JPH0428842A - 低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法 - Google Patents
低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法Info
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- JPH0428842A JPH0428842A JP13421090A JP13421090A JPH0428842A JP H0428842 A JPH0428842 A JP H0428842A JP 13421090 A JP13421090 A JP 13421090A JP 13421090 A JP13421090 A JP 13421090A JP H0428842 A JPH0428842 A JP H0428842A
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Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、低バナジウム低炭素フエ口クロムの製錬方法
に関し、とくにクロム鉱石と生石灰との溶融物をシリコ
クロムを還元剤として使うことにより、■含有率が０，
１５％以下の高純度低バナジウム低炭素フェロクロムを
製造する方法について提案する。
に関し、とくにクロム鉱石と生石灰との溶融物をシリコ
クロムを還元剤として使うことにより、■含有率が０，
１５％以下の高純度低バナジウム低炭素フェロクロムを
製造する方法について提案する。
低炭素フェロクロムの製造方法としては、（１） ク
ロム鉱石と生石灰を電気炉で溶解し、その後シリコクロ
ム（Ｓｉ：４７％、 Ｃｒ：３３％、 Ｆｅ、２Ｏ％）
を添加することにより、該シリコクロム中のＳｉでＣｒ
およびＦｅの酸化物を還元し、低炭素フェロクロムを得
る方法、 （２）電気炉で溶解したクロム鉱石および生石灰の溶融
物を取鍋に受け、その取鍋内にシリコクロムを添加した
後、２基の取鍋を使って移し変えることで撹拌する方法
や、１基の取鍋でガスやスターラー等で撹拌することで
、いわゆるＣｒおよびＦｅの酸化物をＳｉ還元し低炭素
フェロクロムを得る方法などが知られている。 ただし、上記従来方法の下で製造された低炭素フェロク
ロムは、不可避に混入する各種の希少金属元素（■は通
常製品は約０．２５％）を不純物として含有している。 ところが、フェロクロムの主たる用途である製鉄所なと
ての特殊鋼の溶製に際しては、こうした希少金属は却っ
て合金設計を困難にすることが多く、まして酸化しやす
いｖなどは極力少ないことが望ましく、ユーザーの要請
もこうした背景から、■≦０，１５％のものとなってい
る。 このような要請に対しては、従来■含有率：０．１５％
以下の低バナジウム低炭素フェロクロムを製造するに際
し、■含有率の低いクロム鉱石を使用するしかないが、
■含有率の低いクロム鉱石は、通常、同時にＣｒ２Ｏ３
含有率が高く高価である。したがって、低バナジウム低
炭素フェロクロムを製造しようとすると、どうしても高
価なものになってしまう問題があった。 また、その他の従来技術として、比較的酸化しゃすいＶ
の性質を利用して、各工程でＣｒ２Ｏ３、ＦｅＯ等を含
んだ酸性フラックスにて、酸化処理することにより低バ
ナジウム低炭素フェロクロムを製造する方法も考えられ
たが、工程が複雑で製品が高価なものとなってしまう問
題があった。
ロム鉱石と生石灰を電気炉で溶解し、その後シリコクロ
ム（Ｓｉ：４７％、 Ｃｒ：３３％、 Ｆｅ、２Ｏ％）
を添加することにより、該シリコクロム中のＳｉでＣｒ
およびＦｅの酸化物を還元し、低炭素フェロクロムを得
る方法、 （２）電気炉で溶解したクロム鉱石および生石灰の溶融
物を取鍋に受け、その取鍋内にシリコクロムを添加した
