JPH11224639A - 電子顕微鏡 - Google Patents

電子顕微鏡

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JPH11224639A
JPH11224639A JP10022951A JP2295198A JPH11224639A JP H11224639 A JPH11224639 A JP H11224639A JP 10022951 A JP10022951 A JP 10022951A JP 2295198 A JP2295198 A JP 2295198A JP H11224639 A JPH11224639 A JP H11224639A
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JP
Japan
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energy loss
peak
electron microscope
detector
electron
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JP10022951A
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English (en)
Inventor
Norie Yaguchi
紀恵 矢口
Takeo Ueno
武夫 上野
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Hitachi Instruments Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Instruments Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、試料中に含まれる元素が微量
であっても、ピークが得られればその強度に関係なく元
素分布像が得られる電子顕微鏡を提供することにある。 【解決手段】上記目的を達成するべく、電子源から放出
された電子線を試料上に走査し、透過した電子線をエネ
ルギー分散して特定のエネルギーを持つ電子を検出し、
エネルギー損失スペクトルを導出する電子顕微鏡におい
て、前記エネルギー損失スペクトル中の任意の個所で発
生するエネルギー損失ピーク、或いは特定エネルギー損
失ピークの発生を検出する検出器と、該検出器によって
得られる検出信号に基づいて、元素分布像を表示する表
示装置を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子顕微鏡に係
り、特に試料中の化合物中に微量に含まれる軽元素,化
合物などの元素分布像、更には化学結合状態および状態
密度を反映した元素分布像を得ることが可能な分析電子
顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の電子顕微鏡で元素分布像を得る方
法として、一般的な方法は、エネルギー分散型X線分光
法(Electron energy dispersive X-ray spectroscopy;
EDS)がある。
【0003】また、エネルギー損失分光分析法(Electr
on energy-loss spectroscopy;EELS) を用いる方法が
ある。EELSは、物質に電子線を照射し、透過また
は、反射してくる電子の中で、非弾性散乱し、物質の状
態を励起して、失われる入射電子のエネルギー損失を測
定する方法である。非弾性散乱した電子のうち、試料の
原子の内殻電子を励起して、エネルギー損失を受けたコ
ア・ロス(core-loss)電子は、元素の種類,状態密度,
原子間距離などの情報を含んでいる。エネルギー損失を
受けた電子は、均一な磁界をかけられたスペクトロメー
タで分光され、各エネルギーを持った電子の強度は、シ
ンチレーターと光電子増倍管を用いて測定される。スペ
クトロメータにかける磁界強度を一定の速度で走査する
ことにより、エネルギー軸を移動させ、それと同期させ
て、検出信号の強度分布を縦軸にプロットすれば、エネ
ルギー損失スペクトルが得られる。この試料中でエネル
ギー損失をした電子の特定のエネルギーのみをエネルギ
ースリットにより選択して結像させることにより、エネ
ルギーフィルター像ができる。EELSの場合、バック
グラウンドの強度が高いため、エネルギーフィルター像
で元素分布像を得るためには、該当する元素のピーク強
度をあるエネルギー幅で取り込み、得られた強度をその
ピークの直前のバックグラウンドの強度で割り、元素分
布像を得ている。
【0004】これら従来技術で化合物の多層膜の同定を
行う場合、例えば、SiO2 とSiNXの膜の分布を得る場
合は、OとNのピークのあるエネルギー幅の領域内の信
号量を用い元素分布像を得ていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】EDSで元素分布像を
