JPH0429351A - Moving apparatus for wafer frame - Google Patents
Moving apparatus for wafer frameInfo
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- JPH0429351A JPH0429351A JP2133846A JP13384690A JPH0429351A JP H0429351 A JPH0429351 A JP H0429351A JP 2133846 A JP2133846 A JP 2133846A JP 13384690 A JP13384690 A JP 13384690A JP H0429351 A JPH0429351 A JP H0429351A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
ウェハ用フレームの移動装置に関し、
ウェハ用フレームを所定の姿勢で移動可能にして塵埃の
発生をなくすようにすることを目的とし、ウェハ用フレ
ームの環状部の第1の位置の下面に係合する少なくとも
1つの第1の支点部材と、ウェハ用フレームの環状部の
第2の位置の上面に上方から下方に移動可能に係合する
第2の支点部材と、該第1の支点部材及び該第2の支点
部材を支持して移動可能な支持手段とを備えた構成とす
る。[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding a wafer frame moving device, the purpose is to make the wafer frame movable in a predetermined posture and eliminate dust generation. at least one first fulcrum member that engages with the lower surface of the annular portion of the wafer frame at a second position; and a second fulcrum member that engages with the upper surface of the annular portion of the wafer frame in a movable manner from above to below. and support means movable while supporting the first fulcrum member and the second fulcrum member.
本発明はシリコンウェハ等をテープを介して取りつけた
ウェハ用フレームの移動装置に関する。The present invention relates to a moving device for a wafer frame to which a silicon wafer or the like is attached via a tape.
最近、集積回路部品(IC)はより微細化及び高集積化
されるようになってきており、それと同時に小さな塵埃
の混入が製品の品質に影響を与えるようになっている。Recently, integrated circuit components (ICs) have become smaller and more highly integrated, and at the same time, the quality of products has been affected by the inclusion of small particles of dust.
そのため、集積回路部品の製造工程においては、防塵対
策に細心の注意が払われている。Therefore, careful attention is paid to dust prevention measures in the manufacturing process of integrated circuit components.
一般に、半導体の製造工程はエツチングや不純物拡散等
の処理を行う前工程と、ダイシングやボンディング等の
処理を行う後工程とからなる。従来は特に前工程におい
て塵埃の混入の防止対策を完全に行っていたが、最近で
は後工程でも塵埃の混入の防止対策を行うことが求めら
れるようになってきている。In general, a semiconductor manufacturing process consists of a pre-process such as etching and impurity diffusion, and a post-process such as dicing and bonding. In the past, measures were taken to completely prevent dust from entering, especially in the pre-process, but recently it has become necessary to take measures to prevent dust from entering into the post-process as well.
前工程における処理が終了したシリコンウェハを後工程
で処理するために、ウェハ用フレームが使用されている
。ウェハ用フレームは環状の板状フレームであり、環状
部内が開口部分になっている。このウェハ用フレームの
全面に粘着テープを貼り、ウェハ用フレームの環状部内
の開口部分にあられれる粘着テープの粘着面にシリコン
ウェハを取りつけるようになっている。このようにして
シリコンウェハをウェハ用フレームに取りつけた状態で
、例えばダイシングやその他の処理に運ぶ。A wafer frame is used to process a silicon wafer that has been processed in a previous process in a subsequent process. The wafer frame is an annular plate-shaped frame, and the inside of the annular portion is an opening. Adhesive tape is applied to the entire surface of this wafer frame, and the silicon wafer is attached to the adhesive surface of the adhesive tape that is formed in the opening in the annular portion of the wafer frame. The silicon wafer thus attached to the wafer frame is transported to, for example, dicing or other processing.
また、後工程ではシリコンウェハを1個ずつ処理してい
たのでは効率が悪いので、フレームキャリアに複数のウ
ェハ用フレーム(及びシリコンウェハ)を装填し、フレ
ームキャリアごと複数のシリコンウェハを処理するよう
になっている。このフレームキャリアはシリコンウェハ
を取りつけたウェハ用フレームを引き出し状に収める箱
に似たものであり、箱の前面と底面が開口しているとと
もに、両側面に平行な溝が設けられており、ウェハ用フ
レームの外縁部をその溝に沿って引き出し状に出し入れ
できるようになっている。In addition, in the post-process, processing silicon wafers one by one is inefficient, so we loaded multiple wafer frames (and silicon wafers) onto a frame carrier and processed multiple silicon wafers with each frame carrier. It has become. This frame carrier is similar to a box that stores a wafer frame with a silicon wafer attached in a drawer shape.The front and bottom of the box are open, and parallel grooves are provided on both sides to hold the wafer frame. The outer edge of the frame can be taken in and out like a drawer along the groove.
