JPH0429181B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0429181B2 JPH0429181B2 JP61311811A JP31181186A JPH0429181B2 JP H0429181 B2 JPH0429181 B2 JP H0429181B2 JP 61311811 A JP61311811 A JP 61311811A JP 31181186 A JP31181186 A JP 31181186A JP H0429181 B2 JPH0429181 B2 JP H0429181B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle beam
- porous member
- primary particle
- sample
- introduction tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、一次粒子ビームを試料に照射し、そ
の衝撃で試料をイオン化する方式の質量分析装置
用イオン源に関し、特に液体クロマトグラフから
の試料溶液をイオン化室に直接導入してイオン化
する場合に使用して有効なイオン源を提供するも
のである。
の衝撃で試料をイオン化する方式の質量分析装置
用イオン源に関し、特に液体クロマトグラフから
の試料溶液をイオン化室に直接導入してイオン化
する場合に使用して有効なイオン源を提供するも
のである。
［従来技術］
液体クロマトグラフで分離した試料溶液を質量
分析装置に直接導入する方式としては、第４図に
示すような構造のものが使用されている。
分析装置に直接導入する方式としては、第４図に
示すような構造のものが使用されている。
同図中、１は質量分析装置の質量分析部、２は
イオン源、３はイオン化室、４はこのイオン化室
３内で生成されたイオンの加速と集束を行なうス
リツト群、５は粒子ビーム発生器、６は液体クロ
マトグラフ、７は液体クロマトグラフ６で分離さ
れた試料溶液をイオン化室内３内へ導入するため
の導入管で、イオン源２の外壁に略水平にした状
態で着脱可能に取付けられている。この導入管と
しては、例えば内径が40μｍ程度のフユーズドシ
リカ管が用いられる。また、イオン化室３内に挿
入された導入管７の拡大断面図を第５図示すよう
に先端部にステンレス管８が被せられ、さらにそ
の外側にガラス管（ステンレス等の金属管でも良
い）９が被せられている。そして導入管の開口部
を塞ぐように多孔性部材１０が取付けられてい
る。この多孔性部材としては、例えばステンレス
の粉末を焼結して作成したフイルタ（フリツト）
が使用される。尚、前記ステンレス管８にはリペ
ラ電源１１から適宜な電圧が印加される。
イオン源、３はイオン化室、４はこのイオン化室
３内で生成されたイオンの加速と集束を行なうス
リツト群、５は粒子ビーム発生器、６は液体クロ
マトグラフ、７は液体クロマトグラフ６で分離さ
れた試料溶液をイオン化室内３内へ導入するため
の導入管で、イオン源２の外壁に略水平にした状
態で着脱可能に取付けられている。この導入管と
しては、例えば内径が40μｍ程度のフユーズドシ
リカ管が用いられる。また、イオン化室３内に挿
入された導入管７の拡大断面図を第５図示すよう
に先端部にステンレス管８が被せられ、さらにそ
の外側にガラス管（ステンレス等の金属管でも良
い）９が被せられている。そして導入管の開口部
を塞ぐように多孔性部材１０が取付けられてい
る。この多孔性部材としては、例えばステンレス
の粉末を焼結して作成したフイルタ（フリツト）
が使用される。尚、前記ステンレス管８にはリペ
ラ電源１１から適宜な電圧が印加される。
かかる構成において、液体クロマトグラフ６で
分離された試料溶液は導入管７を通して順次イオ
ン化室３内に導入され、導入管先端に取付けられ
ている多孔性部材１０表面へ滲み出し、粒子ビー
ム発生器５からの一次粒子ビームＢの照射を受け
てイオン化される。生成されたイオンはステンレ
ス管８に印加されたリペラ電圧によりイオン化室
３から押出され、質量分析部１へ導入されて質量
分析される。
分離された試料溶液は導入管７を通して順次イオ
ン化室３内に導入され、導入管先端に取付けられ
ている多孔性部材１０表面へ滲み出し、粒子ビー
ム発生器５からの一次粒子ビームＢの照射を受け
てイオン化される。生成されたイオンはステンレ
ス管８に印加されたリペラ電圧によりイオン化室
３から押出され、質量分析部１へ導入されて質量
分析される。
［発明が解決しようとする問題点］
このようにして液体クロマトグラフからの試料
溶液をオンラインでイオン源に導入し、試料溶液
を多孔性部材１０へ送つてイオン化する場合に
は、送られた試料成分が順次全てイオン化され、
先に送られた試料成分が残つていないのが望まし
いが、実際には第５図中符号Ｓで示すようにイオ
ン化されない試料成分が多孔性部材１０の下部に
溜ることを避けることができない。その結果、多
孔性部材の下端部に溜まつた試料成分Ｓにも一次
粒子ビームＢが照射され、それによつて生じたイ
