JPH042955A - 表面分析装置 - Google Patents
表面分析装置Info
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- JPH042955A JPH042955A JP2103363A JP10336390A JPH042955A JP H042955 A JPH042955 A JP H042955A JP 2103363 A JP2103363 A JP 2103363A JP 10336390 A JP10336390 A JP 10336390A JP H042955 A JPH042955 A JP H042955A
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- electron beam
- ray
- detector
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
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- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2252—Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）、走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の表面分析装置、特に表面
分析装置におけるバックグラウンド補正装置に関する。
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の表面分析装置、特に表面
分析装置におけるバックグラウンド補正装置に関する。
［従来技術］
電子線マイクロアナライザ、走査型電子顕微鏡では直径
数十オングストロームに絞った電子ビームで試料上を走
査しつつ、ビームが通過するとき、各試料点から生じる
種々の情報を電気的に検出し、走査に同期させて、ブラ
ウン管上に成分側や濃度別に表示することにより、元素
分布の表示を行っている。
数十オングストロームに絞った電子ビームで試料上を走
査しつつ、ビームが通過するとき、各試料点から生じる
種々の情報を電気的に検出し、走査に同期させて、ブラ
ウン管上に成分側や濃度別に表示することにより、元素
分布の表示を行っている。
電子ビームで照射された試料部からは、各種のシグナル
が生じ、そのいずれを取り出して結像に用いるかにより
、二次電子像、反射電子像、ルミネッセンス像、特性Ｘ
線像、オージェ電子像などが観測できる。
が生じ、そのいずれを取り出して結像に用いるかにより
、二次電子像、反射電子像、ルミネッセンス像、特性Ｘ
線像、オージェ電子像などが観測できる。
上記のような表面分析において、例えば、特性Ｘ線像の
分析の場合、試料の成分元素のそれぞれの特性Ｘ線のピ
ークは装置特性、試料励起条件および試料組成によって
決まるバックグラウンドの上に乗っている。このように
、元素分布測定データにはバックグラウンド成分が含ま
れているので、通常、元素分布測定データにバックグラ
ウンド補正を行っている。このバックグラウンド補正方
法としては、従来、事前あるいは事後に試料面全体にわ
たってバックグラウンド測定を行って、バックグラウン
ド補正を行うとか、試料面の幾つかの点で、バックグラ
ウンド測定を行って、試料面全体のバックグラウンドを
推定して補正することが行われている。
分析の場合、試料の成分元素のそれぞれの特性Ｘ線のピ
ークは装置特性、試料励起条件および試料組成によって
決まるバックグラウンドの上に乗っている。このように
、元素分布測定データにはバックグラウンド成分が含ま
れているので、通常、元素分布測定データにバックグラ
ウンド補正を行っている。このバックグラウンド補正方
法としては、従来、事前あるいは事後に試料面全体にわ
たってバックグラウンド測定を行って、バックグラウン
ド補正を行うとか、試料面の幾つかの点で、バックグラ
ウンド測定を行って、試料面全体のバックグラウンドを
推定して補正することが行われている。
また、他のバックグラウンド補正方法として、特開平：
２−１０６３９号公報に記載されているように、一つの
元素について複数のＸ線分光器を用い、それらのＸ線分
光器の試料面上の焦点位置を一致させ、一つのＸ線分光
器を測定しようとする元素の一つの特性Ｘ線波長に合せ
、他のＸ線分光器を上記波長に近い測定しようとする元
素の上記特性Ｘ線ピークの裾に相当する波長に合せ、上
記各Ｘ線分光器によって同時に試料面の走査を行って、
測定しようとする元素のバックグラウンドを含んだ特性
Ｘ線のデータとバックグラウンドのブタを同時に得てバ
ックグラウンド補正を行うものも提案されている。
２−１０６３９号公報に記載されているように、一つの
元素について複数のＸ線分光器を用い、それらのＸ線分
光器の試料面上の焦点位置を一致させ、一つのＸ線分光
器を測定しようとする元素の一つの特性Ｘ線波長に合せ
、他のＸ線分光器を上記波長に近い測定しようとする元
素の上記特性Ｘ線ピークの裾に相当する波長に合せ、上
記各Ｘ線分光器によって同時に試料面の走査を行って、
測定しようとする元素のバックグラウンドを含んだ特性
Ｘ線のデータとバックグラウンドのブタを同時に得てバ