このようにしてフレームキャリアに複数のウェハ用フレ
ーム(及びシリコンウェハ)を装填シた場合、例えば抜
き取り検査等のために、複数のウェハ用フレームの中か
ら1個のウェハ用フレームを引き出す必要があった。When multiple wafer frames (and silicon wafers) are loaded into the frame carrier in this way, it may be necessary to pull out one wafer frame from among the multiple wafer frames for, for example, sampling inspection. Ta.
フレームキャリアからウェハ用フレームを引き出すため
に、従来は第5図、又は第6図に示されるような移動装
置が使用されていた。第5図及び第6図において、フレ
ームキャリア1は溝2を有し、シリコンウェハを取りつ
けたウェハ用フレーム3が8溝2に挿入されている。溝
2の高さ方向の幅はウェハ用フレーム3の幅よりもわず
かに大きく、ウェハ用フレーム3は溝2の底部に載って
いる。Conventionally, a moving device as shown in FIG. 5 or 6 has been used to pull out the wafer frame from the frame carrier. In FIGS. 5 and 6, a frame carrier 1 has grooves 2, and a wafer frame 3 with a silicon wafer attached thereto is inserted into eight grooves 2. The width of the groove 2 in the height direction is slightly larger than the width of the wafer frame 3, and the wafer frame 3 rests on the bottom of the groove 2.
第5図の移動装置の場合には、枢着ピン5で連結された
上下の爪6a、6bを有するグリッパ7が使用される。In the case of the moving device of FIG. 5, a gripper 7 having upper and lower claws 6a, 6b connected by a pivot pin 5 is used.
グリッパ7はフレームキャリアlの正面からウェハ用フ
レーム3の前縁に向がって矢印aで示される方向に移動
され、ウェハ用フレーム3の前縁をわずかに通過した位
置で上爪6aが下爪6bに向かって作動されてそれらの
間にウェハ用フレーム3をつかみ、それからグリッパ7
が矢印aとは逆の方向に移動され、よってウェハ用フレ
ーム3を引き出す。The gripper 7 is moved in the direction shown by arrow a from the front of the frame carrier l toward the front edge of the wafer frame 3, and the upper claw 6a is moved downward at a position slightly past the front edge of the wafer frame 3. The gripper 7 is actuated towards the claws 6b to grip the wafer frame 3 between them.
is moved in the direction opposite to the arrow a, thereby pulling out the wafer frame 3.
第6図の移動装置の場合には、フレームキャリアlの開
口した底部の下方にベルトコンベア9が配置される。フ
レームキャリア1は図示しない支持手段によって矢印す
で示される下方向に段々に下降可能になっており、この
下降動作にともなっテウエハ用フレーム3がベルトコン
ベア9に乗り、ベルトコンベア9を例えば矢印Cの方向
に駆動することによってウェハ用フレーム3を移動する
。In the case of the moving device of FIG. 6, a belt conveyor 9 is arranged below the open bottom of the frame carrier l. The frame carrier 1 can be lowered step by step in the downward direction indicated by the arrow C by means of support means (not shown), and with this downward movement, the wafer frame 3 rides on the belt conveyor 9, and the belt conveyor 9 is moved, for example, in the direction indicated by the arrow C. The wafer frame 3 is moved by driving in the direction.
上記したように、ウェハ用フレーム3は環状の板状フレ
ームであり、シリコンウェハはその環状部内の開口部分
において粘着テープに取りつけられている。第6図に示
す従来の移動装置では、ベルトコンベア9がウェハ用フ
レーム3とともにシリコンウェハに接触し、ウェハ用ク
レーム3及びシリコンウェハを擦ることによって塵埃の
発生の原因を作る。さらに、第6図に示す従来の移動装
置では、下段のウェハ用フレーム3から上段のウェハ用
フレーム3へ向かって順番に取り出すことしかできず、
抜き取り検査のために任意の位置のウェハ用フレーム3
を取り出すことができない。As described above, the wafer frame 3 is an annular plate-shaped frame, and the silicon wafer is attached to an adhesive tape at the opening in the annular portion. In the conventional moving device shown in FIG. 6, the belt conveyor 9 contacts the silicon wafer together with the wafer frame 3, causing dust to be generated by rubbing the wafer claim 3 and the silicon wafer. Furthermore, with the conventional moving device shown in FIG. 6, it is only possible to take out the wafers in order from the lower wafer frame 3 to the upper wafer frame 3.
Frame 3 for wafers in any position for sampling inspection
cannot be taken out.