オンが質量分析装置に導入され質量分析される。
従つて、後で送られた試料成分と先に送られた試
料成分とが同時にイオン化されて質量分析される
ことになるため、分析に悪影響を及ぼす。
溶液をオンラインでイオン源に導入し、試料溶液
を多孔性部材１０へ送つてイオン化する場合に
は、送られた試料成分が順次全てイオン化され、
先に送られた試料成分が残つていないのが望まし
いが、実際には第５図中符号Ｓで示すようにイオ
ン化されない試料成分が多孔性部材１０の下部に
溜ることを避けることができない。その結果、多
孔性部材の下端部に溜まつた試料成分Ｓにも一次
粒子ビームＢが照射され、それによつて生じたイ
オンが質量分析装置に導入され質量分析される。
従つて、後で送られた試料成分と先に送られた試
料成分とが同時にイオン化されて質量分析される
ことになるため、分析に悪影響を及ぼす。
そこで、本発明はかかる点に鑑みてなされたも
のであり、一次粒子ビーム照射面に遮蔽部材を配
置し、この照射面にイオン化されずに存在する試
料液に一次粒子ビームが照射されるのを防止する
ことのできるイオン源を提供することを目的とす
るものである。
のであり、一次粒子ビーム照射面に遮蔽部材を配
置し、この照射面にイオン化されずに存在する試
料液に一次粒子ビームが照射されるのを防止する
ことのできるイオン源を提供することを目的とす
るものである。
［問題点を解決するための手段］
上記目的を達成するために、本発明はイオン化
室に導入管を略水平にした状態で導入し、該導入
管の先端部に設けられた照射面にこの導入管を通
して試料液を供給し、該照射面に一次粒子ビーム
を照射して試料液をイオン化する質量分析装置用
イオン源において、前記照射面でイオン化されず
にこの照射面の少なくとも下面に残存する試料液
に前記一次粒子ビームが照射されるのを防止する
ための遮蔽部材を設けたことを特徴とするもので
ある。
室に導入管を略水平にした状態で導入し、該導入
管の先端部に設けられた照射面にこの導入管を通
して試料液を供給し、該照射面に一次粒子ビーム
を照射して試料液をイオン化する質量分析装置用
イオン源において、前記照射面でイオン化されず
にこの照射面の少なくとも下面に残存する試料液
に前記一次粒子ビームが照射されるのを防止する
ための遮蔽部材を設けたことを特徴とするもので
ある。
以下、本発明の実施例を図面に基づき詳説す
る。
る。
［実施例］
第１図は本発明の一実施例を示す要部拡大断面
図で、第４図及び第５図と同一符号のものは同一
構成要素を示すものである。
図で、第４図及び第５図と同一符号のものは同一
構成要素を示すものである。
同図において、１２は有底筒状に形成された遮
蔽体で、この遮蔽体はある間隔を保つて多孔性部
材１０の外部を囲繞するように配置された状態で
数個の支持台１３ａ，１３ｂ…を介してガラス管
９に取付けられている。また、この遮蔽体の開放
端１２ａはイオン化室３の側壁を貫通してイオン
源２内に取出されている。さらに、この遮蔽体１
２の底部１２ｂの中心部には一次粒子ビーム通過
用穴１４が形成してある。前記穴１４の縁部には
遮蔽体１２の内側（多孔性部材１０側）に向けて
尖鋭に加工された突起１５が設けられ、この突起
の先端部が多孔性部材１０の一次粒子ビーム照射
面に当接されている。
蔽体で、この遮蔽体はある間隔を保つて多孔性部
材１０の外部を囲繞するように配置された状態で
数個の支持台１３ａ，１３ｂ…を介してガラス管
９に取付けられている。また、この遮蔽体の開放
端１２ａはイオン化室３の側壁を貫通してイオン
源２内に取出されている。さらに、この遮蔽体１
２の底部１２ｂの中心部には一次粒子ビーム通過
用穴１４が形成してある。前記穴１４の縁部には
遮蔽体１２の内側（多孔性部材１０側）に向けて
尖鋭に加工された突起１５が設けられ、この突起
の先端部が多孔性部材１０の一次粒子ビーム照射
面に当接されている。
このようになせば、遮蔽体１２に形成した穴１
４を通過した一次粒子ビームＢのみが多孔性部材
１０に到達し、残りの一次粒子ビームは遮蔽体で
遮断されるため、多孔性部材の一次粒子ビームに
よる照射領域をその中心部だけに限定することが
できる。その結果、多孔性部材の一次粒子ビーム
による照射領域における試料溶液は効率良くイオ
ン化されるため、この照射面にはイオン化されな
い試料溶液が残ることなく常に新しい試料溶液の
みが存在する。また、多孔性部材１０の表面上の
照射領域以外の領域上の試料溶液は同図中符号Ｓ
で示すように多孔性部材１０と遮蔽体１２の底部
１２ｂとの隙間に生じる毛細管現象により遮蔽体
内の下部に流れて蓄積されたり、あるいは多孔性
部材１０の周辺部に蓄積される。
４を通過した一次粒子ビームＢのみが多孔性部材
１０に到達し、残りの一次粒子ビームは遮蔽体で
遮断されるため、多孔性部材の一次粒子ビームに
よる照射領域をその中心部だけに限定することが
できる。その結果、多孔性部材の一次粒子ビーム
による照射領域における試料溶液は効率良くイオ
ン化されるため、この照射面にはイオン化されな
い試料溶液が残ることなく常に新しい試料溶液の