後、２基の取鍋を使って移し変えることで撹拌する方法
や、１基の取鍋でガスやスターラー等で撹拌することで
、いわゆるＣｒおよびＦｅの酸化物をＳｉ還元し低炭素
フェロクロムを得る方法などが知られている。 ただし、上記従来方法の下で製造された低炭素フェロク
ロムは、不可避に混入する各種の希少金属元素（■は通
常製品は約０．２５％）を不純物として含有している。 ところが、フェロクロムの主たる用途である製鉄所なと
ての特殊鋼の溶製に際しては、こうした希少金属は却っ
て合金設計を困難にすることが多く、まして酸化しやす
いｖなどは極力少ないことが望ましく、ユーザーの要請
もこうした背景から、■≦０，１５％のものとなってい
る。 このような要請に対しては、従来■含有率：０．１５％
以下の低バナジウム低炭素フェロクロムを製造するに際
し、■含有率の低いクロム鉱石を使用するしかないが、
■含有率の低いクロム鉱石は、通常、同時にＣｒ２Ｏ３
含有率が高く高価である。したがって、低バナジウム低
炭素フェロクロムを製造しようとすると、どうしても高
価なものになってしまう問題があった。 また、その他の従来技術として、比較的酸化しゃすいＶ
の性質を利用して、各工程でＣｒ２Ｏ３、ＦｅＯ等を含
んだ酸性フラックスにて、酸化処理することにより低バ
ナジウム低炭素フェロクロムを製造する方法も考えられ
たが、工程が複雑で製品が高価なものとなってしまう問
題があった。
上述したように、従来技術は、低バナジウム低炭素フェ
ロクロムを製造する場合、■含有率の低い高価なりロム
鉱石を用いるか、少なくとも新たに酸化処理工程を設け
なくてはならないため、工程が複雑になるとか製品が高
価になるという間厘点があった。 本発明の目的は、クロム鉱石中のＶ含有率に関係なく、
常に低バナジウム低炭素フェロクロムとするのに有効な
製錬技術を確立し、もって低バナジウムでＣｒ歩留も高
く、かつ安価な製品を得る好適な技術を提案するところ
にある。
ロクロムを製造する場合、■含有率の低い高価なりロム
鉱石を用いるか、少なくとも新たに酸化処理工程を設け
なくてはならないため、工程が複雑になるとか製品が高
価になるという間厘点があった。 本発明の目的は、クロム鉱石中のＶ含有率に関係なく、
常に低バナジウム低炭素フェロクロムとするのに有効な
製錬技術を確立し、もって低バナジウムでＣｒ歩留も高
く、かつ安価な製品を得る好適な技術を提案するところ
にある。
上掲の目的を実現すべく、鋭意研究する中で、本発明者
らは、上記の課題は製錬方法の改良によって十分に克服
できることを知見し、本発明の詳細な説明するような手
段に想到した。すなわち、本発明思想の特徴とするとこ
ろは、溶製時のスラグ中に含まれるＣｒ、、Ｏ，、を限
界値まで還元せず常に所定量が残るようにコントロール
する、いわゆるＶの還元だけを先行して優先的に行わせ
る第１の段階と、次に今度は上記第１段階で残したＣｒ
２Ｏ３の還元を目指して製錬する第２段階に別けて製錬
するところにある。このような製錬を行うことで低バナ
ジウム、高クロムを達成するようにした方法である。 すなわち、本発明はまた、クロム鉱石と生石灰を電気で
溶解し、出湯して取鍋に受けたその溶湯中に還元剤（シ
リコクロム）を添加して製錬する低炭素フェロクロムの
製造方法において、前記第１段階の処理に当たっては、
クロム鉱石中のＶ含有率、生石灰中のＶ含有率、及び還
元剤中の■含有率が（１）式に定める配合で製錬し、そ
の際溶製スラグ中には（２）式で示す範囲にＣｒ２Ｏ３
が残存するように製錬することで低バナジウム低炭素フ
ェロクロムを製造する方法、および第１段階の処理後に
、さらに第２段階としてスラグ中に残存したＣｒ２Ｏ３
の回収を目的にシリコクロムを添加しＣｒ２Ｏ３及びｖ
２Ｏ５を還元させることにより、全工程のＣｒ歩留の向
上を図る方法である。 Ｖｏｒｅ ＋ Ｖｃａｏ ＋ ＶＲ≦０．５％
