JPH0429202A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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Publication number
JPH0429202A
JPH0429202A JP2136054A JP13605490A JPH0429202A JP H0429202 A JPH0429202 A JP H0429202A JP 2136054 A JP2136054 A JP 2136054A JP 13605490 A JP13605490 A JP 13605490A JP H0429202 A JPH0429202 A JP H0429202A
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JP
Japan
Prior art keywords
resist
layer
color filter
picture elements
dyeing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2136054A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiharu Mochizuki
望月 義治
Ken Okauchi
謙 岡内
Mayumi Inaba
稲葉 麻由実
Kunio Shimizu
邦夫 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Publication of JPH0429202A publication Critical patent/JPH0429202A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the color filter with which the production process is easy and which has excellent smoothness by applying a positive resist on a layer to be dyed and subjecting the resist to imagewise exposing, then developing and dyeing the layer to form 1st color picture elements, subjecting the resist at different points to the imagewise exposing, then processing the resist in the same manner to form 2nd and further another color picture elements. CONSTITUTION:The layer 12 to be dyed is applied on a light transparent substrate 11 and the positive type resist is applied on the layer 12. After a substrate 11 provided with the positive type resist is subjected to the imagewise exposing, the exposed parts of the resist are removed by developing and thereafter, the 1st color picture elements B are formed by dyeing and are subjected to fix processing. The points different from the picture elements B are then, subjected to the imagewise exposing and are developed in the same manner; thereafter, the 2nd color picture elements G are formed by dyeing and are subjected to the fix processing. The picture elements C, etc., having the spectral characteristics different from the spectral characteristics of the picture elements B, G are formed similarly at need by as much as the required number of colors. The color filter with which the production process is easy and which has the excellent smoothness is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカラーフィルターの製造方法に関し、詳しくは
、カラー液晶デイスプレーへの使用に適したカラーフィ
ルターの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a color filter, and more particularly to a method for manufacturing a color filter suitable for use in a color liquid crystal display.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

カラーフィルターの製造方法として、特公昭61−51
286号等に記載のように基板上にセラチン、グリユー
なとの天熱高分子化合物、ボリヒニルアルコールなとの
合成高分子化合物から成る媒染層を設け、該媒染層を露
光、処理等によりパターニング後、そのレリーフ像を色
素で染色して着色層を形成する染色フィルター製造法か
知られている。
As a method for manufacturing color filters,
As described in No. 286, etc., a mordant layer consisting of a natural polymer compound such as ceratin, gryu, or a synthetic polymer compound such as borihinyl alcohol is provided on a substrate, and the mordant layer is exposed to light, treated, etc. A dyed filter manufacturing method is known in which, after patterning, the relief image is dyed with a dye to form a colored layer.

このような方法では、使用可能な染料か多く、フィルタ
ーとして要求される色特性への対〔か比較的容易である
か、各色毎に媒染層の1ノリーフ形成の都度、露光、処
理を要する上、場合によっては防染用の中間層を設ける
といった複雑な工程を要するため、歩留り、平滑性に問
題があると共にコスト高になる。
In such a method, there are many dyes that can be used, and it is relatively easy to match the color characteristics required for the filter, and it requires exposure and processing each time one leaf of mordant layer is formed for each color. In some cases, a complicated process such as providing an intermediate layer for resist dyeing is required, which causes problems in yield and smoothness and increases costs.