得る場合、元素分布を得ることは可能であるが、検出器
の窓の材質やその厚さに検出元素の範囲が左右されやす
い。特に、軽元素はX線のエネルギーが低いため、含有
量が微量である場合、軽元素のX線は試料および検出器
による吸収がおこり、元素分布像を得るのは困難であっ
た。
【0006】EELSの場合、検出信号強度は、元素の
イオン化断面積に比例するので、軽元素ほどイオン化断
面積は大きく検出感度が高く、軽元素の分析には適して
いる。しかし、元素分布像を得るために、一元素に対応
するあるエネルギー幅のスリットを通った電子線を選択
し、その電子線をターゲットで直接受けて、該ターゲッ
トからの信号を増幅し、ビデオ信号に変換後、バックグ
ラウンドの信号を除去して元素分布像を獲得しているの
で、ターゲットの感度によって像の見え方が決まってい
た。このため、スペクトルが得られたとしても、特定元
素の信号強度が差程強くない場合、元素分布像を得られ
ないという問題があった。
【0007】また、EELSのスペクトルは、同一元素
であっても、結晶状態や化学結合状態によって、ピーク
形状が異なり、ピーク位置もシフトするため、その差が
スペクトルに反映されるが、元素分布像は、あるエネル
ギー幅の強度だけを測定するため、従来の元素分布像に
は反映されていない。例えば、SiO2 とSiNX の場
合、Siのピーク形状およびピーク位置は異なるが、元
素分布像には考慮されていなかった。
【0008】本発明の目的は、試料中に含まれる元素が
微量であっても、元素分布像が得られる電子顕微鏡を提
供することにある。
【0009】また、本発明の他の目的は、同一元素でも
化学結合状態が異なれば、その差を検出し、その分布像
を得ることが可能な電子顕微鏡を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題を解決するべく電子源から放出された電子線を試料上
に走査し、透過した電子線をエネルギー分散して特定の
エネルギーを持つ電子を検出し、エネルギー損失スペク
トルを導出する電子顕微鏡において、前記エネルギー損
失スペクトル中の任意の個所又は任意のエネルギーで発
生するエネルギー損失ピーク、或いは特定エネルギー損
失ピークの発生を検出する検出器と、該検出器によって
得られる検出信号に基づいて、元素分布像を表示する表
示装置を備えたことを特徴とする電子顕微鏡を提供す
る。
【0011】以上の構成によればエネルギー損失スペク
トル中の任意の個所又は任意のエネルギーで発生する損
失ピーク、或いは特定エネルギー損失ピークの発生に基
づいて元素分布像を得ているので、特定の元素によるエ
ネルギー損失情報を電子線の強度ではなく、ピークの存
在の有無として検出することが可能になる。即ちスペク
トルが得られれば、元素分布像を得ることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。図1は、本発明の一実施例である電子
顕微鏡のブロック図である。電子顕微鏡の鏡体1は、電
子銃2,コンデンサーレンズ3,対物レンズ4,投射レ
ンズ5により構成されている。コンデンサーレンズ3,
対物レンズ4の間には、走査コイル6が配置されてお
り、走査コイル6の下方に試料7が挿入される。投射レ
ンズ5の下方には、偏向コイル8が配置されている。偏
向コイル8には、偏向電源9,偏向電源制御部10が接
続されている。試料7上方、走査コイル6の下には、二
次電子検出器11が組み込まれている。二次電子検出器
11は、信号増幅器12を介し二次電子像観察用CRT
13に接続されている。走査コイル6には走査電源14
が接続されており、走査電源14は、二次電子像観察用
CRT13に接続されている。また、走査電源14は、
偏向電源制御部10に接続されている。電子顕微鏡の下
には、入射絞り15,スペクトロメータ16の順で装着
されている。スペクトロメータには、スペクトロメータ
16にかける磁界強度を一定の速度で走査する機能が備
わっている。スペクトロメータ16の後方には、エネル
ギー選択スリット17と検出器18が取り付けられてお
り、検出器18は、信号増幅器19を介して、EELS制御
部20,スペクトル表示用CRT21に接続されてい
る。スペクトル表示用CRT21に面して、カメラ22
が設置され、カメラ22は、マッピング用CRT制御部2
3を介して、マッピング用CRT24に接続されてい
る。
【0013】走査電源14には、マッピング用CRT2
4も連結されている。
【0014】電子銃2から出た電子線25は、コンデン
サーレンズ3により試料7面上に収束され照射される。
試料7を透過した電子線26は対物レンズ4により結像
され、像は、さらに投射レンズ5により拡大される。電
子線25は、コンデンサーレンズ3により、試料7面上
でスポット状に収束され、走査コイル6によって試料7
面上を走査する。走査コイル6には、鋸歯状波電流が流
される。電子線束の試料7面上での走査幅は、この電流
の大きさによって変化させる。同期した鋸歯状波信号