ックグラウンド補正を行うものも提案されている。
［発明が解決しようとする課題］
−１−記のようなバックグラウンド補正のうち、測定の
事前あるいは事後に試料面全面にわたってバックグラウ
ンド測定を行う方法は試料面を２回走査することとなる
ので、全体としての分析所要時間か非常に長くなるとい
う問題があり、また、幾つかの点でバックグラウンド測
定をする方法は時間的には有利であるが、バックグラウ
ンドは装置特性とか試料励起条件だけでなく、測定点の
元素組成の影響も受けているので、正確なバックグラウ
ンド補正ができないという問題点があった。
事前あるいは事後に試料面全面にわたってバックグラウ
ンド測定を行う方法は試料面を２回走査することとなる
ので、全体としての分析所要時間か非常に長くなるとい
う問題があり、また、幾つかの点でバックグラウンド測
定をする方法は時間的には有利であるが、バックグラウ
ンドは装置特性とか試料励起条件だけでなく、測定点の
元素組成の影響も受けているので、正確なバックグラウ
ンド補正ができないという問題点があった。
さらに、一つの元素について複数のＸ線分光器を用いる
バックグラウンド補正方法は、分析所要時間、および測
定点の元素組成の影響の問題点は解決することができる
か、各測定元素毎に複数のＸ線分光器が必要となるので
、装置が大型化するとともに、コストが上昇するという
問題点があった。
バックグラウンド補正方法は、分析所要時間、および測
定点の元素組成の影響の問題点は解決することができる
か、各測定元素毎に複数のＸ線分光器が必要となるので
、装置が大型化するとともに、コストが上昇するという
問題点があった。
本発明は、上記のような従来技術の欠点を解消するため
に創案されたものであり、全体としての分析所要時間を
増大することなく、しかも分析装置の設備を増加せずに
、正確にバックグラウンド補正を行うことができる表面
分析装置を提供することを目的とする。
に創案されたものであり、全体としての分析所要時間を
増大することなく、しかも分析装置の設備を増加せずに
、正確にバックグラウンド補正を行うことができる表面
分析装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段」
上記Ｌ１的を達成するために、本発明における表面分析
装置は、試料面上を走査する電子ビームを発生ずる手段
と、試料の周囲に配置し７た試料からの信号を検出する
検出器と、試料の吸収電流を検出する吸収電流検出器と
、上記信号検出器の出力と上記吸収電流検出器の出力か
ら補正演算を行うバックグラウンド補正演算手段とを有
する。
装置は、試料面上を走査する電子ビームを発生ずる手段
と、試料の周囲に配置し７た試料からの信号を検出する
検出器と、試料の吸収電流を検出する吸収電流検出器と
、上記信号検出器の出力と上記吸収電流検出器の出力か
ら補正演算を行うバックグラウンド補正演算手段とを有
する。
１作用］
通常、電子線マイクロアナライザ、走査型電子顕微鏡は
、吸収電子の検出器を備えており、この吸収電流値は平
均電子番号と相関関係にある。また、特性Ｘ線、オージ
ェ電子等の測定データのバックグラウンド値も平均原子
番号と相関関係にある。したがって、元素分布データを
測定する条件で、吸収電流値とバックグラウンド強度の
関係式を作成しておけは、吸収電流値からバックグラウ
ンド補正を行うことができる。
、吸収電子の検出器を備えており、この吸収電流値は平
均電子番号と相関関係にある。また、特性Ｘ線、オージ
ェ電子等の測定データのバックグラウンド値も平均原子
番号と相関関係にある。したがって、元素分布データを
測定する条件で、吸収電流値とバックグラウンド強度の
関係式を作成しておけは、吸収電流値からバックグラウ
ンド補正を行うことができる。
そこで、本発明の表面分析装置では、試料の測定位置を
電子ビームで走査し、測定しようとする元素のバックグ
ラウンドを含んだ検出信号のブタと吸収電流値とを求め
るとともに、バックグラウンド強度値と吸収電流値より
バックグラウンド強度値と吸収電流値との関係を求める
。そして、この関係を用いて吸収電流データからバック
グラウンド強度の二次元分布データを計算し、元素のビ
ークデータからこのバックグラウンドデータを差し引い
て、バックグラウンドを補正したデータを求める。
電子ビームで走査し、測定しようとする元素のバックグ
ラウンドを含んだ検出信号のブタと吸収電流値とを求め
るとともに、バックグラウンド強度値と吸収電流値より
バックグラウンド強度値と吸収電流値との関係を求める
。そして、この関係を用いて吸収電流データからバック
グラウンド強度の二次元分布データを計算し、元素のビ
ークデータからこのバックグラウンドデータを差し引い
て、バックグラウンドを補正したデータを求める。
［実施例］
実施例について図面を参照して説明すると、第１図は本
発明の分析方法を電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ
）を用いたＸ線分光分析に適用した場合の実施例であり
、この種の装置は一般に２〜６台のＸ線分光器が試料を
照射する電子ビームを形成する電子光学系の周りに配置
されている。
発明の分析方法を電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ
）を用いたＸ線分光分析に適用した場合の実施例であり
、この種の装置は一般に２〜６台のＸ線分光器が試料を
照射する電子ビームを形成する電子光学系の周りに配置
されている。
第１図において、ｅは電子ビームで、電子ビーム源１よ
り試料Ｓに照射される。２は試料ＳをＸ、ｙ二方向に移
動させる試料ステージ、３はＸ線分光器で、分光用湾曲
結晶Ｃと、Ｘ線検出器４と、試料Ｓ上の電子ビーム照射
点と、分光結晶Ｃ１Ｘ線検出器４の前面スリットがロー
ランド円の円周上に位置せしめられるように分光結晶と
Ｘ線検出器とを連結する機構とにより構成されている。
り試料Ｓに照射される。２は試料ＳをＸ、ｙ二方向に移
動させる試料ステージ、３はＸ線分光器で、分光用湾曲
結晶Ｃと、Ｘ線検出器４と、試料Ｓ上の電子ビーム照射
点と、分光結晶Ｃ１Ｘ線検出器４の前面スリットがロー
ランド円の円周上に位置せしめられるように分光結晶と
Ｘ線検出器とを連結する機構とにより構成されている。
このＸ線分光器３は試料」二の電子ビーム照射点がＸ線
分光器３の焦点となるように配置されている。
分光器３の焦点となるように配置されている。
５は吸収電流検出器、６は各検出器４．５の出力をＡ／
Ｄ変換し、試料の位置情報とともに、イメージメモリ７
．８に格納するデータ書込み部、９は試料ステージ駆動
装置で、試料ステージ２をＸ方向、Ｘ方向に駆動するパ
ルスモータを有する。
Ｄ変換し、試料の位置情報とともに、イメージメモリ７
．８に格納するデータ書込み部、９は試料ステージ駆動
装置で、試料ステージ２をＸ方向、Ｘ方向に駆動するパ
ルスモータを有する。
１０はバックグラウンド補正演算部で、バックグラウン
ド補正された試料面の元素マツピングデータはイメージ
メモリ１１に記憶され、カラーＣＲＴ１２に表示される
。１３は分光器駆動装置で、波長設定手段１４によって
設定された波長位置に分光結晶ＣおよびＸ線検出器４を
移動させる。１５はＣＰＵであり、各部の動作を制御す
る。
ド補正された試料面の元素マツピングデータはイメージ
メモリ１１に記憶され、カラーＣＲＴ１２に表示される
。１３は分光器駆動装置で、波長設定手段１４によって
設定された波長位置に分光結晶ＣおよびＸ線検出器４を
移動させる。１５はＣＰＵであり、各部の動作を制御す
る。
この実施例の動作を説明すると、まず、分析スタート時
に、試料ステージ駆動装置９により試料ステージ２を駆
動し、電子ビームｅが試料Ｓの分析スタート位置にくる
ようにするとともに、波長設定手段１４により分光器駆
動装置１３を駆動し、分光器３を分析しようとする一つ
の元素の適当な特性Ｘ線ピークの裾に位置する波長値に
セットする。
に、試料ステージ駆動装置９により試料ステージ２を駆
動し、電子ビームｅが試料Ｓの分析スタート位置にくる
ようにするとともに、波長設定手段１４により分光器駆
動装置１３を駆動し、分光器３を分析しようとする一つ
の元素の適当な特性Ｘ線ピークの裾に位置する波長値に
セットする。
この状態で、電子ビームを照射し、Ｘ線検出器４、吸収
電流検出器５の出力をデータ書き込み部６を介してそれ
ぞれイメージメモリ７．８に書き込む。
電流検出器５の出力をデータ書き込み部６を介してそれ
ぞれイメージメモリ７．８に書き込む。
この後、波長設定手段１４により分光器駆動装置１３を
駆動し、分光器３を分析しようとする一つの元素の適当
な特性Ｘ線波長値にセットする。そして、試料ステージ
駆動装置９により試料ステージ２を駆動し、試料Ｓをｘ
、Ｘ方向に駆動して電子ビームｅによる試料面の走査を
行わせ、Ｘ線検出器４、吸収電流検出器５の出力をデー
タ書き込み部６を介してそれぞれイメージメモリ７．８
に格納せしめる。試料面の走査が終了すると、分析終了
位置で再び波長設定手段１４により分光器駆動装置１３
を駆動し、分光器３を分析しようとする一つの元素の適
当な特性Ｘ線ピークの裾に位置する波長値にセットし、
バックグラウンド強度と吸収電流値をメモリ７．８に記
憶する。この後、バックグラウンド補正演算部１０では
、２点（Ａ、、Ｂ）のバックグラウンド強度と吸収電流
値の結果から第２図のようなバックグラウンドと吸収電
流との関係グラフを作成する。次に、このグラフを元に
吸収電流データの２次元分布データ（第３図口）からバ
ックグラウンド強度の２次元分布データ（第３図ハ）を
計算する。そして、イメージメモリに記憶された分析し
ようとする元素のピークデータ（第３図イ）からこのバ
ックグラウンド強度を差し引き、バックグランド補正を
行ったデータ（第３Ｎ−）を得、イメージメモリ１１に
記憶するとともに、カラーＣＲ，Ｔ１２に表示する。
駆動し、分光器３を分析しようとする一つの元素の適当
な特性Ｘ線波長値にセットする。そして、試料ステージ
駆動装置９により試料ステージ２を駆動し、試料Ｓをｘ
、Ｘ方向に駆動して電子ビームｅによる試料面の走査を
行わせ、Ｘ線検出器４、吸収電流検出器５の出力をデー
タ書き込み部６を介してそれぞれイメージメモリ７．８
に格納せしめる。試料面の走査が終了すると、分析終了
位置で再び波長設定手段１４により分光器駆動装置１３
を駆動し、分光器３を分析しようとする一つの元素の適
当な特性Ｘ線ピークの裾に位置する波長値にセットし、
バックグラウンド強度と吸収電流値をメモリ７．８に記
憶する。この後、バックグラウンド補正演算部１０では
、２点（Ａ、、Ｂ）のバックグラウンド強度と吸収電流
値の結果から第２図のようなバックグラウンドと吸収電