又、同し染色カラーフィルターでも特公昭521737
6号等に記載のように、媒染層のレリーフ形成を行わず
、媒染層上に各色画素を形成する毎に、パターニングさ
れたレジストを利用して染色してカラーフィルターを作
成するという方法もあるか、この方法にしても、各色毎
にレジストの塗布、露光、処理、剥離の工程かあり、容
易な方法とは言い難い。
In addition, the same dyed color filter is also available in Special Publication No. 521737.
As described in No. 6, etc., there is also a method of creating a color filter by dyeing using a patterned resist each time a pixel of each color is formed on the mordant layer without forming relief on the mordant layer. However, even with this method, there are steps of resist coating, exposure, processing, and peeling for each color, so it is difficult to say that it is an easy method.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、製造プロセスが容易で平滑性に優れた
カラーフィルターの製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter that is easy to manufacture and has excellent smoothness.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の上記目的は、光透過性基板上に分光特性の異な
る少なくとも2色の画素を有するカラフィルタ−の製造
方法において、 a)被染色層を塗布する工程 b)該被染色層上にポジ型レジストを塗布する工程 C)前記ポジ型レジストを設けた基板に像様露光後、現
像し該レジストの露光部を除去した後、染色により第1
の色画素を作成し、固着処理する工程 d)前記画素とは異なる個所に像様露光後、前記と同様
に現像した後、染色により第2の色画素を作成し、固着
処理する工程 e)必要に応じて、前記2色の画素とは異なる分光特性
を有する画素を、前記と同様にして必要な色数だけ作成
する工程 f)前記基板上に残存しているレジストかあれば、これ
を除去する工程 を含むカラーフィルターの製造方法によって達成される
The above-mentioned object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter having pixels of at least two colors having different spectral characteristics on a light-transmitting substrate, which includes the steps of: a) applying a layer to be dyed; b) applying a positive layer on the layer to be dyed; Step C) Applying a mold resist onto the substrate provided with the positive resist, after imagewise exposure, developing and removing the exposed portion of the resist, and then dyeing the substrate to form a first resist.
Step d) of creating a second color pixel and fixing it; d) After imagewise exposure to a location different from the pixel, developing in the same manner as above, creating a second color pixel by dyeing, and fixing it; e) If necessary, create pixels of the required number of colors in the same manner as above, f) If there is any resist remaining on the substrate, remove it. This is achieved by a color filter manufacturing method including a step of removing.

以下、本発明をより詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明に使用される媒染層として利用できる可染性高分
子化合物としては、通常、染色工程において、水あるい
は親水性溶媒(例えばメタノール、エタノールのような
アルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブのよ
うなセロソロブ、エチレングリコール、プロピレングリ
コールのようなグリコール、以下同様)なとが用いられ
ることを考慮して、これらに膨潤性を有する樹脂が好ま
しい。
The dyeable polymer compound that can be used as the mordant layer used in the present invention is usually used in the dyeing process with water or a hydrophilic solvent (e.g. alcohol such as methanol or ethanol, cellosolub such as methyl cellosolve or ethyl cellosolve). Considering that glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and the like (hereinafter the same) are used, resins that have swelling properties are preferred.

このよっな可染性高分子化合物の中、天、然高分子化合
物としては、セラチン、カゼイノ及びグツニー等の天体
高分子蛋白質か挙げられる。又、ポリビニルアルコール
、可染性官能基を含有するアクリル系合成樹脂、水溶性
ナイロン・ポバール・スチルハゾール樹脂等の合成高分
子化合物も好ましく使用される。
Among these dyeable polymer compounds, examples of natural polymer compounds include celestial polymer proteins such as seratin, caseino, and gutsy. Synthetic polymer compounds such as polyvinyl alcohol, acrylic synthetic resins containing dyeable functional groups, and water-soluble nylon/poval/stilhazole resins are also preferably used.

本発明においては、被染色層中に媒染剤を含むことか好
ましく、媒染剤は前記可染性高分子化合物に対し、重量
比で1/10−10の範囲を含むことが更に好ましい。
In the present invention, it is preferable that the layer to be dyed contains a mordant, and it is more preferable that the mordant is contained in a weight ratio of 1/10 to 10 to the dyeable polymer compound.

好ましい媒染剤の種類としては、下記一般式(1)〜(
IV)に示すものか挙げられるか、これらに限定される
ものではない。
Preferred types of mordant include the following general formulas (1) to (
It is not limited to those shown in IV) or mentioned above.

般式(1) %式% 式中、Aは少なくとも2個のエチレン状不飽和基を含有
るすモノマー単位、Bはα、β−エチレン状不飽和モノ
マー単位、Rは水素原子、メチル基又はエチル基を表す
。X、Y、Zはモル比を示すもので、Xは0〜5モル0
゜、yは0〜90モル0゜、2は10〜100モル%で
ある。
General formula (1) % formula % In the formula, A is a monomer unit containing at least two ethylenically unsaturated groups, B is an α,β-ethylenically unsaturated monomer unit, and R is a hydrogen atom, a methyl group, or Represents an ethyl group. X, Y, and Z indicate molar ratios, and X is 0 to 5 moles.
°, y is 0 to 90 mol 0°, and 2 is 10 to 100 mol%.