は、二次電子像表示用CRT13とマッピング用CRT
24の偏向コイルにも送られCRTの電子線はそれぞれ
の画面を一杯に走査する。二次電子検出器11は、電子
線25の照射によって試料7から放出される二次電子を
検出して、信号増幅器12がその信号を増幅し、その信
号で二次電子像観察用CRT13の輝度変調をする。試
料7中での非弾性散乱で、さまざまなエネルギー損失を
うけた電子線26は投射レンズ5を通過し、スペクトロ
メータ16に入射する。このとき、偏向電源制御部10
は、走査電源14からの信号を受け、走査コイル6によ
って偏向を受けた電子線26が偏向コイル8でスペクト
ロメータの入射面に振り戻されるように、偏向電源9に
信号を送り、偏向コイル8に電流を流すように動作す
る。偏向コイル8でスペクトロメータ16の入射面に振
り戻された電子線は、均一な磁界をかけられたスペクト
ロメータ16の中でエネルギーに応じた半径で軌道が曲
げられ、エネルギー分散をしながら通過する。通過した
電子線の内、特定のエネルギーの電子線がエネルギー選
択スリット17により選択され、検出器18により、電
子線強度が測定される。検出された信号は、信号増幅器
19により増幅され、エネルギー軸に対する検出信号の
強度分布がエネルギー損失スペクトルとして、スペクト
ル表示用CRT21に背景と異なる輝度あるいは、色で
表示される。
【0015】スペクトル表示用CRT21に面したカメ
ラ22は、マッピングの対象とする元素のピークが出現
するある位置を見込み、その位置にピークの光あるい
は、ある色が表示されると、それを検出し、マッピング
用CRT制御部23に信号を送る。マッピング用CRT
制御部23は、その信号を増幅し、その信号でマッピン
グ用CRT24の輝度をONとする。ピークの光あるい
は、ある色が検出されない場合は、マッピング用CRT
制御部23は、マッピング用CRT24の輝度をOFF
とする。本実施例によれば、元素の含有量に無関係に、
電子線25が試料7面上を走査する視野の二次電子像と
それに対応した元素マッピング像が得られる。
【0016】なお、上記した実施例では、走査像の観察
を二次電子像を用いて行うこととしたが、二次電子検出
器11の替わりに、走査透過像を観察するための検出器
を投射レンズ5と偏向コイル8の間に取付け用いても良
い。
【0017】また、図2(a),(b)に、上記実施例の
説明図を示す。図2(a)のようなEELSスペクトル
を取り込んだ場合、このピークに相当するエネルギーの
元素分布は、従来法では、領域bの強度を領域aの強度
で割ることにより得られるが、非常に小さい場合は、信
号量が少なく検出されない場合がある。しかし、本実施
例では、強度が少なくてもピークをカメラ22が見込ん
でいれば、信号として得ることができ定性的な元素分布
像を得ることができる。また、図2(b)に、上からグ
ラファイト,ダイアモンドのEELSスペクトルを示
す。これらは、いずれも炭素のピークであり、従来法で
は、どの構造を採っていても同様な元素分布像となって
しまうが、本実施例の場合、各スペクトルの矢印で設定
した部分をカメラ22が見込もようにすれば各状態の違
いによる状態分布像を得ることができる。化合物につい
ても同様である。
【0018】例えば、デバイス中のSiO2 とSiNX
の幅数nmの多層膜の分布を測定する場合、従来法で
は、OとNとの元素分布像を取り込むが、微量であるた
め、像としての検出が困難で、信号量を増やすために照
射電子線量を増やすと試料が損傷するなどの問題があっ
たが、O,Nと共に、Siもそれぞれピークの位置,形
状が異なるのでO,Nと共に複数のカメラで取り込むこ
とにより、試料に損傷を与えることなく、より精度・感
度の高い分布像を得ることが可能である。
【0019】またこれ等のピーク位置を特定し、その位
置に応じてカメラで見込む位置を設定できるようにすれ
ば、所望の特定元素,分布像を鮮明に得ることができ
る。
【0020】図3に別の実施例を示す。
【0021】スペクトル表示用CRT21に面したカメ
ラ22は画像認識,記憶および比較のためのコンピュー
タ27に接続されている。コンピュータ27は、マッピ
ング用CRT制御部23に接続されている。試料7の各
位置でのエネルギー損失スペクトルがスペクトル表示用
CRT21に表示されると、カメラ22はスペクトルを
撮影しその画像をコンピュータ27に送る。コンピュー
タ27では、記録部28でスペクトルのパターンを認識
し、比較部29へ情報を送信する。比較部29では、あ
らかじめ記憶部30で記憶されていた単数個、あるい
は、複数個のパターンのスペクトルと比較し、一致した
場合は、マッピング用CRT制御部23に信号を送る。
マッピング用CRT制御部23は、その信号を増幅し、
その信号でマッピング用CRT24の輝度をONとす
る。一致しない場合は、マッピング用CRT制御部23
は、マッピング用CRT24の輝度をOFFとする。本
実施例によれば、スペクトルのパターンの形状の違いが
