JPH0429478Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0429478Y2 JPH0429478Y2 JP1984160054U JP16005484U JPH0429478Y2 JP H0429478 Y2 JPH0429478 Y2 JP H0429478Y2 JP 1984160054 U JP1984160054 U JP 1984160054U JP 16005484 U JP16005484 U JP 16005484U JP H0429478 Y2 JPH0429478 Y2 JP H0429478Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- charged particle
- irradiation device
- particle irradiation
- shield cover
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、先端に配置される対物レンズの電極
の一部をシールド・カバーとして併用し、シール
ド・カバーを小型且つ非対象的に取り付けた荷電
粒子照射装置に関するものである。
の一部をシールド・カバーとして併用し、シール
ド・カバーを小型且つ非対象的に取り付けた荷電
粒子照射装置に関するものである。
例えば、オージエ電子分析装置は、電子銃から
射出された電子線を細く収束させ、その電子ビー
ムを試料に照射し、電子ビームの照射によつて試
料上から発生するオージユ電子を検出して試料の
表面の分析を行うものである。その際オージユ電
子分析装置では、イオンビームを試料に照射して
試料表面を洗浄化したり、イオンビームにより試
料表面を削りながら組成の変化を観察したりし
て、試料表面の分析が行われる。このように、一
般に電子分析装置では、試料の周りに電子ビーム
の照射によつて試料上から発生する二次電子や、
X線、オージエ電子などの量子信号を検出する各
種の信号検出装置が設けられるとともに、イオン
ビームなどの荷電粒子を照射する荷電粒子照射装
置が設けられる。
射出された電子線を細く収束させ、その電子ビー
ムを試料に照射し、電子ビームの照射によつて試
料上から発生するオージユ電子を検出して試料の
表面の分析を行うものである。その際オージユ電
子分析装置では、イオンビームを試料に照射して
試料表面を洗浄化したり、イオンビームにより試
料表面を削りながら組成の変化を観察したりし
て、試料表面の分析が行われる。このように、一
般に電子分析装置では、試料の周りに電子ビーム
の照射によつて試料上から発生する二次電子や、
X線、オージエ電子などの量子信号を検出する各
種の信号検出装置が設けられるとともに、イオン
ビームなどの荷電粒子を照射する荷電粒子照射装
置が設けられる。
第2図は従来の荷電粒子照射装置の装備例を示
す図であり、1は試料、2は量子信号、3は信号
検出装置、4は荷電粒子照射装置、5は対物レン
ズをそれぞれ示している。電子分析装置では第2
図に示すように、試料1の周りに量子信号2を検
出するための各種の信号検出装置3が取り付けら
れ、その空きスペースに荷電粒子照射装置4が取
り付けられる。この荷電粒子照射装置4は、試料
面に最も近い先端に対物レンズ5として静電型レ
ンズが配置され、レンズに印加される電界が外部
に漏れないように円筒型のシールド・パイプが被
せられる。
す図であり、1は試料、2は量子信号、3は信号
検出装置、4は荷電粒子照射装置、5は対物レン
ズをそれぞれ示している。電子分析装置では第2
図に示すように、試料1の周りに量子信号2を検
出するための各種の信号検出装置3が取り付けら
れ、その空きスペースに荷電粒子照射装置4が取
り付けられる。この荷電粒子照射装置4は、試料
面に最も近い先端に対物レンズ5として静電型レ
ンズが配置され、レンズに印加される電界が外部
に漏れないように円筒型のシールド・パイプが被
せられる。
荷電粒子照射装置における性能のポイントは、
イオンビームをいかに小さくすることができるか
であるが、この点でいえば、試料面と荷電粒子照
射装置の先端との距離、すなわち作動距離が短い
ほど微小ビーム径を得ることができるから、いか
に作動距離を短くすることができるかがポイント
となる。一般に信号検出装置は、その取り出し角
が決まつているため、このような信号検出装置が
取り付けられることによつて、荷電粒子照射装置
を取り付ける空間は制限されてくる。しかし、荷
電粒子照射装置は、先に述べた円筒型のシール
ド・カバーによりレンズ電極の保持部分なども覆
う必要があり、レンズ作用に必要な電極部分より