般式(I[) イ +A+X +B+y +cH2−cH+z式中、A及び
Bは一般式(1)におけるA及びBとそれぞれ同義であ
り、R1は水素原子又はメチル基、R3及びR7は各々
、低級アルキル基、R4はアルキル基、アラルキル基、
ンクロアルキル基又はノクロアルキルアルキル基、xQ
はアニオンを表し、Xは0.5〜6.0、yはQ−79
,5,2は20〜995である。
General formula (I[) i + A + group, R4 is an alkyl group, an aralkyl group,
cycloalkyl group or chloroalkylalkyl group, xQ
represents an anion, X is 0.5 to 6.0, y is Q-79
, 5, 2 are 20 to 995.

一般式(II[) + A +X + B −+’t +CH2−CH+z
式中、A及びBは一般式(1)におけるA及びBとそれ
ぞれ同義であり、Qは窒素原子又は燐原子を表し、Rl
 、 R2及びR3は各々、炭素環基及びアルキル基か
らなる群から選ばれた基を表す。
General formula (II[) + A +X + B -+'t +CH2-CH+z
In the formula, A and B have the same meanings as A and B in general formula (1), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Rl
, R2 and R3 each represent a group selected from the group consisting of a carbocyclic group and an alkyl group.

M9はアニオンを表し、Xは約0.25〜約5モル%、
yは約0〜約90モル%、Zは約10〜約99モル%で
ある。
M9 represents an anion, X is about 0.25 to about 5 mol%,
y is about 0 to about 90 mol%, and Z is about 10 to about 99 mol%.

一般式 (IV) 式中、単位Aは1個以上のα、β−エチレン系不飽和モ
ノマーから誘導され、Rは水素原子又は炭素原子数1〜
6の置換もしくは非置換アルキル基、Qは置換又は非置
換アルキレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン
基又は−COOR3−もしくは−CONIIR3−基(
式中、R3は置換又は非置換アルキレン基、アリーレン
基又はアリーレンアルキレン基)を表す。R1は水素原
子、置換もしくは非置換アルキル基又はアリール基であ
るか、あるいはQと一緒になって を形成し、各Xは求核剤により離脱可能な離脱基、各Y
は水素原子、不活性(非離脱)基又は−(NH)pQ−
に結合される結合手、E及びFは各々、単結合又は−緒
になって5〜7員へテロ環を完成するのに必要な原子群
を表し、nは0,1又は2、mは12又は3、n+mの
合計は3以下であり、pはO又は1である。Xは重合体
の0〜90重量%、yは重合体の10〜100重量%で
ある。
General formula (IV) where unit A is derived from one or more α,β-ethylenically unsaturated monomers, and R is a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 to
6 is a substituted or unsubstituted alkyl group, Q is a substituted or unsubstituted alkylene group, arylene group, arylene alkylene group, or -COOR3- or -CONIIR3- group (
In the formula, R3 represents a substituted or unsubstituted alkylene group, arylene group, or arylene alkylene group. R1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, or together with Q, each X is a leaving group capable of being removed by a nucleophile, each Y
is a hydrogen atom, an inert (non-leaving) group or -(NH)pQ-
The bonds bonded to E and F each represent a single bond or a group of atoms necessary to combine to complete a 5- to 7-membered heterocycle, n is 0, 1, or 2, and m is 12 or 3, the sum of n+m is 3 or less, and p is O or 1. X is 0 to 90% by weight of the polymer, and y is 10 to 100% by weight of the polymer.

一般式(V) →CH,−C+X  −+ M+y  −+V+ zX
       R’ 式中、Qは窒素又は燐原子を表し、Rl 、 R2及び
R8は各々、炭素環状基又はアルキル基を表し、R4は
水素又はアルキル基を表す。Xoはアニオン、■は少な
くとも二つの重合性エチレン系不飽和残基を含むモノマ
ーの残基、Mは重合性エチレン系不飽和残基を含むモノ
マーの残基を表し、Xy及びZはポリマー中の個々のコ
モノマーの各比率を特性付ける数字、Xは10〜99モ
ル%、yは0〜90モル96、Zは0〜5モル%を表す
General formula (V) →CH, -C+X -+ M+y -+V+ zX
R' In the formula, Q represents a nitrogen or phosphorus atom, Rl, R2 and R8 each represent a carbocyclic group or an alkyl group, and R4 represents hydrogen or an alkyl group. Xo is an anion, ■ is a residue of a monomer containing at least two polymerizable ethylenically unsaturated residues, M is a residue of a monomer containing a polymerizable ethylenically unsaturated residue, and Xy and Z are The numbers characterizing each proportion of the individual comonomers: X stands for 10-99 mol%, y stands for 0-90 mol%96, Z stands for 0-5 mol%.