判別可能となり、元素分布像の他、元素の化学結合状態
の分布像が得られる。
【0022】上記実施例では、カメラ22を用いてスペ
クトルの検出をしているが、スペクトル表示用CRT2
1に直接コンピュータを接続し、スペクトル表示用CRT2
1 に座標を与え、各座標でのスペクトルの有無をコンピ
ュータにより検出してもよい。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、元素の含有量にとらわ
れずに、微量な元素でも、元素マッピング像が得られ
る。
【0024】また、本発明によれば、元素マッピング像
だけでなく、元素が各位置でどのような化学結合状態で
存在するのか、状態のマッピング像を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例のブロック図。
【図2】本実施例の説明図。
【図3】一実施例の一部ブロック図。
【符号の説明】
1…電子顕微鏡、2…電子銃、3…コンデンサ−レン
ズ、4…対物レンズ、5…投射レンズ、6…走査コイ
ル、7…試料、8…偏向コイル、9…偏向電源、10…
偏向電源制御部、11…二次電子検出器、12…信号増
幅器、13…二次電子像観察用CRT、14…走査電
源、15…入射絞り、16…スペクトロメータ、17…
エネルギー選択スリット、18…検出器、19…信号増
幅器、20…EELS制御部、21…スペクトル表示用
CRT、22…カメラ、23…マッピング用CRT制御
部、24…マッピング用CRT、25,26…電子線、
27…コンピュータ、28…記録部、29…比較部、3
0…記憶部。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子源から放出された電子線を試料上に走
    査し、透過した電子線をエネルギー分散して特定のエネ
    ルギーを持つ電子を検出し、エネルギー損失スペクトル
    を導出する電子顕微鏡において、 前記エネルギー損失スペクトル中の任意の個所で発生す
    るエネルギー損失ピーク、或いは特定エネルギー損失ピ
    ークの発生を検出する検出器と、 該検出器によって得られる検出信号に基づいて、元素分
    布像を表示する表示装置を備えたことを特徴とする電子
    顕微鏡。
  2. 【請求項2】請求項1において、 前記元素分布像は、前記電子線の走査のために与えられ
    る走査信号に基づいて形成されることを特徴とする電子
    顕微鏡。
  3. 【請求項3】請求項1において、 前記表示装置には、前記電子線の試料に対する走査に応
    じた走査信号が与えられ、該走査信号に応じて前記表示
    装置の輝度変調を行う表示装置制御手段を備えたことを
    特徴とする電子顕微鏡。
  4. 【請求項4】請求項1において、 前記検出器はエネルギー損失ピークの個所に応じて複数
    個備えられ、前記表示装置は該複数個の検出器による複
    数の検出信号に基づいて元素分布像を表示することを特
    徴とする電子顕微鏡。
  5. 【請求項5】請求項1において、 前記検出器は前記エネルギー損失ピークの形状を認識す
    る機能を備え、前記表示装置は、前記検出器によって認
    識されたピークの形状と予め記憶されたピーク形状と比
    較する比較手段からの比較の結果に応じて、前記元素分
    布像を表示することを特徴とする電子顕微鏡。
  6. 【請求項6】請求項1,4または5において、 前記検出器は、前記検出される任意の個所又は任意のエ
    ネルギーで発生するエネルギー損失ピーク、或いは特定
    エネルギー損失ピークより高エネルギー側に現れるピー
    クを検出し、前記表示装置は該ピークの存在に起因して
    前記試料の化学結合状態及び/又は状態密度を反映した
    元素分布像を表示する機能を備えたことを特徴とする電
    子顕微鏡。
  7. 【請求項7】請求項1において、 前記検出器は、前記エネルギー損失ピークの色、或いは
    輝度情報を検出する機能を備えてなることを特徴とする
    電子顕微鏡。
  8. 【請求項8】請求項1において、検出されるべき前記任
    意の個所、或いは特定エネルギー損失ピークを設定する
    設定手段を備えたことを特徴とする電子顕微鏡。
JP10022951A 1998-02-04 1998-02-04 電子顕微鏡 Pending JPH11224639A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6930306B2 (en) 2003-03-24 2005-08-16 Hitachi High-Technologies Corporation Electron microscope
CN112098440A (zh) * 2019-05-29 2020-12-18 Fei 公司 使用带电粒子显微镜检查样品的方法

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