（１）５４［Ｖ］％＋ １６％≧（Ｃｒ２Ｏ３）％≧
５４［Ｖ］％＋１２ （２）ここで、 Ｖｏｒｅ ニクロム鉱石中のＶ含有率（ｗｔ％）Ｖｃａ
ｏ ：生石灰中の■含有率（ｗｔ％）■Ｒ：還元剤中の
■含有率（ｗｔ％） ［Ｖ］九二製品のＶ含有率（ｗｔ％） （Ｃｒ２Ｏ３）ニスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率（ｗｔ％
）
らは、上記の課題は製錬方法の改良によって十分に克服
できることを知見し、本発明の詳細な説明するような手
段に想到した。すなわち、本発明思想の特徴とするとこ
ろは、溶製時のスラグ中に含まれるＣｒ、、Ｏ，、を限
界値まで還元せず常に所定量が残るようにコントロール
する、いわゆるＶの還元だけを先行して優先的に行わせ
る第１の段階と、次に今度は上記第１段階で残したＣｒ
２Ｏ３の還元を目指して製錬する第２段階に別けて製錬
するところにある。このような製錬を行うことで低バナ
ジウム、高クロムを達成するようにした方法である。 すなわち、本発明はまた、クロム鉱石と生石灰を電気で
溶解し、出湯して取鍋に受けたその溶湯中に還元剤（シ
リコクロム）を添加して製錬する低炭素フェロクロムの
製造方法において、前記第１段階の処理に当たっては、
クロム鉱石中のＶ含有率、生石灰中のＶ含有率、及び還
元剤中の■含有率が（１）式に定める配合で製錬し、そ
の際溶製スラグ中には（２）式で示す範囲にＣｒ２Ｏ３
が残存するように製錬することで低バナジウム低炭素フ
ェロクロムを製造する方法、および第１段階の処理後に
、さらに第２段階としてスラグ中に残存したＣｒ２Ｏ３
の回収を目的にシリコクロムを添加しＣｒ２Ｏ３及びｖ
２Ｏ５を還元させることにより、全工程のＣｒ歩留の向
上を図る方法である。 Ｖｏｒｅ ＋ Ｖｃａｏ ＋ ＶＲ≦０．５％
（１）５４［Ｖ］％＋ １６％≧（Ｃｒ２Ｏ３）％≧
５４［Ｖ］％＋１２ （２）ここで、 Ｖｏｒｅ ニクロム鉱石中のＶ含有率（ｗｔ％）Ｖｃａ
ｏ ：生石灰中の■含有率（ｗｔ％）■Ｒ：還元剤中の
■含有率（ｗｔ％） ［Ｖ］九二製品のＶ含有率（ｗｔ％） （Ｃｒ２Ｏ３）ニスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率（ｗｔ％
）
さて、第１図は、低炭素フェロクロムをシリコクロムを
還元剤として使う方法により製造する時のスラグ中のＣ
ｒ２Ｏ３含有率と製品（フェロクロム）中のＶ含有率の
関係を示すものである。この図から判るように、スラグ
中のＣｒ２Ｏ３含有率が高くなると製品中のＶ含有率は
低くなることが明らかである。これはスラグ中のＣｒ２
Ｏ３含有率が高い間はＣｒ２Ｏ３活量が大きいため、Ｃ
ｒ２Ｏ３よりも難還元性の■２Ｏ．は還元されにくくな
ることを意味している。 すなわち、このことが製品中のＶ含有量に与える影響に
ついて考えた場合、溶湯中に還元されているＶは、逆に
スラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率を高くしておけば、製品中
のＶ含有率は低く抑えることができることを意味してい
ることになる。 本発明は、この関係を利用することで、第１段階として
、溶製スラグ中に常に所定量のＣｒ２Ｏ３が残存するよ
うにして所定の低Ｖ溶湯とするため、クロム鉱石中のＶ
含有率、生石灰中のＶ含有率及び還元剤中のＶ含有率が
下記（１）式で定める配合となるように調整する。 Ｖｏｒｅ ＋Ｖｃａｏ ＋ ＶＲ≦０，５％ （
１）そして、その際下記（２）式で定めるＣｒ２Ｏ３含
有率の範囲に制御しながら製錬することで、低バナジウ
ム低炭素フェロクロムを製造しようとするものである。 ５４ ［Ｖ］％＋１６％≧（Ｃｒ２Ｏ３）％≧−５４［
Ｖ］％＋１２ （２）さらに、第２段階として、前記
第１段階の溶融スラグ中に残存したＣｒ２Ｏ３の回収を
目的に還元剤（シリコクロム）を投入してＣｒ２Ｏ５及
