−　　反射スペクトルの上記の最も平坦
な５０ｎｍ部分のＫ／Ｓにおけるパーセント変化。反射
スペクトルを生じるために用いられる分析対象物の濃度
は、括弧内に示される。Ｍｍｏｌは、ｍｍｏｌ／リット
ルでの濃度を示す。

【００７５】以下は、反射スペクトルが図面の図５〜１
０に示される化合物の一覧である。以下の表中のそれら
の簡略参照番号及び所在は、化合物名の前の大括弧中に
示される。 ［ＭＢＬ１０］［Ａ−２−ｂ］　　２−（ベンゾチアゾ
ール−２−イル）−３−（４−メトキシフェニル）−５
−フェニルテトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ１５］［Ｂ−６−ａ］　　２−（６−エトキシ
ベンゾチアゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）
−５−（４−アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩
［ＬＮＨ８２］［Ｇ−１−ａ］　　２−（ナフト［１，
２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（２−メトキシ
−４−カルボキシフェニル）−５−（３，４−メチレン
ジオキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ５７］［Ｇ−１７−ａ］　　２−（ナフト［１
，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−カルボ
キシフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テ
トラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４２］［Ｇ−２３−ａ］　　２−（ナフト［１
，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−メチル
チオフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テ
トラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４１］［Ｈ−１−ａ］　　２−（８−メトキシ
［１，２−ｄ］ナフトールチアゾール−２−イル）−３
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（４−
メトキシフェニル）テトラゾリウム塩

【００７６】表 Ａ．ベンゾチアゾール−２−イル １．　　Ｒ６　＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４７８ｎ
ｍ（７．８ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６２０−６
７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４１，１６９１，１６８４，１６
１４，１６００，１５３５，１４８６，１４６０，１４
２５，１３８５，１３１８，１２６２，１１８３，９７
９，８５３ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＮＨｚ，ＣＤＣｌ３　）：δ　　８：６
７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，ＡｒＮＯ２　　　Ｈ）
，８．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．３６（
ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ＡｒＨ），８．３７−８．
４１（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ），７．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，ＡｒＨ），７．９６−７．９９（ｍ，１Ｈ
，ベンゾチアゾールＨ），７．６７−７．７８（ｍ，３
Ｈ，ベンゾチアゾールＨ）．質量スペクトル　　ＦＡＢ
　　ｍ／ｅ：１２０（８１．１），１６２（１００） ｂ）Ｒ５　＝フェニル ＵＶ：５４０ｎｍ（４．７９ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｃ）Ｒ５　＝フェニル ＵＶ：５７６ｎｍ（３．８９ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１１
．１ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ５　＝４−ニトロスチリル ＵＶ：５１２ｎｍ（１１．２ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｅ）Ｒ５　＝４−メトキシスチリル ＵＶ：５１４ｎｍ（７．１７ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｆ）Ｒ５　＝４−ニトロフェニル ＵＶ：５４２ｎｍ（２．１ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｇ）Ｒ５　＝４−フェニルフェニル ＵＶ：５５８ｎｍ（１４．１ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｈ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ
：５８４ｎｍ（４．８ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ
：５７０−６２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（９．１ｍｍｏ
ｌ） ｉ）Ｒ５　＝４−フェノキシフェニル ＵＶ：５６４ｎｍ（１０．３ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｊ）Ｒ５　＝２−チエニル ＵＶ：５６６ｎｍ（６．３ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｋ）Ｒ５　＝５−ニトロ−２−チエニルＵＶ：５１４ｎ
ｍ（１５．２ｘ１０３　，ジオキサン）；ｌ）Ｒ５　＝
３，４−ジメトキシフェニルＵＶ：５８８ｎｍ（２．３
ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：６００−６５０ｎｍ
；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１ｍｍｏｌ） ｍ）Ｒ５　＝４−ピリジル ＵＶ：５１６ｎｍ（８．６ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎ）Ｒ５　＝５−ブロモ−２−チエニルＵＶ：５１８ｎ
ｍ（６．１ｘ１０３　，ジオキサン）；ｏ）Ｒ５　＝３
−チエニル ＵＶ：５１２ｎｍ（７．５ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｐ）Ｒ５　＝２−ピリジル ＵＶ：４７８ｎｍ（９．６ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｑ）Ｒ５　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：５４６ｎｍ（２．９６ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｒ）Ｒ５　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５８２ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｓ）Ｒ５　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
５７８ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：
５６０−６１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏ
ｌ） ｔ）Ｒ５　＝４−（メチルチオ）フェニルＵＶ：５７６
ｎｍ（１．５ｘ１０３　，ジオキサン）；ｕ）Ｒ５　＝
１，４−ベンゾジオキシルＵＶ：５８２ｎｍ（４．８ｘ
１０３　，ジオキサン）；

【００７７】２．　　Ｒ６　
＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ５　＝フェニル ＵＶ：４６８ｎｍ（１４．５ｘ１０３　，ジオキサン）
，４７６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（２２ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝アセトアミドフェニル（ＭＢＬ１０）ｎｍ
：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（３３ｍｍｏｌ
）