もかなり大きな空間を占有している。そのため先
端付近を第2図に示すように円錐状にしても、従
来の第2図に示す荷電粒子照射装置の例では、空
間的制約上イオンビームの照射角が16°程度で、
作動距離が45mm程度になつてしまい、試料との距
離がかなり長くなることを余儀なくされている。
イオンビームをいかに小さくすることができるか
であるが、この点でいえば、試料面と荷電粒子照
射装置の先端との距離、すなわち作動距離が短い
ほど微小ビーム径を得ることができるから、いか
に作動距離を短くすることができるかがポイント
となる。一般に信号検出装置は、その取り出し角
が決まつているため、このような信号検出装置が
取り付けられることによつて、荷電粒子照射装置
を取り付ける空間は制限されてくる。しかし、荷
電粒子照射装置は、先に述べた円筒型のシール
ド・カバーによりレンズ電極の保持部分なども覆
う必要があり、レンズ作用に必要な電極部分より
もかなり大きな空間を占有している。そのため先
端付近を第2図に示すように円錐状にしても、従
来の第2図に示す荷電粒子照射装置の例では、空
間的制約上イオンビームの照射角が16°程度で、
作動距離が45mm程度になつてしまい、試料との距
離がかなり長くなることを余儀なくされている。
本考案は、上記の考案に基づくものであつて、
従来不必要に大きな空間を占めていた先端部分の
構造上の無駄を省き、作動距離を小さくすること
ができる荷電粒子照射装置を提供することを目的
とするものである。
従来不必要に大きな空間を占めていた先端部分の
構造上の無駄を省き、作動距離を小さくすること
ができる荷電粒子照射装置を提供することを目的
とするものである。
そのために本考案の荷電粒子照射装置は、荷電
粒子の進行方向を軸とし、該進行方向順に軸対照
な形状を有する第1電極、第2電極、及び第3電
極を配置して第一電極と第3電極とに同一電圧
を、第2電極には異なる電圧を印加するアインツ
エル・レンズを対物レンズとして用いた荷電粒子
照射装置において、各電極による電界が外部に漏
れないように全体を被う筒状のシールド・カバー
の−部を第3電極と併用するとともに、第1電極
の第2電極に対しては、同一方向の片側にのみ固
定用の台を設けてシールド・カバーの一方の側に
固定し、該シールド・カバーの他方の側は占有空
間が小さくなるように一方の側と非対称に構成し
たことを特徴とするものである。
粒子の進行方向を軸とし、該進行方向順に軸対照
な形状を有する第1電極、第2電極、及び第3電
極を配置して第一電極と第3電極とに同一電圧
を、第2電極には異なる電圧を印加するアインツ
エル・レンズを対物レンズとして用いた荷電粒子
照射装置において、各電極による電界が外部に漏
れないように全体を被う筒状のシールド・カバー
の−部を第3電極と併用するとともに、第1電極
の第2電極に対しては、同一方向の片側にのみ固
定用の台を設けてシールド・カバーの一方の側に
固定し、該シールド・カバーの他方の側は占有空
間が小さくなるように一方の側と非対称に構成し
たことを特徴とするものである。
本考案の荷電粒子照射装置では、その先端のシ
ールド・カバーの一部を第3電極と併用している
ため占有空間が小さくなり、また、第1電極と第
2電極に対しては、一方向にのみ固定用の台を設
けるため、その部分以外の3方向の占有空間が小
さくなる。すなわち、固定用の台を下方向に設け
ると、下方向に対してはそれだけシールド・カバ
ーの出つ張りは生じるが、左右、上方向は占有空
間が小さくなり、空き空間を有効に利用して荷電
粒子照射装置の取り付けを行うことができる。
ールド・カバーの一部を第3電極と併用している
ため占有空間が小さくなり、また、第1電極と第
2電極に対しては、一方向にのみ固定用の台を設
けるため、その部分以外の3方向の占有空間が小
さくなる。すなわち、固定用の台を下方向に設け
ると、下方向に対してはそれだけシールド・カバ
ーの出つ張りは生じるが、左右、上方向は占有空
間が小さくなり、空き空間を有効に利用して荷電
粒子照射装置の取り付けを行うことができる。
以下、実施例を図面を参照しつつ説明する。
第1図は本考案の荷電粒子照射装置の1実施例
を説明するための図、第3図は第1図図示の荷電
粒子照射装置の詳細を示す図、第4図は荷電粒子
照射装置を種々の角度から見た図である。図にお
いて、1ないし5は第2図と同じものを示し、6
はシールド・カバー、7は偏向電極及びステイグ
メータ、8は第3電極、9は導線、10は固定用
ビス、11と13は絶縁碍子、12は第2電極、
14は第1電極、15は導線被覆管、16は固定
台、17はマウンテイング・フランジをそれぞれ
示している。
を説明するための図、第3図は第1図図示の荷電