第5図に示す従来の移動装置では、ウエノ\用フレーム
3をフレームキャリア1の溝2に対して平行に取り出す
ことができないという問題があった。The conventional moving device shown in FIG. 5 has a problem in that the Ueno frame 3 cannot be taken out parallel to the groove 2 of the frame carrier 1.
即ち、上下のウェハ用フレーム3間の間隔が比較的に小
さいので、グリッパ7の上下の爪6a6bの寸法も制約
されて、グリッパ7をフレームキャリア1内に深く挿入
することができず、グリッパ7はその移動方向(矢印a
)で見たウエノ\用フレーム3の前縁部のみをつかむよ
うになる。ウェハ用フレーム3はステンレス鋼製でかな
り重いので、ウェハ用フレーム3の前縁部のみをつかむ
とウェハ用フレーム3の後方部分が垂れるようになる。That is, since the distance between the upper and lower wafer frames 3 is relatively small, the dimensions of the upper and lower claws 6a6b of the gripper 7 are also restricted, making it impossible to insert the gripper 7 deeply into the frame carrier 1, and the gripper 7 is the direction of movement (arrow a
) You will be able to grasp only the front edge of the frame 3 for Ueno\. Since the wafer frame 3 is made of stainless steel and is quite heavy, if only the front edge of the wafer frame 3 is grasped, the rear part of the wafer frame 3 will sag.
なお、グリッパ7をフレームキャリア1内に深く挿入す
るのは困難である。このようにして、第5図に示される
ようにウエノ\用フレーム3を傾斜した状態で引き出す
とき、ウェハ用クレーム3の後方部分がフレームキャリ
ア1の溝2の底部を擦るようになり、塵埃の発生の原因
となっていた。Note that it is difficult to insert the gripper 7 deeply into the frame carrier 1. In this way, when the wafer frame 3 is pulled out in an inclined state as shown in FIG. was the cause of the outbreak.
特に、ウェハ用フレーム3がステンレス鋼製であり、フ
レームキャリア1がアルミニウム製の場合には、フレー
ムキャリア1が削れやすく、微小な切粉がシリコンウェ
ハ\に付着することがあった。Particularly, when the wafer frame 3 is made of stainless steel and the frame carrier 1 is made of aluminum, the frame carrier 1 is likely to be scraped and fine chips may adhere to the silicon wafer.
本発明の目的はウェハ用フレームを所定の姿勢で移動可
能にして塵埃の発生をなくすようにしたウェハ用フレー
ムの移動装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a wafer frame moving device that allows the wafer frame to be moved in a predetermined posture and eliminates the generation of dust.
本発明によるウェハ用クレームの移動装置は、環状の板
状ウェハ用フレームに貼ったテープに該ウェハ用フレー
ムの環状部内の開口部分においてウェハを取りつけるよ
うにしたウェハ用フレームの移動装置であって、該ウェ
ハ用フレームの環状部の第1の位置の下面に係合する少
なくとも1つの第1の支点部材と、該ウェハ用フレーム
の環状部の第2の位置の上面に上方から下方に移動可能
に係合する第2の支点部材と、該第1の支点部材及び該
第2の支点部材を支持して移動可能な支持手段を備え、
該第1の位置が該第2の位置よりも内奥側に設けられた
ことを特徴とするものである。A claimed moving device for a wafer according to the present invention is a moving device for a wafer frame, in which a wafer is attached to a tape attached to an annular plate-shaped wafer frame at an opening in an annular portion of the wafer frame, at least one first fulcrum member that engages with the lower surface of the annular portion of the wafer frame in a first position; and a first fulcrum member that is movable from above to downward on the upper surface of the annular portion of the wafer frame in a second position. comprising a second fulcrum member that engages with the second fulcrum member, and support means that is movable while supporting the first fulcrum member and the second fulcrum member;
The first position is located further inside than the second position.