【００７８】３．　　Ｒ６　＝４−メトキシ−１−ナフ
チルａ）Ｒ５　＝フェニル ＵＶ：５０４ｎｍ（７．８ｘ１０３　，ジオキサン），
４９５ｎｍ（水）

【００７９】４．　　Ｒ６　＝４−ブロモフェニルａ）
Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４８０ｎｍ（
７．７ｘ１０３　，ジオキサン）

【００８０】Ｂ．６−
エトキシベンゾチアゾール−２−イル １．　　Ｒ６　＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９８ｎ
ｍ（３．２ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６２５−６
７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１４ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４７，１６０１，１５３５，１４
５９，１２５５，１１８３，８５３ｃｍ−１ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３　）： δ　　８：４２−８．７０（５Ｈ），８．１６−８．３
２（２Ｈ），８．０３−８．１２（１Ｈ），７．６９−
７．８４（２Ｈ），７．１６−７．２７（１Ｈベンゾチ
アゾール），４．１８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），
２．５６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）．１．４６（ｔ
，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝
７．４Ｈｚ） ｂ）Ｒ５　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：６０１ｎｍ（１３ｘ１０３　，ジオキサン）；ｃ
）Ｒ５　＝４−（２，３−ジヒドロキシプロピルチオ）
フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（８．４ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｄ）Ｒ５　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：６０４ｎｍ（５．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：５４０−５９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【００８１】２．　　Ｒ６　＝フェニルａ）Ｒ５　＝４
−（ジヒドロキシプロピルチオ）フェニルＵＶ：５３０
ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｂ）Ｒ５　＝４
−（トリメチルアンモニウム）フェニルＵＶ：５３０ｎ
ｍ（８．３ｘ１０３　，ジオキサン）ｃ）Ｒ５　＝４−
アセトアミドフェニルＵＶ：５４５ｎｍ（水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【００８２】３．　　Ｒ６　＝４−ニトロ−１−ナフチ
ルａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６１２
ｎｍ（３．４ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６７５−
７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１４．１ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝（４−トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：６３４ｎｍ（４．６ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【００８３】４．　　Ｒ６　＝８−キノリルａ）Ｒ５　
＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６２８ｎｍ（１２．
１ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ
／Ｓ：８％（８．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３６，１６８４，１６００，１５
３１，１４５８，１４２３，１３８５，１３１８，１２
５８，９５９，９３９，８３４ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６　）：δ　　１０．８（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），８
．６７−８．８３（ｍ，３Ｈ），８．３４（ｄ，２４，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｐＨ），８．１１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７
．８Ｈｚ），８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｐ
Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），７．７
４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４．３Ｈｚ）．７．
４６（１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１２（ｄｄ，１Ｈ
，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．６Ｈｚ），４．１０（ｑ，２Ｈ
，Ｊ＝７．０Ｈｚ，−ＣＨ２　−Ｍｅ），２．２６（ｓ
，３４，ＣＨ３　−ＣＯ），１．３５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ，Ｍｅ）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：５０８（Ｍ＋　−１
，１８．７），３５３（２４．１），１２８（１００）

【００８４】５．　　Ｒ６　＝３，４−メチレンジオキ
シフェニル ａ）Ｒ５　＝４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５０
４ｎｍ（ε５．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６７
０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６５，１６０２，１５４０，１５
０１，１４６２，１３８４，１２５４，１１７９，１１
１７，１０３７，９３２，８１３ｃｍ−１ＮＭＲ（３０
０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８．０１（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝９．０８），７．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８
．１４Ｈｚ，１．７９Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．４６Ｈｚ），７．５３−７．６１（ｍ，２Ｈ），
７．２６−７．３６（ｍ，３Ｈ），６．３４（ｓ，２Ｈ
，−ＯＣＨ２　Ｏ−），６．２６（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ
２　Ｏ−），４．１７（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．９９Ｈｚ，
−ＣＨ２　ＣＨ３　），１．４０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．
９４Ｈｚ，−ＣＨ２　ＣＨ３）．質量スペクトル（ＦＡ
Ｂ）ｍ／ｅ：９３．１（１００），１８５．２（２７．
８），３４０（１６．９），４４８（３．０，Ｍ＋　−
１），４８９（１．４，Ｍ＋　），４９０（７．６，Ｍ
＋　＋１）．

【００８５】６．　　Ｒ６　＝１−ナフチ
ルａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ１５
）ＵＶ：５３２ｎｍ（１３ｘ１０３　，ジオキサン）６
３２ｎｍ（水） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） １　ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，８０：２０　　ＣＤＣｌ
３　／ＤＭＳＯ−ｄ６）：１０．３５（ｓ，１Ｈ），８
．４０（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ），８．２８（ｍ，２Ｈ），
８．１７（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８
．５，２Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ），７．８
−７．６（ｍ，３Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝７．５，１
Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝９，１Ｈ），７．０８（ｄｄ
，Ｊ＝２．５９，９，１Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝７，
２Ｈ），２．２（ｓ，３Ｈ），１．４３（ｔ，Ｊ＝７，
３Ｈ）． ｂ）Ｒ５　＝４−ニトロフェニル（ＨＴＣ１５）ＵＶ：
６００ｎｍ（８．４ｘ１０３　，ジオキサン）６２０ｎ
ｍ（水） ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（９．４ｍｍ
ｏｌ）