又、本発明に使用される水溶性染料としては、水あるい
は親水性溶媒あるいは両者の混合溶媒に溶解しうる酸性
染t4、直接染料、反応性染料、カチオン染料か用いら
れ、市販の染料をそのまま、あるいは好ましくは精製し
た上で使用される。これらのうち酸性染料の使用か殊に
好ましい。
In addition, the water-soluble dye used in the present invention may be acid dye T4, direct dye, reactive dye, or cationic dye that can be dissolved in water, a hydrophilic solvent, or a mixture of both, and commercially available dyes may be used as they are. or preferably used after being purified. Among these, acid dyes are particularly preferred.

具体的には、酸性染料としてスミノール・ファーストレ
ットG(C,1,Ac1d Redl18、住友化学工
業社製)、カヤノール・ミーリング・レノt”R5(C
[八cid Redl14、日本化薬社製)、タイアノ
ノド・ファースト・レット3BL (C,1,Ac1d
 Red158、三菱化成工業社製)、カヤノール・1
′二ローNGS (CAcid YellowllO1
日本化薬社製)、スミノル・ファーストイエo −G(
C,1,Ac1d Yellow61、住友化学工業社
製)、アルサリングリーン(C,1,Ac1dGree
n9、東京化成工業社製)、フIJ IJアント・イン
ド・ブルー5C(C,1,Ac1d BIue103、
ヘトスト社製)、カヤノール・サイアニン6B(CAc
id Blue83、日本化薬社製)、アンノド・シア
ニン7BFH(C,1,Ac1d BluelOO1保
土ケ谷化学工業社製)、レット136P、レット137
P、ブルー5P、ブルー43P1  グリーンCFG−
111SPCシアン2P、 PCシアン+6(JJ上、
日本仕草社製)ブラック006P、ブラック+8IPな
と、又、反応性染料としては、プロン  ン  ・  
ブ  リ  リ  ア  ン  ト  イ  エ  ロ
  −  H−5G(C,1,Reactive Ye
llow2、日本仕草社製)、ダイア   ミ   ラ
   ・   ブ  リ   リ   ア   ン  
 ト   ・   し   ッ   ト     GD
(C,1,Reactive Red63、三菱化成工
業社製)、ミカノオングリーン2BS (C,1,Re
active Green7、日本仕草社製)、スミフ
ィックスネービーブルーR(C,1,ReacLive
 Blue20、住友化学工業社製)なと、直接染料と
してはダイレクト・ファースト・イx o −GN (
C,1,Direct Yellow85、日本仕草社
製)、スミライト・レット4B (C,1,Direc
t Red81、住友化学工業社製)、カヤラス・スプ
ラ・ブルーBWL(C,1,DirectBlue23
7 、日本仕草社製)、アイゼン・グリーンGX (C
,1,Direct Green8、住友化学工業社製
)などの1種又は2種以上か適用できる。
Specifically, Suminol Firstlet G (C, 1, Ac1d Redl18, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and Kayanol Milling Renot''R5 (C
[8cid Redl14, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.], Tianonod First Let 3BL (C, 1, Ac1d
Red158, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.), Kayanol 1
'Nirow NGS (CAcid YellowllO1
Nippon Kayaku Co., Ltd.), Suminol First Ye o-G (
C,1,Ac1d Yellow61, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Arsaline Green (C,1,Ac1dGree
n9, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), Fu IJ IJ Ant India Blue 5C (C, 1, Ac1d BIue103,
Hetost), Kayanol Cyanine 6B (CAc
id Blue83, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), annodic cyanine 7BFH (C, 1, Ac1d BlueOO1 manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), Rhett 136P, Rhett 137
P, Blue 5P, Blue 43P1 Green CFG-
111SPC cyan 2P, PC cyan +6 (on JJ,
(manufactured by Nippon Shisosha) Black 006P, Black+8IP, and reactive dyes such as Plon.
Brilliant Yellow - H-5G (C, 1, Reactive Ye
low2, made by Nippon Shisosha), Diamira Brilliant
GD
(C, 1, Reactive Red63, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.), Mikanoon Green 2BS (C, 1, Reactive
active Green7, manufactured by Nippon Shisousha), Sumifix Navy Blue R (C, 1, ReacLive
Blue20, produced by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and direct dyes such as Direct Fast Ix o -GN (
C, 1, Direct Yellow 85, manufactured by Nippon Shisosha), Sumilight Lett 4B (C, 1, Direct
t Red81, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Kayaras Supra Blue BWL (C, 1, DirectBlue23
7, made by Nippon Shisosha), Eisen Green GX (C
, 1, Direct Green 8, manufactured by Sumitomo Chemical Industries, Ltd.), or two or more thereof can be applied.