〔作 用〕
上記の構成では、第1の支点部材と第2の支点部材とが
ウェハ用フレームの環状部の外縁から内部側へ向かう線
から見て異なった第1の位置及び第2の位置でウェハ用
フレームに係合する。第1の位置及び第2の位置はウェ
ハ用フレームの全体から見ると第1の支点部材と第2の
支点部材の挿入方向に対して前縁側に偏った位置にある
が、第1の位置は第2の位置よりも内奥側にある。従っ
て、第1の支点部材が第1の位置でウェハ用フレームの
下面に係合すると、ウェハ用フレームは第1の位置より
前方部分が持ち上げられて後方部分が垂れた姿勢になる
が、それからさらに第2の支点部材が第1の位置よりも
前にある第2の位置でウェハ用フレームの上面に上方か
ら下方に移動しつつ係合すると、ウェハ用フレームが第
1の支点部材を支点として旋回し、後方部分が持ち上が
って所定の姿勢をとるようになる。これによって、ウェ
ハ用フレーム及びそれに取りつけられたウェハは他の部
材に擦ることなく移動されることができる。[Function] In the above configuration, the first fulcrum member and the second fulcrum member are located at different first and second positions when viewed from a line from the outer edge of the annular portion of the wafer frame toward the inside. to engage the wafer frame. The first position and the second position are located toward the front edge side with respect to the insertion direction of the first fulcrum member and the second fulcrum member when viewed from the entire wafer frame, but the first position is It is located further inside than the second position. Therefore, when the first fulcrum member engages with the lower surface of the wafer frame at the first position, the front part of the wafer frame is lifted from the first position and the rear part hangs down. When the second fulcrum member engages with the upper surface of the wafer frame while moving from above to below at a second position located in front of the first position, the wafer frame pivots about the first fulcrum member. Then, the rear part lifts up and assumes a predetermined posture. This allows the wafer frame and the wafer attached thereto to be moved without rubbing against other members.
第1図及び第2図は本発明の実施例によるウェハ用フレ
ームの移動装置を示し、第3図はウェハ用フレームを装
填するフレームキャリアを示している。1 and 2 show a wafer frame moving device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows a frame carrier into which a wafer frame is loaded.
第1図から第3図において、ウェハ用フレーム10は円
形又は丸みのある正方形の形状の環状の板状フレームで
あり、ウェハ用フレーム10の外形形状に相当する粘着
テープ12がウェハ用フレーム10に貼られ、その中心
部にシリコンウェハ14が置かれる。シリコンウェハ1
4は粘着テープ12の粘着力により固定される。例えば
、このシリコンウェハ14をウェハ用フレーム10ごと
グイシング工程にかけることができ、この場合には、切
断されたシリコンチップがばらばらになることなく元の
位置で粘着テープ12に保持される。なお、ウェハ用フ
レーム10はグイシング工程等において位置決めピン(
図示せず)と係合する基準スリ7HOa、10bを備え
ている。1 to 3, the wafer frame 10 is an annular plate-shaped frame having a circular or rounded square shape, and an adhesive tape 12 corresponding to the external shape of the wafer frame 10 is attached to the wafer frame 10. The silicon wafer 14 is placed in the center of the adhesive. silicon wafer 1
4 is fixed by the adhesive force of the adhesive tape 12. For example, this silicon wafer 14 can be subjected to a guising process together with the wafer frame 10, and in this case, the cut silicon chips are held in their original positions by the adhesive tape 12 without falling apart. Note that the wafer frame 10 has positioning pins (
(not shown) are provided with reference pickpockets 7HOa and 10b that engage with the reference slots 7HOa and 10b.
第3図において、フレームキャリア16は2個の側板1
8 、20を複数のクロスロッド22で連結してなるも
のである。各側板18 、20の内面には複数の平行な
溝24が設けられ、ウェハ用フレーム10の対向側縁部
が両側の溝24に挿入されるようになっている。ウェハ
用フレーム10の大きさは、直径(或いは一辺)212
mm、厚さ1.2工である。これに対して、各溝24間
のピッチは4.76rnrnであり、フレームキャリア
16に支持されたときの上下のウェハ用フレーム10間
の間隙は3.56鮒である。これは、例えばウェハ用フ
レーム10を爪によってつかむ場合には爪の厚さが3.
56a+m以下(爪の上下運動があればそれよりもかな
り小さくなる)でなければならないことを意味し、爪を
フレームキャリア16の奥深く挿入することが難しいの
でフレームキャリア16の前縁部に係合するようにしな
ければならないことを意味する。また、8溝24の断面
は略V字形であり、底部が水平になっていて、最大開口
部となるVの開口部の幅は3ml11である。従って、
各溝24内でのウェハ用フレーム10の最大許容持ち上
げ量は1.8mm(Vのせばまった部位ではさらに小さ
くなる〉である。従って、フレームキャリア16に支持
されたウェハ用フレーム10を移動する場合、ウェハ用
フレーム10をつかんで上方にある程度持ち上げて、そ
れから水平方向に移動することは実質的に難しい。In FIG. 3, the frame carrier 16 has two side plates 1
8 and 20 are connected by a plurality of cross rods 22. A plurality of parallel grooves 24 are provided on the inner surface of each side plate 18, 20, and the opposing side edges of the wafer frame 10 are inserted into the grooves 24 on both sides. The size of the wafer frame 10 is a diameter (or one side) 212
mm, thickness 1.2 mm. On the other hand, the pitch between each groove 24 is 4.76rnrn, and the gap between the upper and lower wafer frames 10 when supported by the frame carrier 16 is 3.56mm. For example, when the wafer frame 10 is gripped by a claw, the thickness of the claw is 3.5 mm.