【００８６】７．Ｒ６　＝２−メチル−４−カルボキシ
フェニル ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６００−
６３０ｎｍ（１１ｘ１０３　，ジオキサン） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【００８７】８．Ｒ６　＝４−カルボキシフェニルａ）
Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９２ｎｍ（
９．５ｘ１０３　，ジオキサン）６１０ｎｍ（水） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２％（８．１ｍｍ
ｏｌ）

【００８８】９．Ｒ６　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
５　＝フェニル ＵＶ：４８８ｎｍ（１４．５ｘ１０３　，ジオキサン）

【００８９】１０．Ｒ６　＝４−クロロ−１−ナフチル
ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６００ｎ
ｍ（水） ｎｍ：６１０−６６０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【００９０】１１．Ｒ６　＝４−シアノ−１−ナフチル
ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６３２ｎ
ｍ（９．１ｘ１０３　，ジオキサン）６０６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【００９１】Ｃ．（５，６，７，８）−テトラヒドロナ
フト［２，３−ｄ］チアゾール−２−イル１．　　Ｒ６
　＝４−ニトロナフチル ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６２４ｎ
ｍ（５．１ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６３５−６
８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１４ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６３５，１５４０，１５００，１４
７０，１４４０，１３９０，１２６０，１１２０，１０
４０，９２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）：δ　　８．９
９−９．１２（ｍ，１Ｈ，ナフタレン），８．６０（ｄ
，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ，ナフタレン），７．７２−７．９４（ｍ，
６Ｈ，ナフタレン及びベンゾチアゾール），７．５５（
ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），７．１２
−７．２３（ｍ，２Ｈ，ナフタレン），７．０１（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），２．７０−２
．９０（ｂｒ　　Ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２　−），１．８０
−２．９５（ｍ，７Ｈ，ＣＨ３　ＣＯ−及び−ＣＨ２　
−）． 質量スペクトル（Ｅ２）ｍ／ｅ：１２１（２２．４），
１４９（１００），１６５（３４．７），１６４（２０
．７），２０５（２６．２），３４９（Ｍ＋　−１−Ｃ
１０Ｈ２　ＮＯ２　，１２．１）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：３５０（Ｍ＋　−Ｃ
１０Ｈ２　ＮＯ２　，１００）．ｂ）Ｒ５　＝４−メト
キシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．１％（１４ｍ
ｍｏｌ） ｃ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６２６ｎｍ（１．２ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：
６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（９．１ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ５　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６１２ｎｍ（３．４ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８．５％（１４ｍ
ｍｏｌ）

【００９２】２．　　Ｒ６　＝４−ニトロフェニルａ）
Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９６ｎｍ（
２．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６４０−６９０
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１４ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏｌ
） ｃ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５９８ｎｍ（４．４ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６
４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１４ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ５　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（６．０ｘ１０３　，ジオキサン）

【
００９３】３．　　Ｒ６　＝１−ナフチルａ）Ｒ５　＝
４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキシ）エトキシ
）フェニル ＵＶ：４３６ｎｍ（１２ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）

【００
９４】Ｄ．６−メチルベンゾチアゾール−２−イル １．Ｒ６　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
５　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：４９２ｎｍ（４
．７ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５５−７０５ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６０４，１５４０，１４９６，１４
６４，１４３２，１３７０，１３１７，１２５４，１１
２３，１０３７，９９３，８２２，７７０，７３５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．１７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ
−８．４８Ｈｚ）．７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１
３Ｈｚ，１．７６Ｈｚ），７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｆ＝１
．７２Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１９Ｈ
ｚ，１．５３Ｈｚ），７．４９（ｓ，２Ｈ），７．３２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１６Ｈｚ），６．３０（ｓ，２４
，−ＯＣＨ２　−Ｏ），３８５（ｓ．３Ｈ，−ＯＭｅ）
，３．７９（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ），２．５４（ｓ，３Ｈ
，−ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．２（１００，
１８５（６２．８），３１０（２５．９），３２５（４
．１），５０４（１０．９，Ｍ＋　−１）ｂ）Ｒ５　＝
４−アセトアミドフェニルＵＶ：４９２ｎｍ（３．６×
１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ
／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ５　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
４９２ｎｍ（４．９×１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６
５５−７０５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１１．１ｍｍｏｌ）