びｖ２Ｏ５を還元し、全工程のＣｒ歩留の向上を図る製
錬処理である。 ここで、 Ｖｏｒｅ クロム鉱石中のＶ含有率（ｗｔ％）Ｖｃａ
ｏ ：生石灰中のＶ含有率（ｗｔ％）ＶＲ還元剤中の■
含有率（ｗｔ％） ［Ｖ］％ 製品のＶ含有率（ｗｔ％） （Ｃｒ２Ｏ３） ニスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率（ｗｔ
％）上記、第２段階の処理において、Ｃｒ２Ｏ３を還元
した溶湯は鋳込んで冷塊とするか、レードルファーネス
や低周波炉等に保持し、次回タップ時に使用してもよい
。ただし、次回タップ時に使用するとき、前記溶湯中に
はＣｒ２Ｏ３を還元した際にｖ２Ｏ５も還元されてＶ含
有率が高くなっているため、通常の低炭素フェロクロム
を製造する製錬で利用するものでなければならない。 次に、前記（１）式、（２）式を導出した根拠について
説明する。 （１）式１本発明においては、■を還元力の差を用いて
スラグ中に■２Ｏ５として残留させておくものであるた
め、無制限にＶが存在した場合、［Ｖ］％が０１５％以
下の低バナジウム低炭素フェロクロムは生産できない、
したがって、原料のＶ含有率を規定したものである。 しかし、通常ではＶ含有率はＣｒ鉱石で０．０５〜０２
Ｏ％生石灰で０，０２％５ｉＣｒで０．１５％程度であ
るので通常低炭素フェロクロムに使用されている原料に
ついては特に注意を払う必要はない。 （２）式：製品の目標［Ｖ］％に対するスラグ中の残留
Ｃｒ２Ｏ３含有率を規定したものであるが第１図より判
るように製品の［Ｖ］％とスラグ中の（Ｃｒ２Ｏ３）％
間には（Ｃｒ２Ｏａ）％＝５４［％’１％＋１２という
関係がある。したがって、スラグ中の残留Ｃｒ２Ｏ３含
有率と製品の目標［Ｖ］％に対して（Ｃｒ２Ｏ３）％≧
−５４［Ｖ］％＋１２と下限のみを規定しても十分であ
る。しかしながら（Ｃｒ２Ｏｇ）％≦−５４［Ｖ］％＋
１６と上限も設定したのは、（Ｃｒ２Ｏ３）％をあまり
高くすると配合上Ｃｒ含有率を高くしておかなければ製
品のＣｒ含有率が低下するため、工業的ではなくこのこ
とを考慮して（２）式のごとく上限、下限を規定した。
還元剤として使う方法により製造する時のスラグ中のＣ
ｒ２Ｏ３含有率と製品（フェロクロム）中のＶ含有率の
関係を示すものである。この図から判るように、スラグ
中のＣｒ２Ｏ３含有率が高くなると製品中のＶ含有率は
低くなることが明らかである。これはスラグ中のＣｒ２
Ｏ３含有率が高い間はＣｒ２Ｏ３活量が大きいため、Ｃ
ｒ２Ｏ３よりも難還元性の■２Ｏ．は還元されにくくな
ることを意味している。 すなわち、このことが製品中のＶ含有量に与える影響に
ついて考えた場合、溶湯中に還元されているＶは、逆に
スラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率を高くしておけば、製品中
のＶ含有率は低く抑えることができることを意味してい
ることになる。 本発明は、この関係を利用することで、第１段階として
、溶製スラグ中に常に所定量のＣｒ２Ｏ３が残存するよ
うにして所定の低Ｖ溶湯とするため、クロム鉱石中のＶ
含有率、生石灰中のＶ含有率及び還元剤中のＶ含有率が
下記（１）式で定める配合となるように調整する。 Ｖｏｒｅ ＋Ｖｃａｏ ＋ ＶＲ≦０，５％ （
１）そして、その際下記（２）式で定めるＣｒ２Ｏ３含
有率の範囲に制御しながら製錬することで、低バナジウ
ム低炭素フェロクロムを製造しようとするものである。 ５４ ［Ｖ］％＋１６％≧（Ｃｒ２Ｏ３）％≧−５４［
Ｖ］％＋１２ （２）さらに、第２段階として、前記
第１段階の溶融スラグ中に残存したＣｒ２Ｏ３の回収を
目的に還元剤（シリコクロム）を投入してＣｒ２Ｏ５及
びｖ２Ｏ５を還元し、全工程のＣｒ歩留の向上を図る製
錬処理である。 ここで、 Ｖｏｒｅ クロム鉱石中のＶ含有率（ｗｔ％）Ｖｃａ
ｏ ：生石灰中のＶ含有率（ｗｔ％）ＶＲ還元剤中の■