56a+m (it will be much smaller if there is vertical movement of the pawl), which means that it is difficult to insert the pawl deep into the frame carrier 16, so it will engage the front edge of the frame carrier 16. This means that you must do so. Further, the cross section of the eight grooves 24 is approximately V-shaped, the bottom is horizontal, and the width of the V-shaped opening, which is the maximum opening, is 3 ml11. Therefore,
The maximum permissible lifting amount of the wafer frame 10 in each groove 24 is 1.8 mm (it becomes even smaller in areas where the V is narrower). Therefore, the wafer frame 10 supported by the frame carrier 16 is moved. In this case, it is substantially difficult to grasp the wafer frame 10, lift it upward to some extent, and then move it horizontally.
第1図及び第2図において、本発明によるウェハ用フレ
ーム10の移動装置は、フレームキャリア16から任意
の位置のウェハ用フレーム10を取り出すのに適するも
のである。この移動装置は、サポートアーム30に取り
つけられたサポートプレート32を有し、サポートアー
ム30を図示しないエアシリンダ等の駆動源に連結し、
サポートプレート32がウェハ用フレーム10とほぼ平
行にその環状部の外縁から内部側(矢印A)へあるいは
逆に内部側から外縁へ移動可能になっている。サポート
プレート32はウェハ用フレーム10の直径(又は−辺
〉とほぼ同じ幅を有している。1 and 2, the wafer frame 10 moving device according to the present invention is suitable for taking out the wafer frame 10 at an arbitrary position from the frame carrier 16. This moving device has a support plate 32 attached to a support arm 30, and connects the support arm 30 to a drive source such as an air cylinder (not shown).
The support plate 32 is movable substantially parallel to the wafer frame 10 from the outer edge of the annular portion to the inner side (arrow A), or vice versa from the inner side to the outer edge. The support plate 32 has a width that is approximately the same as the diameter (or side) of the wafer frame 10.
サポートプレート32には3個の支点部材34 、36
゜38が移動方向Aの方向に向いて取りつけられている
。2個の外側の支点部材34 、36はそれぞれサポー
トプレート32の各端部近くに配置され、中央の支点部
材38はサポートプレート32の中央部に取りつけられ
ている。この移動装置が第3図のフレームキャリア16
からウェハ用フレーム1oを取り出すために使用される
ときに、外側の支点部材34 、36がフレームキャリ
ア16の側板18 、20のわずかに内寄りの位置にお
いてウェハ用フレーム10の環状部の丸みのある部位に
係合し、中央の支点部材38がウェハ用フレームlOの
環状部の正面中央部に係合するようになっている。外側
の支点部材34 、36は中央の支点部材38よりも長
くなっており、外側の支点部材34 、36は中央の支
点部材38よりも内奥側の位置においてウェハ用フレー
ム10に係合することになる。外側の支点部材34 、
36がウェハ用フレーム10の環状部の丸みのある部位
に係合するように構成することにより、外側の支点部材
34 、36及び中央の支点部材38をともに上下のウ
ェハ用フレーム101’!5に深く挿入することなく且
つウェハ用フレーム10の前縁部に係合させることがで
きる。The support plate 32 has three fulcrum members 34 and 36.
38 is mounted facing the direction of movement A. Two outer fulcrum members 34 , 36 are each located near each end of support plate 32 , and a central fulcrum member 38 is attached to the center of support plate 32 . This moving device is the frame carrier 16 shown in FIG.
When used to take out the wafer frame 1o from the wafer frame 10, the outer fulcrum members 34, 36 are positioned slightly inwardly of the side plates 18, 20 of the frame carrier 16 so that the rounded part of the wafer frame 10 The central fulcrum member 38 is adapted to engage with the front central portion of the annular portion of the wafer frame IO. The outer fulcrum members 34 and 36 are longer than the central fulcrum member 38, and the outer fulcrum members 34 and 36 engage with the wafer frame 10 at a position further inside than the central fulcrum member 38. become. outer fulcrum member 34,
36 is configured to engage with a rounded portion of the annular portion of the wafer frame 10, so that both the outer fulcrum members 34 and 36 and the central fulcrum member 38 are connected to the upper and lower wafer frames 101'! It can be engaged with the front edge of the wafer frame 10 without being deeply inserted into the wafer frame 10.