流との関係グラフを作成する。次に、このグラフを元に
吸収電流データの２次元分布データ（第３図口）からバ
ックグラウンド強度の２次元分布データ（第３図ハ）を
計算する。そして、イメージメモリに記憶された分析し
ようとする元素のピークデータ（第３図イ）からこのバ
ックグラウンド強度を差し引き、バックグランド補正を
行ったデータ（第３Ｎ−）を得、イメージメモリ１１に
記憶するとともに、カラーＣＲ，Ｔ１２に表示する。
上記実施例では、バックグラウンド強度と吸収電流値を
分析スタート位置と終了位置で検出したが、任意の２点
で検出を行うことができ、また、バックグラウンド強度
と吸収電流値との関係が既知の場合には、任意の１点で
バックグラウンド強度と吸収電流値を検出することによ
りバックグラウンド補正を行うことができる。
分析スタート位置と終了位置で検出したが、任意の２点
で検出を行うことができ、また、バックグラウンド強度
と吸収電流値との関係が既知の場合には、任意の１点で
バックグラウンド強度と吸収電流値を検出することによ
りバックグラウンド補正を行うことができる。
また、上記実施例では、検出信号として特性Ｘ線の検出
について説明したが、二次電子信号、反射電子信号、ル
ミネッセンス信号、オージェ電子信号を検出信号とした
場合にも本発明を適用することができる。
について説明したが、二次電子信号、反射電子信号、ル
ミネッセンス信号、オージェ電子信号を検出信号とした
場合にも本発明を適用することができる。
さらに、」１記実施例では、試料ステージを駆動するこ
とにより電子ビームの走査を行ったが、電子ビーム自体
を走査することにより、試料面を電子ビームで走査する
表面分析装置にも本発明を適用することができる。
とにより電子ビームの走査を行ったが、電子ビーム自体
を走査することにより、試料面を電子ビームで走査する
表面分析装置にも本発明を適用することができる。
［発明の効果］
本発明は、以」二のように構成され、通常、電子線マイ
クロアナライザ、走査型電子顕微鏡が備えている吸収電
流検出器を使用してバックグラウンド補正を行っている
ので、装置を増加する必要がなく、また、分析エリアの
１−〜２点についてバックグラウンドを測定するだけで
、全データのバックグラウンド補正を正確に行うことが
できるので、全体の分析時間を短くすることができる。
クロアナライザ、走査型電子顕微鏡が備えている吸収電
流検出器を使用してバックグラウンド補正を行っている
ので、装置を増加する必要がなく、また、分析エリアの
１−〜２点についてバックグラウンドを測定するだけで
、全データのバックグラウンド補正を正確に行うことが
できるので、全体の分析時間を短くすることができる。
第１図は本発明にかかる表面分析装置を示す図、第２図
はバックグラウンド強度値と吸収電流値との関係を示す
グラフ、第３図は２次元分布データの分析結果の一例を
示す図である。 ｅ・・・・・・電子ビーム、Ｓ・・・・・・試料、１・
・・・・・電子ビーム源、２・・・・・・試料ステージ
、３・・・・・・Ｘ線分光器、４・・・・・・Ｘ線検出
器、５・・・・・・吸収電流検出器、１０・・・・・・
バックグラウンド補正演算部（１］） 図
はバックグラウンド強度値と吸収電流値との関係を示す
グラフ、第３図は２次元分布データの分析結果の一例を
示す図である。 ｅ・・・・・・電子ビーム、Ｓ・・・・・・試料、１・
・・・・・電子ビーム源、２・・・・・・試料ステージ
、３・・・・・・Ｘ線分光器、４・・・・・・Ｘ線検出
器、５・・・・・・吸収電流検出器、１０・・・・・・
バックグラウンド補正演算部（１］） 図
Claims (1)
- （１）試料面上を走査する電子ビームを発生する手段と
、試料の周囲に配置した試料からの信号を検出する検出
器と、試料の吸収電流を検出する吸収電流検出器と、上
記信号検出器の出力と上記吸収電流検出器の出力から補
正演算を行うバックグラウンド補正演算手段とを有する
ことを特徴とする表面分析装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2103363A JPH07119716B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 表面分析装置 |
| US07/680,427 US5128545A (en) | 1990-04-19 | 1991-04-04 | Method and apparatus for background correction in analysis of a specimen surface |
| EP91105876A EP0452825B1 (en) | 1990-04-19 | 1991-04-12 | Method and apparatus for background correction in analysis of a specimen surface |
| DE69123166T DE69123166T2 (de) | 1990-04-19 | 1991-04-12 | Verfahren und Gerät zur Hintergrundkorrektur bei der Analyse einer Probenoberfläche |