含有率（ｗｔ％） ［Ｖ］％ 製品のＶ含有率（ｗｔ％） （Ｃｒ２Ｏ３） ニスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率（ｗｔ
％）上記、第２段階の処理において、Ｃｒ２Ｏ３を還元
した溶湯は鋳込んで冷塊とするか、レードルファーネス
や低周波炉等に保持し、次回タップ時に使用してもよい
。ただし、次回タップ時に使用するとき、前記溶湯中に
はＣｒ２Ｏ３を還元した際にｖ２Ｏ５も還元されてＶ含
有率が高くなっているため、通常の低炭素フェロクロム
を製造する製錬で利用するものでなければならない。 次に、前記（１）式、（２）式を導出した根拠について
説明する。 （１）式１本発明においては、■を還元力の差を用いて
スラグ中に■２Ｏ５として残留させておくものであるた
め、無制限にＶが存在した場合、［Ｖ］％が０１５％以
下の低バナジウム低炭素フェロクロムは生産できない、
したがって、原料のＶ含有率を規定したものである。 しかし、通常ではＶ含有率はＣｒ鉱石で０．０５〜０２
Ｏ％生石灰で０，０２％５ｉＣｒで０．１５％程度であ
るので通常低炭素フェロクロムに使用されている原料に
ついては特に注意を払う必要はない。 （２）式：製品の目標［Ｖ］％に対するスラグ中の残留
Ｃｒ２Ｏ３含有率を規定したものであるが第１図より判
るように製品の［Ｖ］％とスラグ中の（Ｃｒ２Ｏ３）％
間には（Ｃｒ２Ｏａ）％＝５４［％’１％＋１２という
関係がある。したがって、スラグ中の残留Ｃｒ２Ｏ３含
有率と製品の目標［Ｖ］％に対して（Ｃｒ２Ｏ３）％≧
−５４［Ｖ］％＋１２と下限のみを規定しても十分であ
る。しかしながら（Ｃｒ２Ｏｇ）％≦−５４［Ｖ］％＋
１６と上限も設定したのは、（Ｃｒ２Ｏ３）％をあまり
高くすると配合上Ｃｒ含有率を高くしておかなければ製
品のＣｒ含有率が低下するため、工業的ではなくこのこ
とを考慮して（２）式のごとく上限、下限を規定した。
（１）第１段階；
クロム鉱石５．９００ｋｇ、生石灰４．７００ｋｇを、
４、５００ｋＶＡの三相エル−式電気炉内に装入して溶
解し、取鍋に出湯した。次に、この取鍋的溶湯に対して
、還元剤としてシリコクロム（削口タップ時に通常の低
炭素フェロクロムを製造した後のスラグよりＣｒ２Ｏｍ
を還元し、レードルファーネスに保持しておいた溶融シ
リコクロム） ４，０６０ｋｇを塗材として、７００℃
までロータリーキルンで加熱したクロム鉱石３．６００
ｋｇ、および生石灰２．９００ｋｇを装入し、２つの取
鍋を用いて溶湯を４回移し換え、これによってスラグ中
のＣｒ２Ｏ３を７．３％まで還元し、低ノイナジウム低
炭素フェロクロムを溶製した。この段階で得られた溶湯
の成分組成を第１表に示す。 （２）第２段階； 前記工程で得られた低バナジウム低炭素フェロクロム製
造後のスラグに、シリコクロム４、０００ｋｇを装入し
、２つの取鍋を用いて溶湯を２回移し換えて、スラグ中
のＣｒ２Ｏ，を還元したこの処理を経て得られた溶湯の
成分組成を第２表に示す。 （３） さらに、前記シリコクロムをし一ドルファー
ネスに保持しておきこれを使用し、次回タブ時に通常の
低炭素フェロクロムを製造した場合のその製品の成分組
成について第３表に示す。 上記各表の示す結果から明らかなように、製品低炭素フ
ェロクロムのＶ含有率は０．０６５％であり、製錬目標
とする５０．１５％よりも十分に低い値を示した。また
、Ｃｒ歩留についても第１段階の処理である低バナジウ
ム低炭素フェロクロム製錬段階では７７、５９６である
が、第２段階の処理を経たものでは、９３．９％と非常
に良好なＣｒ歩留を示した。 また、第３表から明らかなように、低バナジウム低炭素
フェロクロム製造後のスラグよりＣｒ２Ｏ３を還元した
シリコクロムを使用して、通常の低炭素フェロクロムを
製造した場合、製品の■含有率は０．３１０％と高く、
また製品のＣｒ含有率も６６％と高くなることが確かめ