さらに、外側の支点部材34 、36はウェハ用フレー
ム10の下面に係合し、中央の支点部材38はウェハ用
フレーム10の上面に係合するようになっている。サポ
ートプレート32には前後方向に貫通する穴40が設け
られており、この中央の支点部材38は穴40を通して
配置され、その後方部において、サポートプレート32
に固定された固定部32aに枢着ピン42によって旋回
可能に連結されている。サポートプレート32にはエア
シリンダ又はソレノイドアクチニエータ等の駆動手段4
4が取りつけられており、この駆動手段44の作動部分
が中央の支点部材38に係合し、通常は中央の支点部材
38をサポートプレート32に対して小さな角度をなす
上昇位置に保持し、ウェハ用フレーム10をつかむとき
に中央の支点部材38を上方から下方に所定のストロー
クだけ移動させるようになっている。Further, the outer fulcrum members 34 and 36 engage with the lower surface of the wafer frame 10, and the central fulcrum member 38 engages with the upper surface of the wafer frame 10. The support plate 32 is provided with a hole 40 penetrating in the front-rear direction, and the central fulcrum member 38 is disposed through the hole 40, and at the rear thereof, the support plate 32
It is rotatably connected by a pivot pin 42 to a fixed part 32a fixed to. The support plate 32 is equipped with a drive means 4 such as an air cylinder or a solenoid actiniator.
4 is mounted, the actuating portion of which drive means 44 engages the central fulcrum member 38 and normally holds the central fulcrum member 38 in a raised position at a small angle with respect to the support plate 32, so that the wafer When gripping the frame 10, the central fulcrum member 38 is moved from above to below by a predetermined stroke.
さらに、サポートプレート32には中央の支点部材38
の下方の位置にストッパ46が設けられており、ストッ
パ46はサポートプレート32と同じ位置でウェハ用フ
レーム10の下面に係合するようになっている。なお、
外側の支点部材34 、36はそれぞれ丸棒で作られ、
長さ方向の位置を調節可能にサポートプレート32に取
りつけられる。外側の支点部材34 、36を丸棒で作
ることによって、かなり重いウェハ用フレーム10を支
持するときの強度を与えるようになっている。中央の支
点部材38及びストッパ46は板材で作られる。外側の
支点部材34 、36を形成する丸棒は先端部の段面3
4a、36aから先が上半分を平坦にされ、且つその下
側の表面に先細のテーパーを設けである。段面34a、
36aはウェハ用フレーム10の環状部の丸みに対応し
て傾斜している。Furthermore, the support plate 32 has a central fulcrum member 38.
A stopper 46 is provided at a lower position, and the stopper 46 engages with the lower surface of the wafer frame 10 at the same position as the support plate 32. In addition,
The outer fulcrum members 34 and 36 are each made of a round bar,
It is attached to the support plate 32 so that its longitudinal position can be adjusted. By making the outer fulcrum members 34 and 36 from round bars, they provide strength when supporting the wafer frame 10, which is quite heavy. The central fulcrum member 38 and the stopper 46 are made of plate material. The round rods forming the outer fulcrum members 34 and 36 have stepped surfaces 3 at their tips.
4a, 36a, the upper half is flattened, and the lower surface thereof is tapered. Step surface 34a,
36a is inclined in accordance with the roundness of the annular portion of the wafer frame 10.
次に第4A図から第4C図を参照してこの移動装置が第
3図のフレームキャリア16からウェハ用フレーム10
を取り出す作用について説明する。Next, referring to FIGS. 4A to 4C, this moving device is moved from the frame carrier 16 of FIG. 3 to the wafer frame 10.
The action of extracting the will be explained.
第4A図に示されるように、外側の支点部材34゜36
及び中央の支点部材38は矢印Aの方向にフレームキャ
リア16に挿入される。第4B図に示されるように、外
側の支点部材34 、36がウェハ用フレーム10の下
面に係合し且つ中央の支点部材38がウェハ用フレーム
10の上面に係合する位置(第2図に示される位置)に
もたらされる。このとき、中央の支点部材38は上昇位
置にあってウェハ用フレーム10に実質的に当接してい
す、外側の支点部材34゜36はウェハ用フレーム10
の前方部分をわずかに持ち上げ且つ後方部分は溝24の
底部に着いた傾斜状態にする。As shown in FIG. 4A, the outer fulcrum members 34°36
and the central fulcrum member 38 is inserted into the frame carrier 16 in the direction of arrow A. As shown in FIG. 4B, the outer fulcrum members 34 and 36 engage with the lower surface of the wafer frame 10, and the central fulcrum member 38 engages with the upper surface of the wafer frame 10 (as shown in FIG. 2). (position shown). At this time, the central fulcrum member 38 is in the raised position and is substantially in contact with the wafer frame 10, and the outer fulcrum members 34 and 36 are in the wafer frame 10.