| CN91102529A CN1040251C (zh) | 1990-04-19 | 1991-04-13 | 样品表面分析中校正本底的方法和装置 |
| KR1019910006030A KR960012331B1 (ko) | 1990-04-19 | 1991-04-15 | 시료표면 분석에 있어서 백그라운드 보정을 위한 방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2103363A JPH07119716B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 表面分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042955A true JPH042955A (ja) | 1992-01-07 |
| JPH07119716B2 JPH07119716B2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=14352046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2103363A Expired - Fee Related JPH07119716B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 表面分析装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5128545A (ja) |
| EP (1) | EP0452825B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07119716B2 (ja) |
| KR (1) | KR960012331B1 (ja) |
| CN (1) | CN1040251C (ja) |
| DE (1) | DE69123166T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008180656A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Tohoku Univ | 非走査型波長分散型ｘ線分析装置及びそれを用いた測定方法 |
| CN102765503A (zh) * | 2012-07-26 | 2012-11-07 | 武汉钢铁(集团)公司 | 彩涂钢卷连续在线贴膜及卷取工艺 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5404110A (en) * | 1993-03-25 | 1995-04-04 | International Business Machines Corporation | System using induced current for contactless testing of wiring networks |
| JP2954819B2 (ja) * | 1993-10-07 | 1999-09-27 | 株式会社東芝 | 全反射蛍光ｘ線分析装置の校正方法 |
| US5656812A (en) * | 1995-07-21 | 1997-08-12 | Jeol Ltd. | Electron probe microanalyzer and X-ray analysis using same |
| US6118123A (en) * | 1997-02-05 | 2000-09-12 | Jeol Ltd. | Electron probe microanalyzer |
| KR100272098B1 (ko) * | 1997-07-16 | 2001-03-02 | 윤종용 | 광디스크재생장치의슬레드편차에따른슬레드모터의구동전압제어방법 |
| JP2000275197A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Ｘ線分析装置およびこれを使用した測定方法 |
| JP5938708B2 (ja) * | 2011-10-17 | 2016-06-22 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析用の較正試料ならびにそれを備える蛍光ｘ線分析装置およびそれを用いる蛍光ｘ線分析方法 |
| US11054375B2 (en) | 2016-09-15 | 2021-07-06 | University Of Washington | X-ray spectrometer and methods for use |
| CN107091622B (zh) * | 2017-06-24 | 2020-01-10 | 福建省南安市清信石材有限公司 | 一种纳米分辨率的应变测试设备及方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6385860U (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5481075A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-28 | Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Method of detecting article image using electron beam |