られた。
４、５００ｋＶＡの三相エル−式電気炉内に装入して溶
解し、取鍋に出湯した。次に、この取鍋的溶湯に対して
、還元剤としてシリコクロム（削口タップ時に通常の低
炭素フェロクロムを製造した後のスラグよりＣｒ２Ｏｍ
を還元し、レードルファーネスに保持しておいた溶融シ
リコクロム） ４，０６０ｋｇを塗材として、７００℃
までロータリーキルンで加熱したクロム鉱石３．６００
ｋｇ、および生石灰２．９００ｋｇを装入し、２つの取
鍋を用いて溶湯を４回移し換え、これによってスラグ中
のＣｒ２Ｏ３を７．３％まで還元し、低ノイナジウム低
炭素フェロクロムを溶製した。この段階で得られた溶湯
の成分組成を第１表に示す。 （２）第２段階； 前記工程で得られた低バナジウム低炭素フェロクロム製
造後のスラグに、シリコクロム４、０００ｋｇを装入し
、２つの取鍋を用いて溶湯を２回移し換えて、スラグ中
のＣｒ２Ｏ，を還元したこの処理を経て得られた溶湯の
成分組成を第２表に示す。 （３） さらに、前記シリコクロムをし一ドルファー
ネスに保持しておきこれを使用し、次回タブ時に通常の
低炭素フェロクロムを製造した場合のその製品の成分組
成について第３表に示す。 上記各表の示す結果から明らかなように、製品低炭素フ
ェロクロムのＶ含有率は０．０６５％であり、製錬目標
とする５０．１５％よりも十分に低い値を示した。また
、Ｃｒ歩留についても第１段階の処理である低バナジウ
ム低炭素フェロクロム製錬段階では７７、５９６である
が、第２段階の処理を経たものでは、９３．９％と非常
に良好なＣｒ歩留を示した。 また、第３表から明らかなように、低バナジウム低炭素
フェロクロム製造後のスラグよりＣｒ２Ｏ３を還元した
シリコクロムを使用して、通常の低炭素フェロクロムを
製造した場合、製品の■含有率は０．３１０％と高く、
また製品のＣｒ含有率も６６％と高くなることが確かめ
られた。
以上説明したように、本発明によれば、製錬の第１段階
でスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率を制御するだけでＶ含有
率が高い安価なりロム鉱石が使用でき、しかもそうした
低バナジウム低炭素フェロクロム製造後のスラグ中に残
ったＣｒ２Ｏ３を還元することで、同時にＣｒ歩留も高
くすることができ、それ故に低バナジウム低炭素フェロ
クロムを容易にかつ低コストで製造できる。
でスラグ中のＣｒ２Ｏ３含有率を制御するだけでＶ含有
率が高い安価なりロム鉱石が使用でき、しかもそうした
低バナジウム低炭素フェロクロム製造後のスラグ中に残
ったＣｒ２Ｏ３を還元することで、同時にＣｒ歩留も高
くすることができ、それ故に低バナジウム低炭素フェロ
クロムを容易にかつ低コストで製造できる。
第１図は、低炭素フェロクロム製造時におけるスラグ中
のＣｒ、Ｏ，含有率と製品中のＶ含有率の関係を示すグ
ラフである。 特許出願人 日本重化学工業株式会社 代理人 弁理士 小 川 順 三 周 弁理士 中 村 盛 夫 ０．０５ ０．１（１ ０，１５ （１，２（１ 製品中の■含有率（％）
のＣｒ、Ｏ，含有率と製品中のＶ含有率の関係を示すグ
ラフである。 特許出願人 日本重化学工業株式会社 代理人 弁理士 小 川 順 三 周 弁理士 中 村 盛 夫 ０．０５ ０．１（１ ０，１５ （１，２（１ 製品中の■含有率（％）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、クロム鉱石と生石灰とを溶解して得られる溶湯中に
、還元剤として所定量のシリコクロムを添加して還元す
ることにより、低炭素フェロクロムを製造するに当たり
、 第１段階として、溶製スラグ中に常に未還元のＣｒ＿２
Ｏ＿３が残存するように、添加するシリコクロムの量を
制御することでＶの還元を抑制する処理を行い、第２段
階処理として、Ｖの還元抑制の第１段階処理を経た溶製