【００９５】２．Ｒ＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ５　
＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４８８ｎｍ（３．９
×１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；
Ｋ／Ｓ：８％（１７．７ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６９０，１５９９，１５３１，１５
０１，１４５９，１４２２，１３７０，１３１７，１２
６５，１１８１，１１６４，１０２１，９７７，８３７
，７４７，６９５ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１
０．４５（６，１Ｈ，−ＮＨＡｃ），８．３０（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．７５Ｈｚ，Ｐｈ−Ｈ），８．１７（ｓ，１
Ｈ，ＰｈＨ），７．９０−８．１１（ｍ，５Ｈ），７．
２６−７．４０（ｍ，１Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ，−
ＯＭｅ），２．５０（ｓ，３Ｈ，−Ｍｅ），２．１４（
ｓ，３Ｈ，ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３，１００，１４
９（８．１），１６３（１９．９），１８５（９１．１
），３２３（２１．６）４５７（７．１，Ｍ＋　−１）

【００９６】Ｅ．６−カルボキシベンゾチアゾール−２
−イル １．Ｒ６　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
５　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：４０８ｎｍ（４
．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５５−７３５ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０５，３２００−２５００（ｂｒ
ｏａｄ），１７００，１６０２，１５００，１４５１，
１２５９，１１２２，１０３４，９９０，８１５，７７
１ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．５７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），７．９５（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．０９，１．６８Ｈｚ）．７．８５（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝１．７０Ｈｚ），７．１７−７．４３（ｍ，４Ｈ）
，７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．１１（
ｓ，２Ｈ），３．９０（ｓ．３Ｈ，ＯＭｅ），３．７４
（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．１（５７．１
），１６７．２（１００），１８５．２（５０．８），
３４０．１（４８．１，Ｍ＋　−Ｃ８　Ｈ５　ＮＳＯ２
　）

【００９７】２．Ｒ６　＝４−ニトロフェニルａ）Ｒ５
　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５６８ｎ
ｍ（０．６×１０３　，ジオキサン）

【００９８】Ｆ．
５，６，７−トリメトキシベンゾチアゾール−２−イル １．Ｒ６　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ５　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９４ｎｍ（ジオキサン） ５１６ｎｍ（水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１９％（８．３ｍ
ｍｏｌ） １　ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）：８．３３（ｍ，３
Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝７，２Ｈ），７，３５（ｍ，
３Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ）
，３．８５（ｓ，６Ｈ）

【００９９】Ｇ．ナフト〔１，２−α〕チアゾール−２
−イル １．Ｒ６　＝２−メトキシ−４−カルボキシフェニル（
ＬＨＮ８２） ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５６８ｎｍ（４．５ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６５０
−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７１３，１６０５，１４９９，１４
６６，１４３３，１３１５，１２５９，１２０９，１０
３７，７４１ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，−Ｐｈ），８．１
７−８．１７（ｍ，３Ｈ），８．００−７．９６（ｍ，
２Ｈ），７．８７−７．６６（ｍ，５Ｈ），７．３３（
ｄ，１Ｈ，Ｊ−８．１Ｈｚ），６．３０（ｓ，２４，Ｏ
ＣＨ２　Ｏ９，３．８２（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ）質量ス
ペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３（１００），１８５（
４７），３４６（１８），５２４（２３，Ｍ＋　−１） ｂ）Ｒ＝４−（２−（２−（ヒドロキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５６６ｎｍ（３．２ｘ１０３　．Ｈ２　Ｏ）ｎｍ
：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１１．１ｍｍｏ
ｌ）

【０１００】２．Ｒ＝Ｒ６　−アセトアミドフェニルａ
）Ｒ５　＝４−シアノフェニル ＵＶ：５２４ｎｍ（９×１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（８．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３７，３０４７，１６９４，１５
９４，１５３７，１５０３，１４６２，１４１４，１３
８４，１２６５，１１７２，９８５，８４８ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１０
．８５（ｓ，１Ｈ，ＮＨＡｃ），８．５９（ｄ，２４，
Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ），８．３０−８．６４（ｍ，９４），７．７９−７
．７６（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ，−ＮＨＣＯ
ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９１（１００），１
０９（２８），１８１（５６），２１７（４５），２３
２（１３），３２７（８），４８８（１０，Ｍ＋　−１
），４８７（４，Ｍ＋　） ｂ）Ｒ５　＝４−カルボメトキシフェニルＵＶ：５５８
ｎｍ（１２ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６６０−７１０
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（８．３ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ５　＝メチレンジオキシフェニルｎｍ：６８５−
７３５；Ｋ／Ｓ：７％（８．１ｍｍｏｌ）

【０１０１】３．Ｒ６　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ５　＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：５２０ｎｍ（１１ｘ１０３　，水）ｎｍ：６７０
−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１３％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５６５ｎｍ（１０．３ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ５　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（１１．４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）