The front part of the groove 24 is slightly raised and the rear part is slanted to the bottom of the groove 24.
第4C図に示されるように、そこで駆動手段44を作動
させ、中央の支点部材38を上方から下方に所定のスト
ロークだけ移動させる。すると中央の支点部材38はウ
ェハ用フレーム10の上面に上方から下方に移動しつつ
係合し、ウェハ用フレーム10が外側の支点部材34
、36を支点として旋回し、後方部分が持ち上がって溝
24と平行な所定の姿勢をとるようになる。そこで外側
の支点部材34 、36及び中央の支点部材38を矢印
Aとは反対の方向に移動シて、ウェハ用フレーム10を
フレームキャリア16から取り出し、所望の位置へ運ぶ
ことができる。As shown in Figure 4C, the drive means 44 is then actuated to move the central fulcrum member 38 from above to below by a predetermined stroke. Then, the central fulcrum member 38 engages with the upper surface of the wafer frame 10 while moving from above to below, and the wafer frame 10 engages with the upper surface of the wafer frame 10 .
, 36 as fulcrums, and the rear portion lifts up to assume a predetermined attitude parallel to the groove 24. The outer fulcrum members 34, 36 and the central fulcrum member 38 can then be moved in the direction opposite to arrow A to remove the wafer frame 10 from the frame carrier 16 and transport it to a desired position.
よってウェハ用フレーム10及びそれに取りつけられた
シリコンウェハ14は実質的に溝24に擦ることなく移
動されることができ、また、フレームキャリア16のあ
らゆるウェハ用フレーム10を任意に取り出すことがで
きる。また、中央の支点部材38と対向するストッパ4
6が設けられていると、ウェハ用フレーム10を中央の
支点部材38とストッパ46と(7)間1.1持し、ウ
ェハ用フレーム10が所定の姿勢をとった状態を確実に
維持しつつ移動できるようになる。Therefore, the wafer frame 10 and the silicon wafer 14 attached thereto can be moved substantially without rubbing against the groove 24, and any wafer frame 10 of the frame carrier 16 can be taken out at will. Also, the stopper 4 facing the central fulcrum member 38
6 is provided, the wafer frame 10 is held between the central fulcrum member 38 and the stopper 46 (7), and the wafer frame 10 is reliably maintained in a predetermined posture. Be able to move.
以上説明したように、本発明によれば、ウェハ用フレー
ムの環状部の第1の位置の下面に係合する少なくとも1
つの第1の支点部材と、ウェハ用フレームの環状部の第
2の位置の上面に上方から下方に移動可能に係合する第
2の支点部材と、該第1の支点部材及び該第2の支点部
材を支持して移動可能な支持手段とを備え、該第1の位
置が該第2の位置よりも内奥側に設けられた構成とした
ので、ウェハ用フレームを第1の支点部材を支点として
旋回し、後方部分が持ち上がって所定の姿勢をとるよう
にして支持することができ、よって他の部材に擦ること
なく移動されることができる。As explained above, according to the present invention, at least one
a second fulcrum member that engages with the upper surface of the annular portion of the wafer frame in a movable manner from above to below; Since the wafer frame is provided with a supporting means movable while supporting the fulcrum member, and the first position is provided further inward than the second position, the wafer frame can be moved by supporting the fulcrum member. It can be supported by pivoting as a fulcrum, with the rear portion lifted up to assume a predetermined posture, and thus can be moved without rubbing against other members.