染色方法としては、前記の染料を水に対して0、01〜
5%、好ましくは005〜29oの1度となるように溶
解した染浴に、被染色層及びレノストパターンの設けら
れた基材を40〜90°Cて1〜30分間浸漬すればよ
い。
As a dyeing method, the above-mentioned dye is added to water at 0.01~
The layer to be dyed and the base material provided with the Renost pattern may be immersed in a dye bath containing 5%, preferably 0.005 to 29°C, at 40 to 90°C for 1 to 30 minutes.

本発明に係るポジ型しンストとしては、FBM120 
 FBM−110、FPM (以上、ダイキン製)、0
EBR−1013、CF2 (以上、東京応化型)、E
BR−1、EBR−9(以上、東し製)、FMRE10
2 (富士薬品型)、MCP−1400、lll5−1
9 (以上、シプレファー・イースト製)等か挙げられ
る。
As a positive type instrument according to the present invention, FBM120
FBM-110, FPM (all manufactured by Daikin), 0
EBR-1013, CF2 (Tokyo Ohka type), E
BR-1, EBR-9 (all manufactured by Toshi), FMRE10
2 (Fuji Yakuhin type), MCP-1400, ll5-1
9 (all manufactured by Cyprefer East), etc.

本発明に使用される光透過性基板は、光透過性を有して
いれば、透明であってもよいし、半透明であってもよい
。更に、透明電極の蒸着工程なとにおいてカラーフィル
ターか高温に曝されることかあるので、基板の素材とし
ては、良好な1執性を有するものか好ましい。
The light-transmitting substrate used in the present invention may be transparent or semi-transparent as long as it has light-transmitting properties. Furthermore, since the color filter is sometimes exposed to high temperatures during the vapor deposition process of transparent electrodes, it is preferable that the material of the substrate has good tenacity.

このような光透過性基板を構成する素材の例としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホン、ポリビニルアルコール及び酢酸セルロースな
との高分子化合物、ソーダガラス、硼珪酸ガラスなとの
ガラス、石英及びサファイアなとの無機物質なとを挙げ
ることかてきる。
Examples of materials that make up such a light-transmissive substrate include:
Examples include polymeric compounds such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone, polyvinyl alcohol and cellulose acetate, glasses such as soda glass and borosilicate glass, and inorganic substances such as quartz and sapphire. Something comes up.

光透過性基板は、上記の素材を用いて、板状、ノート状
あるいはフィルム状なとの形態で使用することかできる
The light-transmitting substrate can be used in the form of a plate, notebook, or film using the above-mentioned materials.

光透過性基板の厚みは、用途及び材質に合わせて適宜に
設定することかできるか、通常は、05μm〜10mm
の範囲内にある。特に、液晶カラーデイスプレー用の光
透過性基板として例えばガラスを用いる場合には、厚み
か03〜2+amの範囲内にあることか好ましい。
The thickness of the light-transmitting substrate can be set appropriately depending on the application and material, but is usually 0.5 μm to 10 mm.
is within the range of In particular, when glass is used as a light-transmissive substrate for a liquid crystal color display, the thickness is preferably within the range of 03 to 2+am.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例を示し、本発明について更に具体的に説明す
る。尚、実施例における9℃表示は、特に断わりない限
り重量%を表す。
EXAMPLES Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Note that 9°C in the examples represents weight % unless otherwise specified.

実施例1 ゼラチン1g当たり、硬膜剤として下記化合物H−1及
びH2を各々、40mg、  5 mg含み、媒染剤と
して下記化合物M−1を1g含む39oのセラチン水溶
液を、厚さ1.1mmの透明な硼珪カラス基板 (10
cmx locm)上に乾燥膜厚かIgmになるよつに
スピンナーにて塗布して被染色層を形成した。
Example 1 A 39o aqueous solution of seratin containing 40 mg and 5 mg of the following compounds H-1 and H2 as hardeners and 1 g of the following compound M-1 as a mordant per 1 g of gelatin was added to a 1.1 mm thick transparent solution. Boron glass substrate (10
cmx locm) to form a layer to be dyed by applying it with a spinner to a dry film thickness of Igm.