みが存在する。また、多孔性部材１０の表面上の
照射領域以外の領域上の試料溶液は同図中符号Ｓ
で示すように多孔性部材１０と遮蔽体１２の底部
１２ｂとの隙間に生じる毛細管現象により遮蔽体
内の下部に流れて蓄積されたり、あるいは多孔性
部材１０の周辺部に蓄積される。
ここで、本実施例では遮蔽体１２の開放端１２
ａはイオン化３外に出されているため、遮蔽体内
に溜められた試料溶液からの気化ガスはイオン化
室外に排出される。その結果、遮蔽体内の試料溶
液からの気化ガスがイオン化３内に流入してこの
イオン化室内の圧力が上昇することにより生じる
放電等を防止することができる。また、遮蔽体１
２内に溜つた試料溶液をポンプ等で強制的に排出
するようになせば、遮蔽体の掃除を不要となすこ
とができる。さらに、遮蔽体の底部１２ｂと多孔
性部材１０表面との間隔を微小となして毛細管現
象を生じさせたりあるいはスポンジや金属メツシ
ユ等を介在させれば、多孔性部材の一次粒子ビー
ム照射領域以外から滲み出る余分な試料溶液を強
制的に吸い取つて遮蔽体１２の下部に排出するこ
とができるため、多孔性部材の一次粒子ビーム照
射面にイオン化されない試料溶液が溜まることを
皆無となすことができる。
ａはイオン化３外に出されているため、遮蔽体内
に溜められた試料溶液からの気化ガスはイオン化
室外に排出される。その結果、遮蔽体内の試料溶
液からの気化ガスがイオン化３内に流入してこの
イオン化室内の圧力が上昇することにより生じる
放電等を防止することができる。また、遮蔽体１
２内に溜つた試料溶液をポンプ等で強制的に排出
するようになせば、遮蔽体の掃除を不要となすこ
とができる。さらに、遮蔽体の底部１２ｂと多孔
性部材１０表面との間隔を微小となして毛細管現
象を生じさせたりあるいはスポンジや金属メツシ
ユ等を介在させれば、多孔性部材の一次粒子ビー
ム照射領域以外から滲み出る余分な試料溶液を強
制的に吸い取つて遮蔽体１２の下部に排出するこ
とができるため、多孔性部材の一次粒子ビーム照
射面にイオン化されない試料溶液が溜まることを
皆無となすことができる。
第２図は本発明の他の実施例を示す要部拡大断
面図、第３図はそのＡ矢視拡大図であり、第１図
と同一番号のものは同一構成要素を示すものであ
る。
面図、第３図はそのＡ矢視拡大図であり、第１図
と同一番号のものは同一構成要素を示すものであ
る。
本実施例では多孔性部材１０の下端部、つまり
第２図中符号Ｓでその状態を示すように多孔性部
材表面でイオン化されない試料溶液が流れ落ちて
溜まり易い部分を板状に形成した遮蔽体１６で遮
蔽したことを特徴とするものである。この遮蔽体
１６はガラス管９の底部に取付けた試料溶液収納
用容器１７に固定されている。
第２図中符号Ｓでその状態を示すように多孔性部
材表面でイオン化されない試料溶液が流れ落ちて
溜まり易い部分を板状に形成した遮蔽体１６で遮
蔽したことを特徴とするものである。この遮蔽体
１６はガラス管９の底部に取付けた試料溶液収納
用容器１７に固定されている。
このようになせば、イオン化されない試料溶液
が溜る部分だけを遮蔽体１６により遮蔽するた
め、多孔性部材に照射される一次粒子ビームＢの
量が増えてイオン量が増大し、感度の向上が図れ
る。
が溜る部分だけを遮蔽体１６により遮蔽するた
め、多孔性部材に照射される一次粒子ビームＢの
量が増えてイオン量が増大し、感度の向上が図れ
る。
尚、前述の説明は本発明の一例であり、実施に
あたつては幾多の変形が考えられる。例えば多孔
性部材から滲み出る試料容器中の溶媒成分の蒸発
の促進や生成イオン量を増大させるために、多孔
性部材やガラス管もしくはステンレス管部分を加
熱するようにしても良い。
あたつては幾多の変形が考えられる。例えば多孔
性部材から滲み出る試料容器中の溶媒成分の蒸発
の促進や生成イオン量を増大させるために、多孔
性部材やガラス管もしくはステンレス管部分を加
熱するようにしても良い。
また、イオン化室に導入された導入管の一次粒
子ビームが照射される照射面、つまり開口部を塞
ぐように多孔性部材を取付けたが、これは必ずし
も必要ではなく、導入管の開口部に直接一次粒子
ビームを照射し、送られて来る試料成分を順次イ
オン化するようにしても良い。
子ビームが照射される照射面、つまり開口部を塞
ぐように多孔性部材を取付けたが、これは必ずし
も必要ではなく、導入管の開口部に直接一次粒子
ビームを照射し、送られて来る試料成分を順次イ
オン化するようにしても良い。
また、上記実施例は液体クロマトグラフとイオ
ン源とをオンラインで接続した場合を示したが、
これに限定されることなく単一の試料成分をオフ
ラインで分析するような場合にも同様に実施する
ことができる。
ン源とをオンラインで接続した場合を示したが、
これに限定されることなく単一の試料成分をオフ
ラインで分析するような場合にも同様に実施する
ことができる。
［効果］
以上詳述した如く本発明によれば、導入管の先
端に設けられる一次粒子ビーム照射面でイオン化
されなかつた試料液に一次粒子ビームが照射され
るのを防止することができるため、先に送られて
来た試料液と後に送られて来た試料液とが一緒に