【
０１０２】４．Ｒ６　＝３，４−メチレンジオキシａ）
Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：５４４ｎｍ（
１０．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６８５−７３５
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２６％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０３】５．Ｒ６　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５４６
ｎｍ（７．９ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６７５−７
２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０４】６．Ｒ６　＝１−アントリルａ）Ｒ６　＝
３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：６４４ｎｍ（
４．１ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：７５０−８００ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：３２％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０５】７．Ｒ６　＝８−キノリルａ）Ｒ５　＝３
，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：６４０ｎｍ（３
．９ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ
；Ｋ／Ｓ：５％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
６２８ｎｍ（１２．１ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０６】８．Ｒ６　＝２，５−ジメトキシ−４−ニ
トロフェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：６５４ｎ
ｍ（７．０ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５５−７０
５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０７】９．Ｒ６　＝２−メトキシ−４−カルボメ
トキシフェニル ａ）ＵＶ：６３０ｎｍ（６．３ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）
ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１０８】１０．Ｒ６　＝２−メトキシ−５−アセト
アミドフェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５８４ｎｍ（７．０ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６６
０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１０９】１１．Ｒ６　＝２−メトキシフェニルａ）
Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：６１８ｎｍ（
１０．４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０−７００
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１１０】１２．Ｒ６　＝２，４−ジメトキシフェニ
ルａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ
：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３３％（８．３ｍｍｏ
ｌ）

【０１１１】１３．Ｒ６　＝２−メトキシ−４−ニトロ
フェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６５０ｎｍ（１４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０
−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１１２】１４．Ｒ６　＝２，５−ジメトキシフェニ
ルａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシｎｍ：６６５
−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３６％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１１３】１５．Ｒ６　＝４−ニトロナフチルａ）Ｒ
５　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６２２ｎｍ（１５．６ｘ１０３　，ジオキサン）
６３２ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１３．８
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１５ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ５　＝フェニル ＵＶ：６１８ｎｍ（１２．６ｘ１０３　，ジオキサン）
ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ６　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシフェニル ＵＶ：６２８（６．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｅ）Ｒ６
　＝４−（１′−（ヒドロキシメチル）−２′，３′−
ジヒドロキシプロピルチオ）フェニルＵＶ：６２４ｎｍ
（５．１８ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６３５−６
８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１ｍｍｏｌ）

【０１１４】１６．Ｒ６　＝４−ニトロフェニルａ）Ｒ
５　＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチオ）
フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（４．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１１．１ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ５　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：５７２ｎｍ（１４．７ｘ１０３　，ジオキサン）

【０１１５】１７．Ｒ＝４−カルボキシフェニルａ）Ｒ
４　＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ５７）ＮＭＲ
（ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１０．４６（ｓ，１Ｈ），８
．５−８．２２（ｍ，１Ｈ），８．１７（ｄ，，Ｊ＝８
，１Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．８，２Ｈ），７．８
５（ｄｄ，Ｊ＝７．６，０．９，１Ｈ），７．７８−７
．６５（ｍ，３Ｈ），２．０８（ｓ，３Ｈ） ＵＶ：５９８ｎｍ（ジオキサン） ６１４ｎｍ（１０．５ｘ１０３　，水）ｎｍ：６５０−
７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１３．８ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ４　＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：６３２ｎｍ（１４．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎ
ｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．６ｍｍ
ｏｌ） ｃ）Ｒ４　＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピル
チオ）フェニル ＵＶ：６５４ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４５−６９５；Ｋ／Ｓ：１１％（１１．１ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ４　＝４−（２−（２−（２−（ヒドロキシエト
キシ）エトキシ）エトキシ）フェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６．５％（８．３
ｍｍｏｌ） ｅ）Ｒ４　＝カルボメトキシフェニル ｎｍ：６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１．５％（８．
３ｍｍｏｌ）

【０１１６】１８．Ｒ６　＝２−メチル−４−カルボキ
シフェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６２０−６４０ｎｍ（ジオキサン）６１４ｎｍ（８．４
ｘ１０３　，水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１１７】１９．Ｒ６　＝２−メチル−４−ニトロフ
ェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６４４ｎｍ（１１．３ｘ１０３　，ジオキサン）６２５
ｎｍ（９．２ｘ１０３　，水） ｎｍ：６５５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１１８】２０．Ｒ６　＝フェニル ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５１６ｎ
ｍ（７．１ｘ１０３　，ジオキサン）５２６ｎｍ（７．
１ｘ１０３　，水）

【０１１９】２１．Ｒ６　＝４−メトキシフェニルａ）
Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５０２ｎｍ（
９．５ｘ１０３　，ジオキサン）５００ｎｍ（水）

【０１２０】２２．Ｒ６　＝４−フェニエルアゾフェニ
ルａ）Ｒ５　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：６１４ｎｍ（ジオキサン） ６１８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１２１】２３．Ｒ６　＝４−メチルチオフェニル（
ＨＴＣ４２） ａ）Ｒ５　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５２４ｎ
ｍ（ジオキサン） ５２６ｎｍ（水） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１２２】２４．Ｒ６　＝４−（３，４−ジヒドロキ
シブチルアミド）フェニル ａ）Ｒ５　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５８８ｎｍ（９ｘ１０３　，ジオキサン）５７８
ｎｍ（１２ｘ１０３　，水）