次に、前記被染色層を形成済みの基板に、ボ/型し/ス
ト(ンプレー・ファー・イースト製MCP−1400)
を塗布厚か15μmになるようにスピンナーにて塗布L
、レンスト層を形成した。
Next, on the substrate on which the layer to be dyed has already been formed, a printing/imprinting/styling method (MCP-1400 manufactured by NPLAY FAR EAST) is applied.
Apply with a spinner to a coating thickness of 15 μm.
, forming a renst layer.

CH+   CHCH20(C)Iz)+5i(OCH
+)+H−2 [(CH2= CH30+CL)sCCLSolCH2
CH2EINCHICH2SO+hCH。
CH+ CHCH20(C)Iz)+5i(OCH
+)+H-2 [(CH2= CH30+CL)sCCLSolCH2
CH2EINCHICH2SO+hCH.

次に、第1図に示すようなり(青)、G(緑)、R(赤
)の3色のモザイクパターンを有するカラーフィルター
の作製法について以下に説明する。
Next, a method for manufacturing a color filter having a mosaic pattern of three colors (blue), G (green), and R (red) as shown in FIG. 1 will be described below.

尚、各画素のサイズは150μzx150μmである。Note that the size of each pixel is 150 μz×150 μm.

前記のポジ型レジスト層を有するカラス基板(基板Aと
略す)上に、1辺か150μmの正方形開口部を有する
カラーフィルター用クロムマスクを重ね、水銀灯を利用
して第1回目の露光を行った。露光は、第1図において
B部分に相当する位置に行った。
A chromium mask for a color filter having a square opening of 150 μm on one side was layered on the glass substrate (abbreviated as substrate A) having the above-mentioned positive resist layer, and a first exposure was performed using a mercury lamp. . Exposure was carried out at a position corresponding to part B in FIG.

露光された基板Aをレジスト現像してレジストをパター
ニングした後、025%の青色染料Blue5P (日
本仕草社製)を含み、56%の酢酸水溶液によりpHを
5にした40℃の青色染料水溶液に8分間浸漬した後、
タンニン酸、吐酒石の各1%水溶液に50℃、1分間浸
漬して固着処理を行い、青色光透過画素を作成した。
After patterning the resist by developing a resist on the exposed substrate A, a blue dye aqueous solution containing 0.025% blue dye Blue5P (manufactured by Nippon Shiso Co., Ltd.) at 40°C and adjusted to pH 5 with a 56% acetic acid aqueous solution was added. After soaking for a minute,
A fixation process was performed by immersing the film in a 1% aqueous solution of tannic acid and tartarite at 50° C. for 1 minute to create a blue light transmitting pixel.

次に、上記処理後の基板A上に、露光部か第1図におけ
るG部分となるように、別のカラーフィルター用クロム
マスクを配置して同様に露光し、レジスト現像した後、
0.54’6の緑色染料CFG−Ill(日本仕草社製
)を含み56%の酢酸水溶液によりpHを5にした40
°Cの緑色染料水溶液に4分間浸漬した後、同様にして
固着処理を行い、緑色光透過画素を作成した。
Next, another chromium mask for color filter is placed on the substrate A after the above processing so that the exposed area becomes the part G in FIG. 1, exposed in the same way, and the resist is developed.
40 containing 0.54'6 green dye CFG-Ill (manufactured by Nippon Shisosha) and adjusted to pH 5 with a 56% acetic acid aqueous solution.
After being immersed in a green dye aqueous solution at °C for 4 minutes, a fixation process was performed in the same manner to create a green light transmitting pixel.

次に、上記処理後の基板A上に全面露光し、レジスト現
象した後、03%の赤色染料Re+ll37P(日本仕
草社製)を含み、56%の酢酸水溶液によりplを5に
した60°Cの赤色染料水溶液に20分間浸漬すること
により赤色光透過画素を作成した。このようにして作成
したカラーフィルターを試料CFlとした。
Next, the entire surface of the substrate A after the above treatment was exposed to light and subjected to a resist phenomenon, and then heated at 60°C with a 56% acetic acid aqueous solution containing 03% red dye Re+ll37P (manufactured by Nippon Shisosha Co., Ltd.) at a PL of 5. A red light transmitting pixel was created by immersing it in a red dye aqueous solution for 20 minutes. The color filter thus produced was designated as sample CF1.