粒子照射装置の詳細を示す図、第4図は荷電粒子
照射装置を種々の角度から見た図である。図にお
いて、1ないし5は第2図と同じものを示し、6
はシールド・カバー、7は偏向電極及びステイグ
メータ、8は第3電極、9は導線、10は固定用
ビス、11と13は絶縁碍子、12は第2電極、
14は第1電極、15は導線被覆管、16は固定
台、17はマウンテイング・フランジをそれぞれ
示している。
本考案が適用される荷電粒子照射装置は、アイ
ンツエル・レンズを対物レンズ5として用いるも
のである。アインツエル・レンズは、第3図に示
すように荷電粒子の進行方向(図示ビーム進行方
向)を軸とし、その進行方向順に軸対称な形状を
有する第1電極14、第2電極12、及び第3電
極8を配置し、第1電極14と第3電極8とには
同一電圧(アース電位)を、また、第2電極12
にはこれと異なる電圧を印加するものである。そ
して、この対物レンズ5と荷電粒子源との間に偏
向電極及びステイグメータ7などを組み込み、各
電極による電界の分布が外部に漏れないように、
シールド・カバー6で全体を覆い、このシール
ド・カバー6の一部を対物レンズ5の第3電極8
と併用する。また、第1電極14、第2電極12
には、一方向にのみ固定用の台を設け、これらを
角形のインシユレーターとともに第3電極8に固
定用ビス10により取り付け、この固定用ビス1
0により第1電極14と第3電極8とを同一電位
にする。また、第2電極12に電圧を印加するた
めの導線は固定台16の下部に取り付けられる。
ンツエル・レンズを対物レンズ5として用いるも
のである。アインツエル・レンズは、第3図に示
すように荷電粒子の進行方向(図示ビーム進行方
向)を軸とし、その進行方向順に軸対称な形状を
有する第1電極14、第2電極12、及び第3電
極8を配置し、第1電極14と第3電極8とには
同一電圧(アース電位)を、また、第2電極12
にはこれと異なる電圧を印加するものである。そ
して、この対物レンズ5と荷電粒子源との間に偏
向電極及びステイグメータ7などを組み込み、各
電極による電界の分布が外部に漏れないように、
シールド・カバー6で全体を覆い、このシール
ド・カバー6の一部を対物レンズ5の第3電極8
と併用する。また、第1電極14、第2電極12
には、一方向にのみ固定用の台を設け、これらを
角形のインシユレーターとともに第3電極8に固
定用ビス10により取り付け、この固定用ビス1
0により第1電極14と第3電極8とを同一電位
にする。また、第2電極12に電圧を印加するた
めの導線は固定台16の下部に取り付けられる。
シールド・カバー6は、各電極、導線などを覆
い、且つ電気的絶縁をとりうる最小限の大きさと
することにより、それぞれの図に示すように固定
用の台のない第1電極14、第2電極12の3方
向を軸に対し非対称になるが、コンパクトに構成
することができる。
い、且つ電気的絶縁をとりうる最小限の大きさと
することにより、それぞれの図に示すように固定
用の台のない第1電極14、第2電極12の3方
向を軸に対し非対称になるが、コンパクトに構成
することができる。
第3図の矢印A方向、すなわち上から見た状態
を示したのが第4図aであり、横斜め前から見た
状態を示したのが第4図bであり、第3図の矢印
B方向、すなわち正面から見た状態を示したのが
第4図cである。この第4図から明らかなように
先端の占有空間は、第3電極の大きさ相当に小さ
くなり、また、第1電極と第2電極の部分の占有
空間も固定用の台を設けた図示下方向以外の左
右、上方向は、ほぼ第1電極と第2電極の大きさ
相当に小さくなる。
を示したのが第4図aであり、横斜め前から見た
状態を示したのが第4図bであり、第3図の矢印
B方向、すなわち正面から見た状態を示したのが
第4図cである。この第4図から明らかなように
先端の占有空間は、第3電極の大きさ相当に小さ
くなり、また、第1電極と第2電極の部分の占有
空間も固定用の台を設けた図示下方向以外の左
右、上方向は、ほぼ第1電極と第2電極の大きさ
相当に小さくなる。
第3図図示の荷電粒子照射装置を装備した装置
の例を第2図の従来例に対比させて示したのが第
1図である。この第1図から明らかなように、荷
電粒子照射装置4の先端付近は従来のものより余
分な占有空間をなくしているため、信号検出装置
3の装備された空き空間から試料1の面にさらに
近づけることができる。因みに第2図の例では先
に述べたように作動距離が45mmであつたが、本考
案を適用した第1図の例では作動距離が20mmまで
短くすることができた。
の例を第2図の従来例に対比させて示したのが第
1図である。この第1図から明らかなように、荷
電粒子照射装置4の先端付近は従来のものより余