第1図は本発明の実施例の移動装置及びウェハ用フレー
ムを示す斜視図、第2図は移動装置でつエバ用フレーム
をつかんだ位置を示す第1図と同様の斜視図、第3図は
フレームキャリアを示す斜視図、第4A図から第4C図
は第1図の装置の作動を説明する説明図、第5図は従来
の移動装置を示す図、第6図は従来の他の移動装置を示
す図である。
10・・・ウェハ用フレーム、12・・・テープ、14
・・・シリコンウェハ 16・・・フレームキャリア
、24・・・溝、 32・・・サポートプ
レート、34 、36・・・外側の支点部材、
38・・・中央の支点部材、 44・・・駆動手段、4
6・・・ストッパ。
フレームキャリアを示す図
第3図1 is a perspective view showing a moving device and a wafer frame according to an embodiment of the present invention; FIG. 2 is a perspective view similar to FIG. 1 showing a position where the evaporator frame is gripped by the moving device; FIG. is a perspective view showing a frame carrier, FIGS. 4A to 4C are explanatory diagrams explaining the operation of the device in FIG. 1, FIG. 5 is a diagram showing a conventional moving device, and FIG. 6 is a diagram showing another conventional moving device. It is a figure showing an apparatus. 10... Frame for wafer, 12... Tape, 14
...Silicon wafer 16...Frame carrier, 24...Groove, 32...Support plate, 34, 36...Outer fulcrum member, 38...Central fulcrum member, 44...Drive means, 4
6...stopper. Figure 3 showing the frame carrier
Claims (1)
プ(12)に該ウェハ用フレームの環状部内の開口部分
においてウェハ(14)を取りつけるようにしたウェハ
用フレームの移動装置であって、該ウェハ用フレームの
環状部の第1の位置の下面に係合する少なくとも1つの
第1の支点部材(34、36)と、該ウェハ用フレーム
の環状部の第2の位置の上面に上方から下方に移動可能
に係合する第2の支点部材(38)と、該第1の支点部
材及び該第2の支点部材を支持して移動可能な支持手段
(32)とを備え、該第1の位置が該第2の位置よりも
内奥側に設けられたウェハ用フレームの移動装置。 2、該支持手段が該ウェハ用フレームとほぼ平行に該ウ
ェハ用フレームの環状部の外縁から内部側へあるいは内
部側から外縁へ移動可能に設けられている請求項1に記
載のウェハ用フレームの移動装置。 3、該支持手段が該ウェハ用フレームとほぼ同じ幅を有
し、該第2の支点部材が該支持手段の中央部に取りつけ
られ、該少なくとも1つの第1の支点部材がそれぞれ該
支持手段の各端部近くに配置された2個の第1の支点部
材からなり、該2個の第1の支点部材が該第2の支点部
材よりも先に延びた位置にある請求項2に記載のウェハ
用フレームの移動装置。 4、該ウェハ用フレームの該第2の位置の下面を該第2
の支点部材に対向して支持する第3の支点部材を、該支
持手段に設けた請求項1に記載のウェハ用フレームの移
動装置。[Claims] 1. A wafer frame in which a wafer (14) is attached to a tape (12) attached to an annular plate-shaped wafer frame (10) at an opening in an annular portion of the wafer frame. The moving device includes at least one first fulcrum member (34, 36) that engages with a lower surface of a first position of the annular portion of the wafer frame; a second fulcrum member (38) that is movably engaged with the upper surface of the position from above to below; and support means (32) that is movable while supporting the first fulcrum member and the second fulcrum member; A moving device for a wafer frame, wherein the first position is located further inside than the second position. 2. The wafer frame according to claim 1, wherein the support means is provided so as to be movable from the outer edge of the annular part of the wafer frame to the inner side or from the inner side to the outer edge of the annular part of the wafer frame, substantially parallel to the wafer frame. Mobile device. 3. The support means has approximately the same width as the wafer frame, the second fulcrum member is attached to a central portion of the support means, and the at least one first fulcrum member is attached to each of the support means. 3. The method according to claim 2, comprising two first fulcrum members disposed near each end, the two first fulcrum members extending further than the second fulcrum members. Wafer frame movement device. 4. Place the lower surface of the wafer frame at the second position in the second position.
2. The wafer frame moving device according to claim 1, wherein the supporting means includes a third fulcrum member that supports the fulcrum member in opposition to the fulcrum member.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384690A JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384690A JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0429351A true JPH0429351A (en) | 1992-01-31 |
| JP2825101B2 JP2825101B2 (en) | 1998-11-18 |
Family
ID=15114404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13384690A Expired - Lifetime JP2825101B2 (en) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | Wafer frame moving device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2825101B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012074170A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | 주식회사 테라세미콘 | Substrate loading method for flexible display holder and system thereof |
| CN103579070A (en) * | 2012-08-01 | 2014-02-12 | 三星钻石工业股份有限公司 | Substrate retaining ring gripping mechanism |
| CN103681418A (en) * | 2012-09-25 | 2014-03-26 | 昆山英博尔电子科技有限公司 | A twelve-inch wafer framework |
| CN105173510A (en) * | 2015-05-29 | 2015-12-23 | 苏州如德科技有限公司 | Intelligent chinese medicine machine |
| JP2017076679A (en) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | ローツェ株式会社 | End effector for tape frame transfer and transfer robot equipped with the same |
-
1990
- 1990-05-25 JP JP13384690A patent/JP2825101B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2825101B2 (en) | 1998-11-18 |
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