JPH0429398Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0429398Y2 JPH0429398Y2 JP1983086891U JP8689183U JPH0429398Y2 JP H0429398 Y2 JPH0429398 Y2 JP H0429398Y2 JP 1983086891 U JP1983086891 U JP 1983086891U JP 8689183 U JP8689183 U JP 8689183U JP H0429398 Y2 JPH0429398 Y2 JP H0429398Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- infrared
- wavelength
- dual
- infrared rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、二波長式赤外線ガス分析計に用いら
れる干渉フイルタの改良技術に関する、 〔従来の技術〕 例えばサンプルガス中の特定成分の濃度を赤外
線輻射量から測定する場合、測定対象波長にはサ
ンプルガスからの輻射成分のみでなく、セルやセ
ル窓等からの輻射成分が含まれる。従つて、精密
な濃度測定を行なうには、後者の輻射成分（以
下、これを背景赤外線という。）を除去する必要
がある。ところで、背景赤外線は測定波長域だけ
でなく、その他の波長域にも同程度の輻射量を有
している。従つて、測定波長域以外の近接波長域
で背景赤外線の輻射量を測定し、測定波長域の全
輻射量から減じてやれば、サンプルガス中の特定
成分濃度を背景赤外線の影響を受けることなく精
密に測定することができる。このような測定法を
実行する測定器は赤外線輻射式ガス分析計（二波
長式赤外線ガス分析計の１種）と称され、本出願
人が先に実願昭57−33703号において開示してい
る。
れる干渉フイルタの改良技術に関する、 〔従来の技術〕 例えばサンプルガス中の特定成分の濃度を赤外
線輻射量から測定する場合、測定対象波長にはサ
ンプルガスからの輻射成分のみでなく、セルやセ
ル窓等からの輻射成分が含まれる。従つて、精密
な濃度測定を行なうには、後者の輻射成分（以
下、これを背景赤外線という。）を除去する必要
がある。ところで、背景赤外線は測定波長域だけ
でなく、その他の波長域にも同程度の輻射量を有
している。従つて、測定波長域以外の近接波長域
で背景赤外線の輻射量を測定し、測定波長域の全
輻射量から減じてやれば、サンプルガス中の特定
成分濃度を背景赤外線の影響を受けることなく精
密に測定することができる。このような測定法を
実行する測定器は赤外線輻射式ガス分析計（二波
長式赤外線ガス分析計の１種）と称され、本出願
人が先に実願昭57−33703号において開示してい
る。
ところで、上記分析計においては、特定成分
の測定波長域と、背景赤外線を測定する波長域と
の２つの異なつた波長域で測定を行なう必要があ
る。両波長域の測定エネルギー量の間には、背
景赤外線のエネルギー量が等しいという関係がな
ければならない。そうしなければ背景赤外線の影
響を相殺することができないからである。
の測定波長域と、背景赤外線を測定する波長域と
の２つの異なつた波長域で測定を行なう必要があ
る。両波長域の測定エネルギー量の間には、背
景赤外線のエネルギー量が等しいという関係がな
ければならない。そうしなければ背景赤外線の影
響を相殺することができないからである。
干渉フイルタは主にの目的のために使用され
るもので、の目的は、現在の段階では各波長を
検出器で検出した後、増幅率の異なつた増幅器で
増幅する等電気的手法に頼らざる得ないものであ
る。このため、余分な電気回路が必要で回路を複
雑にする等といつた支障がある。
るもので、の目的は、現在の段階では各波長を
検出器で検出した後、増幅率の異なつた増幅器で
増幅する等電気的手法に頼らざる得ないものであ
る。このため、余分な電気回路が必要で回路を複
雑にする等といつた支障がある。
本考案は、このような点に鑑み、上述したの
目的のみでなく、の目的をも干渉フイルタによ
つて達成できるようにし、余分な電気回路を不要
として、二波長式赤外線ガス分析計の回路の簡素
化に寄与できるに至つた干渉フイルタを提供する
ことを目的としている。
目的のみでなく、の目的をも干渉フイルタによ
つて達成できるようにし、余分な電気回路を不要
として、二波長式赤外線ガス分析計の回路の簡素
化に寄与できるに至つた干渉フイルタを提供する
ことを目的としている。
上記の目的を達成するに至つた本考案による二
波長式赤外線ガス分析計の干渉フイルタは、赤外
線の透過波長域が異なる２種の多層膜フイルタを