分な占有空間をなくしているため、信号検出装置
3の装備された空き空間から試料1の面にさらに
近づけることができる。因みに第2図の例では先
に述べたように作動距離が45mmであつたが、本考
案を適用した第1図の例では作動距離が20mmまで
短くすることができた。
以上の説明から明らかなように、本考案によれ
ば、対物レンズを構成する各電極の保持方法を簡
単にし、装置の先端付近のシールド・カバーの形
状を非対称にして占有空間をできるだけ小さくし
たので、作動距離を短くすることができ、荷電粒
子照射装置の性能の向上を図ることができる。
ば、対物レンズを構成する各電極の保持方法を簡
単にし、装置の先端付近のシールド・カバーの形
状を非対称にして占有空間をできるだけ小さくし
たので、作動距離を短くすることができ、荷電粒
子照射装置の性能の向上を図ることができる。
第1図は本考案の荷電粒子照射装置の1実施例
を説明するための図、第2図は従来の荷電粒子照
射装置の装備例を示す図、第3図は第1図図示の
荷電粒子照射装置の詳細を示す図、第4図は荷電
粒子照射装置を種々の角度から見た図である。 1……試料、2……量子信号、3……信号検出
装置、4……荷電粒子照射装置、5……対物レン
ズ、6……シールド・カバー、7……偏向電極及
びステイグメータ、8……第3電極、9……導
線、10……固定用ビス、11と13……絶縁碍
子、12……第2電極、14……第1電極、15
……導線被覆管、16……固定台、17……マウ
ンテイング・フランジ。
を説明するための図、第2図は従来の荷電粒子照
射装置の装備例を示す図、第3図は第1図図示の
荷電粒子照射装置の詳細を示す図、第4図は荷電
粒子照射装置を種々の角度から見た図である。 1……試料、2……量子信号、3……信号検出
装置、4……荷電粒子照射装置、5……対物レン
ズ、6……シールド・カバー、7……偏向電極及
びステイグメータ、8……第3電極、9……導
線、10……固定用ビス、11と13……絶縁碍
子、12……第2電極、14……第1電極、15
……導線被覆管、16……固定台、17……マウ
ンテイング・フランジ。
Claims (1)
- 荷電粒子の進行方向を軸とし、該進行方向順に
軸対照な形状を有する第1電極、第2電極、及び
第3電極を配置して第一電極と第3電極とに同一
電圧を、第2電極には異なる電圧を印加するアイ
ンツエル・レンズを対物レンズとして用いた荷電
粒子照射装置において、各電極による電界が外部
に漏れないように全体を被う筒状のシールド・カ
バーの一部を第3電極と併用するとともに、第1
電極の第2電極に対しては、同一方向の片側にの
み固定用の台を設けてシールド・カバーの一方の
側に固定し、該シールド・カバーの他方の側は占
有空間が小さくなるように一方の側と非対称に構
成したことを特徴とする荷電粒子照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984160054U JPH0429478Y2 (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984160054U JPH0429478Y2 (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6175057U JPS6175057U (ja) | 1986-05-21 |
| JPH0429478Y2 true JPH0429478Y2 (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=30717988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984160054U Expired JPH0429478Y2 (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0429478Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5918352U (ja) * | 1982-07-28 | 1984-02-03 | 日本電子株式会社 | 静電レンズ構造 |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP1984160054U patent/JPH0429478Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6175057U (ja) | 1986-05-21 |
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