イオン化されることを防止することができ、分析
精度の向上を図ることができると同時に、試料液
のイオン化室への導入量をも増大させることがで
き、感度の向上を図ることができる。
端に設けられる一次粒子ビーム照射面でイオン化
されなかつた試料液に一次粒子ビームが照射され
るのを防止することができるため、先に送られて
来た試料液と後に送られて来た試料液とが一緒に
イオン化されることを防止することができ、分析
精度の向上を図ることができると同時に、試料液
のイオン化室への導入量をも増大させることがで
き、感度の向上を図ることができる。
第１図は本発明の一実施例を示す要部拡大断面
図、第２図は本発明の他の実施例を示す要部拡大
断面図、第３図は第２図のＡ矢視拡大図、第４図
及び第５図は従来例を説明するための図である。 １……質量分析図、２……イオン源、３……イ
オン化室、４……スリツト群、５……粒子ビーム
発生器、６……液体クロマトグラフ、７……導入
管、８……ステンレス管、９……ガラス管、１０
……多孔性部材、１１……リペラ電源、１２，１
６……遮蔽体、１２ａ……開放端、１２ｂ……底
部、１３ａ，１３ｂ……支持台、１４……穴、１
５……突起、１７……容器。
図、第２図は本発明の他の実施例を示す要部拡大
断面図、第３図は第２図のＡ矢視拡大図、第４図
及び第５図は従来例を説明するための図である。 １……質量分析図、２……イオン源、３……イ
オン化室、４……スリツト群、５……粒子ビーム
発生器、６……液体クロマトグラフ、７……導入
管、８……ステンレス管、９……ガラス管、１０
……多孔性部材、１１……リペラ電源、１２，１
６……遮蔽体、１２ａ……開放端、１２ｂ……底
部、１３ａ，１３ｂ……支持台、１４……穴、１
５……突起、１７……容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ イオン化室に導入管を略水平にした状態で導
入し、該導入管の先端部に設けられた照射面にこ
の導入管を通して試料液を供給し、該照射面に一
次粒子ビームを照射して試料液をイオン化する質
量分析装置用イオン源において、前記照射面でイ
オン化されずにこの照射面の少なくとも下面に残
存する試料液に前記一次粒子ビームが照射される
のを防止するための遮蔽部材を設けたことを特徴
とする質量分析装置用イオン源。 ２ 前記遮蔽部材を有底筒状に形成して前記導入
管先端部の照射面に被せると共に、その底部に前
記一次粒子ビームを通過させる穴を設けたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の質量分
析装置用イオン源。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61311811A JPS63168958A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 質量分析装置用イオン源 |
| US07/136,141 US4818863A (en) | 1986-12-27 | 1987-12-21 | Ion source for use in a mass spectrometer |
| GB8729867A GB2202671B (en) | 1986-12-27 | 1987-12-22 | An ion source for use in a mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61311811A JPS63168958A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 質量分析装置用イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168958A JPS63168958A (ja) | 1988-07-12 |
| JPH0429181B2 true JPH0429181B2 (ja) | 1992-05-18 |
Family
ID=18021703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61311811A Granted JPS63168958A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 質量分析装置用イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63168958A (ja) |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP61311811A patent/JPS63168958A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63168958A (ja) | 1988-07-12 |
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