同一基板上に形成し、各フイルタの赤外線透過側
の面の一部を開口させて残りの全てを光を通さな
い物質で覆うと共に、前記開口の径を各々のフイ
ルタを透過する赤外線の透過エネルギーに反比例
させるように設定した点に特徴を有する。
波長式赤外線ガス分析計の干渉フイルタは、赤外
線の透過波長域が異なる２種の多層膜フイルタを
同一基板上に形成し、各フイルタの赤外線透過側
の面の一部を開口させて残りの全てを光を通さな
い物質で覆うと共に、前記開口の径を各々のフイ
ルタを透過する赤外線の透過エネルギーに反比例
させるように設定した点に特徴を有する。
上記の特徴構成によれば、前記開口の径を赤外
線の透過エネルギーに反比例させたことで、各フ
イルタに対する赤外線の透過エネルギーの比が一
定となる。
線の透過エネルギーに反比例させたことで、各フ
イルタに対する赤外線の透過エネルギーの比が一
定となる。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
以下に図面に基づき本考案の一実施例を説明す
る。第１図について、１は基板、２，３は該基板
１の表裏に多数の薄膜を積層して形成した多層膜
フイルタである。双方のフイルタ２，３の透過波
長域は例えば、4.3μと3.9μというように異なつて
いる。
る。第１図について、１は基板、２，３は該基板
１の表裏に多数の薄膜を積層して形成した多層膜
フイルタである。双方のフイルタ２，３の透過波
長域は例えば、4.3μと3.9μというように異なつて
いる。
４は光を通さない物質で、前記両フイルタ２，
３の上の一部５，６を残してその他全ての表面を
覆つている。従つて、この物質４が覆つていない
部分５，６はフイルタ２，３に光の侵入を許す開
口となる。この開口５，６の形状は第２図に示す
ように円形でもよい。或いは図示しないが四角
形、多角形でもかまわない。しかし、両開口５，
６の径を透過エネルギーに反比例するように設定
する必要がある。即ち、光を通さない物質４で覆
わない場合に各フイルタ２，３を透過するエネル
ギー量をI2，I3とすると、開口５はα・１／I2、開 口６はβ・１／I3という如くフイルタの透過エネル ギーI2，I3に反比例するようその径を設定するの
である。ここにα、βは比例定数である。このよ
うに設定すると、開口５，６付のフイルタ２，３
の透過エネルギーは夫々、 I2×α・１／I2＝α I3×β・１／I3＝β という如くなつて、両フイルタ２，３の透過エネ
ルギーの比が一定（α／β）となる。その結果
α／βを適当に定めることによつて冒頭に述べた
の目的を干渉フイルタによつて達成できること
になる。
３の上の一部５，６を残してその他全ての表面を
覆つている。従つて、この物質４が覆つていない
部分５，６はフイルタ２，３に光の侵入を許す開
口となる。この開口５，６の形状は第２図に示す
ように円形でもよい。或いは図示しないが四角
形、多角形でもかまわない。しかし、両開口５，
６の径を透過エネルギーに反比例するように設定
する必要がある。即ち、光を通さない物質４で覆
わない場合に各フイルタ２，３を透過するエネル
ギー量をI2，I3とすると、開口５はα・１／I2、開 口６はβ・１／I3という如くフイルタの透過エネル ギーI2，I3に反比例するようその径を設定するの
である。ここにα、βは比例定数である。このよ
うに設定すると、開口５，６付のフイルタ２，３
の透過エネルギーは夫々、 I2×α・１／I2＝α I3×β・１／I3＝β という如くなつて、両フイルタ２，３の透過エネ
ルギーの比が一定（α／β）となる。その結果
α／βを適当に定めることによつて冒頭に述べた
の目的を干渉フイルタによつて達成できること
になる。
また、この場合、干渉フイルタに入る光を第３
図に示すようにチヨツパー７にて断続する場合に
は、各フイルタの開口５，６がチヨツパー７にて
同じ比率で切られるよう、各開口５，６のチヨツ
パー７に対する配置関係及び両開口５，６の距離
を適宜設定する必要がある。
図に示すようにチヨツパー７にて断続する場合に
は、各フイルタの開口５，６がチヨツパー７にて
同じ比率で切られるよう、各開口５，６のチヨツ
パー７に対する配置関係及び両開口５，６の距離
を適宜設定する必要がある。
尚、前記光を通さない物質４は不透明な金属膜
で実施できる。この場合、金属膜は多層膜フイル
タ２，３の中の一層と同一の材料を厚膜に形成し
て使用することもできる。このように厚膜を用い
ると、光を通さない物質４も含めた干渉フイルタ
全体を半導体製造工程によつて製造でき、生産作
業性、量産性等の点で利益が大きい。
で実施できる。この場合、金属膜は多層膜フイル
タ２，３の中の一層と同一の材料を厚膜に形成し
て使用することもできる。このように厚膜を用い
ると、光を通さない物質４も含めた干渉フイルタ