スラグに対し、シリコクロムを添加してＣｒ＿２Ｏ＿３
及びＶ＿２Ｏ＿５の還元を促進する処理を行うことを特
徴とする低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法。 ２、請求項１に記載の製錬に当たり、 第１段階のＶ還元抑制の処理に際して、クロム鉱石中の
Ｖ含有率、生石灰中のＶ含有率、及びシリコクロム中の
Ｖ含有率を下記（１）式に示す配合割合で製錬し、その
際溶製スラグ中には下記（２）式で示す範囲にＣｒ＿２
Ｏ＿３が残存するように製錬し、第２段階として第１段
階の処理後スラグ中に残存したＣｒ＿２Ｏ＿３の回収を
目的にシリコクロムを添加し、Ｃｒ＿２Ｏ＿３及びＶ＿
２Ｏ＿５を還元させることを特徴とする低バナジウム低
炭素フェロクロムの製錬方法。 Ｖｏｒｅ＋Ｖｃａｏ＋ＶＲ≦０．５％（１）−５４［Ｖ
］％＋１６％≧（Ｃｒ＿２Ｏ＿３）％≧−５４［Ｖ］％
＋１２（２）ここで、 Ｖｏｒｅ：クロム鉱石中のＶ含有率（ｗｔ％）Ｖｃａｏ
：生石灰中のＶ含有率（ｗｔ％） ＶＲ：還元剤中のＶ含有率（ｗｔ％） ［Ｖ］％：製品のＶ含有率（ｗｔ％） （Ｃｒ＿２Ｏ＿３）：スラグ中のＣｒ＿２Ｏ＿３含有率
（ｗｔ％）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13421090A JPH0428842A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13421090A JPH0428842A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0428842A true JPH0428842A (ja) | 1992-01-31 |
Family
ID=15122998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13421090A Pending JPH0428842A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 低バナジウム低炭素フェロクロムの製錬方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0428842A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013187347A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Ｊｆｅマテリアル株式会社 | フェロクロムの製造方法及びフェロクロム |
| CN116574863A (zh) * | 2023-04-24 | 2023-08-11 | 广东华鳌合金新材料有限公司 | 一种超低碳低钒不锈钢的冶炼方法 |
-
1990
- 1990-05-25 JP JP13421090A patent/JPH0428842A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013187347A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Ｊｆｅマテリアル株式会社 | フェロクロムの製造方法及びフェロクロム |
| JPWO2013187347A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2016-02-04 | Ｊｆｅマテリアル株式会社 | フェロクロムの製造方法及びフェロクロム |
| CN116574863A (zh) * | 2023-04-24 | 2023-08-11 | 广东华鳌合金新材料有限公司 | 一种超低碳低钒不锈钢的冶炼方法 |
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