【０１２３】２５．Ｒ６　＝４−カルボメトキシフェニ
ルａ）Ｒ５　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（９．４ｘ１０３　，ジオキサン）５
８１ｎｍ（９．１ｘ１０３　，水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１２４】２６．Ｒ６　＝４−シアノフェニルａ）Ｒ
５　＝３−メトキシフェニル ＵＶ：６０２ｎｍ（１２．３ｘ１０３　，ジオキサン）
６０８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１２５】２７．Ｒ６　＝４−ベンズアミド−５−メ
チル−２−メトキシフェニル ａ）Ｒ５　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６９０−７４０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１０．３ｍｍｏ
ｌ）

【０１２６】２８．Ｒ６　＝４−ベンズアミド−２，５
−ジメトキシフェニル ａ）ｎｍ：７１５−７６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（１０
．３ｍｍｏｌ）

【０１２７】Ｈ．８−メトキシナフト〔１，２−α〕チ
アゾール−２−イル １．Ｒ６　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
５　＝４−メトキシフェニル（ＨＴＣ４１）ＵＶ：４６
６（９．２ｘ１０３　，ジオキサン）５３０（９ｘ１０
３　，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＪＳＯ−ｄ６　）：δ　　
８．３３（ｍ，３Ｈ），７．９７（ｍ，１Ｈ），７．９
０（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｓ
，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９，２Ｈ），４．１０（
ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３
Ｈ），３．７８（ｓ，６Ｈ）

【０１２８】本発明を、上記に特定的に説明し、例示し
た。本発明のその他の変更及び修正は、本発明の精神及
び範囲を逸脱しない限りにおいてなされ得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＩＮＴを還元した場合に生じたホルマザンの反射スペク
トルを示す図である。

【図２】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＭＴＴを還元した場合に生じたホルマザンの反射スペク
トルを示す図である。

【図３】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＮＢＴを還元した場合に生じたホルマザンの反射スペク
トルを示す図である。

【図４】種々のグルコース濃度での、２−（ベンゾチア
ゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）−５−フェ
ニルテトラゾリウム塩（ＵＳＳＲ）を還元した場合に生
じたホルマザンの反射スペクトルを示す図である。

【図５】２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−（
４−メトキシフェニル）−５−フェニルテトラゾリウム
から生じたホルマザンの反射スペクトルを示す図である
。

【図６】２−（６−エトキシベンゾチアゾール−２−イ
ル）−３−（１−ナフチル）−５−（４−アセトアミド
フェニル）テトラゾリウム塩から生じたホルマザンの反
射スペクトルを示す図である。

【図７】２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾール−２−
イル）−３−（２−メトキシ−４−カルボキシフェニル
）−５−（３，４−メチレンジオキシフェニル）テトラ
ゾリウム塩から生じたホルマザンの反射スペクトルを示
す図である。

【図８】２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾール−２−
イル）−３−（４−カルボキシフェニル）−５−（４−
アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩から生じたホ
ルマザンの反射スペクトルを示す図である。

【図９】２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾール−２−
イル）−３−（４−メチルチオフェニル）−５−（４−
アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩から生じたホ
ルマザンの反射スペクトルを示す図である。

【図１０】２−（８−メトキシ［１，２−ｄ］ナフトー
ルチアゾール−２−イル）−３−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−５−（４−メトキシフェニル）テト
ラゾリウム塩から生じたホルマザンの反射スペクトルを
示す図である。