全体を半導体製造工程によつて製造でき、生産作
業性、量産性等の点で利益が大きい。
以上説明したように、二波長式赤外線ガス分析
計に用いられるところの本考案による干渉フイル
タは、赤外線の透過波長域が異なる２種の多層膜
フイルタを同一基板上に形成し、各フイルタの赤
外線透過側の面の一部を開口させて残りの全てを
光を通さない物質で覆うと共に、前記開口の径を
各々のフイルタを透過する赤外線の透過エネルギ
ーに反比例させるように設定したので、各フイル
タに対する赤外線の透過エネルギーの比が一定と
なり、これによつて二波長式赤外線ガス分析計に
おける検出器の出力を電気的に補正する等の必要
がなくなり、延いては検出器以後の回路を簡素化
できることから、二波長式赤外線ガス分析計のコ
ストダウンを期することができるという効果があ
る。
計に用いられるところの本考案による干渉フイル
タは、赤外線の透過波長域が異なる２種の多層膜
フイルタを同一基板上に形成し、各フイルタの赤
外線透過側の面の一部を開口させて残りの全てを
光を通さない物質で覆うと共に、前記開口の径を
各々のフイルタを透過する赤外線の透過エネルギ
ーに反比例させるように設定したので、各フイル
タに対する赤外線の透過エネルギーの比が一定と
なり、これによつて二波長式赤外線ガス分析計に
おける検出器の出力を電気的に補正する等の必要
がなくなり、延いては検出器以後の回路を簡素化
できることから、二波長式赤外線ガス分析計のコ
ストダウンを期することができるという効果があ
る。
図は本考案の一実施例を示し、第１図は全体断
面図、第２図は全体平面図、第３図はチヨツパー
で光を断続する構成に適用した場合の各開口の配
置を示す図である。 １……基板、２，３……多層膜フイルタ、４…
…光を通さない物質、５，６……開口。
面図、第２図は全体平面図、第３図はチヨツパー
で光を断続する構成に適用した場合の各開口の配
置を示す図である。 １……基板、２，３……多層膜フイルタ、４…
…光を通さない物質、５，６……開口。
Claims (1)
- 二波長式赤外線ガス分析計に用いられる干渉フ
イルタであつて、赤外線の透過波長域が異なる２
種の多層膜フイルタを同一基板上に形成し、各フ
イルタの赤外線透過側の面の一部を開口させて残
りの全てを光を通さない物質で覆うと共に、前記
開口の径を各々のフイルタを透過する赤外線の透
過エネルギーに反比例させるように設定したこと
を特徴とする二波長式赤外線ガス分析計の干渉フ
イルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8689183U JPS59192102U (ja) | 1983-06-04 | 1983-06-04 | 二波長式赤外線ガス分析計の干渉フイルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8689183U JPS59192102U (ja) | 1983-06-04 | 1983-06-04 | 二波長式赤外線ガス分析計の干渉フイルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59192102U JPS59192102U (ja) | 1984-12-20 |
| JPH0429398Y2 true JPH0429398Y2 (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=30216815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8689183U Granted JPS59192102U (ja) | 1983-06-04 | 1983-06-04 | 二波長式赤外線ガス分析計の干渉フイルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59192102U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5453579A (en) * | 1977-10-05 | 1979-04-26 | Fujitsu Ltd | Infrared ray multicomponent gas analysis apparatus |
-
1983
- 1983-06-04 JP JP8689183U patent/JPS59192102U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59192102U (ja) | 1984-12-20 |
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