比較例1 特公昭61−51286号の実施例に従い、各色画素毎
に被染色層のバターニングを行う染色方法を用いてカラ
ーフィルターを作成し、試料CF−2とした。
Comparative Example 1 A color filter was prepared according to the example of Japanese Patent Publication No. 61-51286 using a dyeing method in which the layer to be dyed was patterned for each color pixel, and was designated as sample CF-2.

比較例2 特公昭52−17376号の実施例に従い、各色画素に
染色する毎にレジストの塗布、パターニングを行う方法
を行いカラーフィルターを作成し、試料CF−3とした
Comparative Example 2 According to the example of Japanese Patent Publication No. 52-17376, a color filter was prepared by applying a resist and patterning each time each color pixel was dyed, and designated as sample CF-3.

実施例2 このようにして得られたカラーフィルターの試料CF−
1及び2のカラーフィルター表面の平滑性レベルを(掬
ランク・テーラ−・ホブソン製タリ・ステップにより求
めた。1画素において(他画素との境界部も含む)凹凸
の差を、B、G、R各画素について、各々30ケ所測定
し、計90ケ所の平均を求めt:ところ、CF−1は0
.08μmであるのに対して、CF−2は0.41μm
あった。
Example 2 Color filter sample CF- thus obtained
The smoothness level of the surface of the color filters 1 and 2 was determined using Taly Step manufactured by Kiki Rank Taylor Hobson. Measurements were taken at 30 locations for each R pixel, and the average of the total of 90 locations was calculated.
.. 08μm, while CF-2 is 0.41μm
there were.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の製造方法に基つくカラーフィルターは、被染色
層及びレノストの塗布、バターニングの回数か、他の染
色法によるカラーフィルターより少なく、製造工程か容
易で低コストであると共に、表面平滑性にも優れている
The color filter based on the manufacturing method of the present invention requires less number of times of dyeing layer, lenost coating, and buttering than color filters made by other dyeing methods, and the manufacturing process is easy and low cost, and the surface smoothness is low. It is also excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の製造方法により得られるカラーフィル
ターの一例を示す断面図であり、第2図は本発明の製造
方法により得られるカラーフィルターを用いた液晶カラ
ーデイスプレーの一例を示す断面説明図である。 11  光透過性基板  12−有色部24  カラー
フィルタ 25a、 25b  偏光板  26  液晶27a、
27b−電極
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a color filter obtained by the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal color display using the color filter obtained by the manufacturing method of the present invention. It is a diagram. 11 Light-transmitting substrate 12-Colored portion 24 Color filter 25a, 25b Polarizing plate 26 Liquid crystal 27a,
27b-electrode

Claims (1)

【特許請求の範囲】 光透過性基板上に分光特性の異なる少なくとも2色の画
素を有するカラーフィルターの製造方法において、 a)光透過性基板上に被染色層を塗布する工程b)該被
染色層上にポジ型レジストを塗布する工程 c)前記ポジ型レジストを設けた基板に像様露光後、現
像し該レジストの露光部を除去した後、染色により第1
の色画素を作成し、固着処理する工程 d)前記画素とは異なる個所に像様露光後、前記と同様
に現像した後、染色により第2の色画素を作成し、固着
処理する工程 e)必要に応じて、前記2色の画素とは異なる分光特性
を有する画素を、前記と同様にして必要な色数だけ作成
する工程 f)前記基板上に残存しているレジストがあれば、これ
を除去する工程 を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
[Claims] A method for manufacturing a color filter having pixels of at least two colors with different spectral characteristics on a light-transmitting substrate, comprising: a) applying a layer to be dyed on the light-transmitting substrate; b) the dyeing layer; c) Step of applying a positive resist on the layer c) After imagewise exposure to the substrate on which the positive resist is provided, after developing and removing the exposed part of the resist, a first resist is applied by dyeing.
Step d) of creating a second color pixel and fixing it; d) After imagewise exposure to a location different from the pixel, developing in the same manner as above, creating a second color pixel by dyeing, and fixing it; e) If necessary, create pixels of the required number of colors in the same manner as above, f) If there is any resist remaining on the substrate, remove it. A method for producing a color filter, comprising a step of removing it.
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