| SU1250925A1 (ru) * | 1984-05-11 | 1986-08-15 | Иркутский государственный университет им.А.А.Жданова | Способ рентгеноспектрального флуоресцентного анализа сплавов |
| SU1224688A1 (ru) * | 1984-07-20 | 1986-04-15 | Казанский Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.С.М.Кирова | Способ определени фона в рентгенофлуоресцентном анализе сложных по составу сред |
| EP0196804B1 (en) * | 1985-03-11 | 1991-01-23 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method and apparatus for testing integrated electronic device |
| EP0204855B1 (en) * | 1985-06-11 | 1992-03-04 | Shimadzu Corporation | Method and apparatus for state analysis |
| US4697080A (en) * | 1986-01-06 | 1987-09-29 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Analysis with electron microscope of multielement samples using pure element standards |
| JPS63313043A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-21 | Jeol Ltd | 平均原子番号によるバックグラウンド推定法 |
| CN1012704B (zh) * | 1988-05-16 | 1991-05-29 | 中国科学院长春光学精密机械研究所 | 双通道比率记录中的串扰补偿方法及装置 |
| JP2842879B2 (ja) * | 1989-01-06 | 1999-01-06 | 株式会社日立製作所 | 表面分析方法および装置 |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP2103363A patent/JPH07119716B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-04-04 US US07/680,427 patent/US5128545A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-12 DE DE69123166T patent/DE69123166T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-12 EP EP91105876A patent/EP0452825B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-13 CN CN91102529A patent/CN1040251C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-15 KR KR1019910006030A patent/KR960012331B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6385860U (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008180656A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Tohoku Univ | 非走査型波長分散型ｘ線分析装置及びそれを用いた測定方法 |
| CN102765503A (zh) * | 2012-07-26 | 2012-11-07 | 武汉钢铁(集团)公司 | 彩涂钢卷连续在线贴膜及卷取工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0452825A2 (en) | 1991-10-23 |
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| US5128545A (en) | 1992-07-07 |
| EP0452825B1 (en) | 1996-11-20 |
| DE69123166T2 (de) | 1997-04-10 |
| CN1055998A (zh) | 1991-11-06 |
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