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　式Ａ： 【化１】 （式中、（ｉ）Ｒ１　とＲ２　、又はＲ２　とＲ３　、
   又はＲ３　とＲ４　は、一緒になってベンゾあるいはシ
   クロヘキシル環を形成し、これらの環は、非置換である
   か又は、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
   ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
   アリールチオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキ
   シ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンア
   ミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオもしく
   はウレイドで置換されており、そのとき、他は、同じで
   あっても異なっていてもよく、Ｒ２　とＲ３　が一緒に
   なってベンゾ又はシクロヘキシル環を形成し、かつＲ１
   　が水素ではないという条件で、水素、アルコキシ、ア
   リールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、ア
   リールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、
   カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒド
   ロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、
   トリアルキルアンモニオ又はウレイドであるか、又は（
   ｉｉ）Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４　のすべてが水
   素ではないという条件の下で、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　
   及びＲ４　は、同一であっても異なっていても、水素、
   アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アル
   キルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリール
   チオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シア
   ノ、ハロ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、
   トリアルキルアンモニオ又はウレイドから選択されてお
   り、式中、Ｒ５　が以下の：（ａ１　）式Ｂ： 【化２】 （式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−であり、（ｉ
   ）Ｙ１　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、ア
   ミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ
   、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、Ｙ２　はアル
   コキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキル
   アミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ
   、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシル、シ
   アノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホンアミド、
   スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイ
   ドであり、Ｙ３　はアルコキシ、アリールオキシ、アル
   キル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アル
   キルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコ
   キシ、カルボアリールオキシ、カルボキシル、シアノ、
   ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スルホ、スルホン
   アミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又
   はウレイドであり、Ｙ４　はアルコキシ、ハロ、又は水
   素であるか、あるいは（ｉｉ）Ｙ２　及びＹ３　が一緒
   になってメチレンジオキシ又はイミダゾを形成し、Ｙ１
   　及びＹ４　が水素である）、（ｂ１　）２−、３−、
   又は４−ピリジル、（ｃ１　）２−又は３−チエニル、
   及び（ｄ１　）２−又は３−フラニルから選択され、そ
   してＲ６　が以下の： （ａ２　）式Ｃ： 【化３】 （式中、Ｙ５　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニトロ、又はウレ
   イドであり、Ｙ６　はアルコキシ、アリールオキシ、ア
   ルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、ア
   ルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアル
   コキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、
   スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキ
   ルアンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ７　はアルコキ
   シ、アリールオキシ、アミド、アルキルアミド、アリー
   ルアミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル
   、カルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ヒ
   ドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホン
   アミド、スルファモイル、又はウレイドであり、Ｙ８　
   はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、ハロ、水素
   又はニトロである）、 （ｂ２　）式Ｄ： 【化４】 （式中、Ｙ９　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキ
   シ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スル
   ホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルア
   ンモニオ、又はウレイドである）、（ｃ２　）２−、４
   −、６−、又は８−キノリル、あるいは２−メチルキノ
   リル、及び（ｄ２　）アントラニルから選択され、Ｘが
   対陰イオンである化合物。
2. 【請求項２】　　（１）Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４　がす
   べて水素であり、Ｒ１　がアルコキシ、アリールオキシ
   、アルキル、カルバモイル、カルボアルコキシ又はカル
   ボキシルであるか、（２）Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ４　が
   すべて水素であり、Ｒ３　がアルコキシ、アリールオキ
   シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
   ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
   ボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、
   スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモ
   ニオ又はウレイドであるか、（３）Ｒ１　が水素であっ
   て、Ｒ２　、Ｒ３　及びＲ４　が独立してアルコキシ、
   アリールオキシ又はアルキルであるか、（４）Ｒ２　及
   びＲ４　がともに水素であり、Ｒ１　がアルコキシ、ア
   リールオキシ、アルキル、カルバモイル、カルボアルコ
   キシ又はカルボキシであり、Ｒ３　がアルコキシ、アリ
   ールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリ
   ールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイ
   ル、カルボアルコキシあるいはシアノ、ハロ、ヒドロキ
   シル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリ
   アルキルアンモニオ又はウレイドであるか、（５）Ｒ１
   　及びＲ２　が一緒になってベンゾ環を形成し、Ｒ３　
   はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、ア
   ルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリー
   ルチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシ
   ル、シアノ、ハロ、水素又はウレイドであり、Ｒ４　は
   水素であるか、（６）Ｒ３　及びＲ４　が一緒になって
   ベンゾ環を形成し、Ｒ１　及びＲ２　がともに水素であ
   るか、又は（７）Ｒ２　及びＲ３　が一緒になってシク
   ロヘキシル環を形成し、Ｒ１　がアルキル、アルコキシ
   、ハロ又は水素であり、Ｒ４　は水素である請求項１記
   載の化合物。
3. 【請求項３】　　Ｒ５　が以下の：（ａ１　）式Ｅ：【
   化５】 （式中、（ｉ）Ｙ２　、Ｙ３　及びＹ４　は各々Ｃ１−
   ４　アルコキシであり、（ｉｉ）Ｙ４　が水素であり、
   Ｙ２　及びＹ３　がいずれもＣ１−４　アルコキシであ
   るか、又は一緒になってメチレンジオキシを形成し、あ
   るいは（ｉｉｉ）Ｙ２　及びＹ４　がいずれも水素であ
   り、Ｙ３　がＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキ
   ル、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキルチ
   オ、カルバモイル、カルボ（Ｃ１−４　）アルコキシ、
   カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、トリ（Ｃ
   １−４　）アルキルアンモニオ、又はウレイドである）
   、及び（ｂ１　）２−又は３−チエニルから選択され、
   そしてＲ６　が以下の： （ａ２　）式Ｃ： 【化６】 （式中、（ｉ）Ｙ５　は水素であり、Ｙ６　、Ｙ７　、
   及びＹ８　は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、（ｉｉ
   ）Ｙ５　及びＹ８　はいずれも水素であり、Ｙ６　及び
   Ｙ７　はいずれもＣ１−４　アルコキシであるか、又は
   一緒になってメチレンジオキシを形成し、（ｉｉｉ）Ｙ
   ５　、Ｙ６　及びＹ８　は各々水素であり、Ｙ７　はＣ
   １−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１
   −４　アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カ
   ルボ（Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ
   、ヒドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スル
   ホンアミド、スルファモイル、又はウレイドであり、（
   ｉｖ）Ｙ５　はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ６　
   及びＹ８　はいずれも水素であり、Ｙ７　はＣ１−４　
   アルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　ア
   ルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（Ｃ
   １−４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、
   ニトロ、フェニルアゾ、又はウレイドであり、（ｖ）Ｙ
   ５　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、あるい
   は（ｖｉ）Ｙ５　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシで
   あり、Ｙ７　はＣ１−４　アルキルアミド又はベンズア
   ミドである）、及び （ｂ２　）式Ｄ： 【化７】 （式中、Ｙ９　はＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　ア
   ルキル、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキ
   ルチオ、ベンズアミド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、
   スルホ、スルホンアミド、又はウレイドである）、及び
   （ｃ２　）８−キノリルから選択される請求項２に記載
   の方法。
4. 【請求項４】　　Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ４　がすべて水
   素であり、Ｒ３　が水素、Ｃ１−４　アルコキシ、Ｃ１
   −４　アルキル、カルボキシル又はハロである請求項３
   記載の化合物。
5. 【請求項５】　　Ｒ５　が以下の：３，４，５−トリメ
   トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４
   −メチレンジオキシフェニル、４−メトキシフェニル、
   ４−アセトアミドフェニル、４−メチルチオフェニル、
   ４−フェニル、４−ハロフェニル、４−シアノフェニル
   、４−ニトロフェニル、２−チエニル、及び３−チエニ
   ルから選択され、Ｒ６　が以下の：３，４，５−トリメ
   トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、２，４
   −ジメトキシフェニル、３，４−メチレンジオキシフェ
   ニル、４−メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニ
   ル、４−メチルチオフェニル、４−カルボキシフェニル
   、４−ニトロフェニル、２−メトキシフェニル、２−メ
   トキシ−４−カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシ
   フェニル、２，５−ジメトキシ−４−ベンズアミドフェ
   ニル、１−ナフチル、４−ニトロ−１−ナフチル、４−
   メトキシ−１−ナフチル、８−キノリル、２−メチル−
   ４−カルボキシフェニル、４−カルボメトキシフェニル
   、４−シアノフェニル、及び４−シアノ−１−ナフチル
   から選択される請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】　　Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ４　がすべて水
   素であり、Ｒ３　がＣ１−４　アルコキシである請求項
   ５記載の化合物。
7. 【請求項７】　　Ｒ１　とＲ２　が一緒になってベンゾ
   環を形成し、Ｒ３　が水素又はＣ１−４　アルコキシで
   あり、Ｒ４　が水素である請求項３記載の化合物。
8. 【請求項８】　　Ｒ５　が以下の：３，４，５−トリメ
   トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４
   −メチレンジオキシフェニル、４−メトキシフェニル、
   ４−アセトアミドフェニル、４−メチルチオフェニル、
   ４−フェニル、４−ハロフェニル、４−シアノフェニル
   、４−ニトロフェニル、２−チエニル、及び３−チエニ
   ルから選択され、Ｒ６　が以下の：３，４，５−トリメ
   トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、２，４
   −ジメトキシフェニル、３，４−メチレンジオキシフェ
   ニル、４−メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニ
   ル、４−メチルチオフェニル、４−カルボキシフェニル
   、４−ニトロフェニル、２−メトキシフェニル、２−メ
   トキシ−４−カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシ
   フェニル、２，５−ジメトキシ−４−ベンズアミドフェ
   ニル、１−ナフチル、４−ニトロ−１−ナフチル、４−
   メトキシ−１−ナフチル、８−キノリル、２−メチル−
   ４−カルボキシフェニル、４−カルボメトキシフェニル
   、４−シアノフェニル、及び４−シアノ−１−ナフチル
   から選択される請求項７に記載の方法。
9. 【請求項９】　　２−（ベンゾチアゾール−２−イル）
   −３−（４−メトキシフェニル）−５−フェニルテトラ
   ゾリウム塩。
10. 【請求項１０】　　２−（６−エトキシベンゾチアゾー
    ル−２−イル）−３−（１−ナフチル）−５−（４−ア
    セトアミドフェニル）テトラゾリウム塩。
11. 【請求項１１】　　２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾ
    ール−２−イル）−３−（２−メトキシ−４−カルボキ
    シフェニル）−５−（３，４−メチレンジオキシフェニ
    ル）テトラゾリウム塩。
12. 【請求項１２】　　２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾ
    ール−２−イル）−３−（４−カルボキシフェニル）−
    ５−（４−アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩。
13. 【請求項１３】　　２−（ナフト［１，２−ｄ］チアゾ
    ール−２−イル）−３−（４−メチルチオフェニル）−
    ５−（４−アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩。
14. 【請求項１４】　　２−（８−メトキシナフト［１，２
    −ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−５−（４−メトキシフェニル）
    テトラゾリウム塩。
15. 【請求項１５】　　請求項１〜１４の化合物の、還元性
    物質の検出への使用。
16. 【請求項１６】　　還元性物質がＮＡＤＨである、請求
    項１５の使用。
17. 【請求項１７】　　還元性物質が硫化水素ガス、ジボラ
    ン、水素化ヒ素、又は水素化リンである、請求項１５の
    使用。