JPH04295832A - Manufacturing method of electrochromic device - Google Patents
Manufacturing method of electrochromic deviceInfo
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- JPH04295832A JPH04295832A JP3103722A JP10372291A JPH04295832A JP H04295832 A JPH04295832 A JP H04295832A JP 3103722 A JP3103722 A JP 3103722A JP 10372291 A JP10372291 A JP 10372291A JP H04295832 A JPH04295832 A JP H04295832A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエレクトロクロミック素
子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電圧を印加すると可逆的に電解酸化もし
くは還元反応が起こり、可逆的に着色(発色)する現象
をエレクトロクロミズムと言う。このような現象を示す
エレクトロクロミック(以下ECと略称する)物質の薄
膜を透明又は不透明からなる一対の電極層で挟持して、
その電極層間に印加する電圧を操作することにより、着
消色するデバイスをEC素子と言う。
【0003】例えば、ガラス基板の上に透明電極膜(陰
極)、三酸化タングステン薄膜、二酸化ケイ素のような
絶縁膜、電極膜(陽極)を順次積層してなるECD(特
公昭52−46098参照)が全固体型ECDとして知
られている。このECDに電圧を印加すると三酸化タン
グステン(WO3 )薄膜が青色に着色する。
【0004】その後、このECDに逆の電圧を印加する
と、WO3 薄膜の青色が消えて無色になる。この着色
・消色する機構は詳しくは解明されていないが、WO3
薄膜および絶縁膜(イオン導電層)中に含まれる少量
の水分がWO3 の着色・消色を支配していると理解さ
れている。着色の反応式は下記のように推定されている
。
【0005】
H2 O → H+ +OH− (WO3
膜=陰極側)WO3 +nH+ +ne− → H
nWO3
無色透明
青色 (絶縁膜=陽極側)OH− →1/2H2
O+1/4O2 ↑+1/2e− 【0006】このE
C素子を光量制御素子(例えば防眩ミラー)や7セグメ
ントを利用した数字表示素子に利用しようとする試みは
、20年以上前から行なわれている。
【0007】ところで、EC層を直接又は間接的に挟む
一対の電極層は、EC層の着消色を外部に見せるために
少なくとも一方は透明でなければならない。特に透過型
のECDの場合には両方とも透明でなければならない。
【0008】透明な電極材料としては、現在のところS
nO2 ,In2 O3 ,ITO(SnO2 とIn
2 O3 との混合物),ZnOなどが知られているが
、これらの材料は比較的透明度が悪いために薄くせねば
ならず、この理由及びその他の理由からECDは基板(
例えば、ガラス板やプラスチック板等)上に形成するの
が普通であり、更に、ECDを形成した基板を保護基板
との間に樹脂と共に素子を封止して物理的及び化学的作
用から保護している。このようなECDの構造の一例を
次に示す。
【0009】図2は2枚の基板の間に樹脂と共に素子を
封止したECDの構成を示す模式断面図であり、図3は
封止する前のECDの概略断面図である。図2に於いて
、矩形のガラス製素子基板(1) の表面全体にITO
で電極層を形成し、次にフォトエッチングまたはレーザ
ーカッティングにより上部電極(6) 用の取出し部(
7) と、下部電極(2) との間に溝を形成した。尚
、ITOをマスク蒸着することにより直接にこれらの取
出し部(7) と下部電極(2) とのパターンを形成
することも行われている。
【0010】次に酸化イリジウムと酸化スズとの混合物
からなる可逆的電解酸化層(3) と、酸化タンタルか
らなるイオン導電層(4) と、酸化タングステンから
なる還元着色性EC層(5) とを順に形成した。
【0011】最後に上部電極(6) としてITOを蒸
着してECDを作製した。この時ITOは既に素子基板
(1) 上に形成された取出し部(7) と一端が接触
するように形成した。ここで電極接点として断面がコの
字型のリン青銅製の導電性クリップ(8) を2本用意
した。このクリップ(8) 2本を素子基板(1) の
端辺側にそれぞれ装着し、これによりクリップ(8)
が上部、下部各電極の取出し部を圧着するようにして、
図3に示された素子基板(1) 上に形成されたECD
を得た。
【0012】図3に示された素子基板(1) 上に形成
されたECDは更に、前述の通り外部からの物理的及び
化学的作用から保護するため、上部電極(6) 上方を
保護用封止基板(9) で覆い、その間に封止樹脂(1
0)を封止した。
尚、この導電性クリップ(8)の形状及び寸法は、封止
基板(9) の位置決めとECD周辺の非表示部のマス
キングができるように設定した。
【0013】基本的にはこれら下部電極(2) 〜上部
電極(6) の積層構造だけでECDが構成される。即
ち、下部電極(2) 及び上部電極(6) の取出し部
(7) 各々はクリップ(8) に導通され、更に各々
外部配線(11)(12)を駆動電源に配線する。前述
の通り、このECDに対する電圧操作により着消色する
。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、素子基
板(1) と保護用封止基板(9) との間に保持され
る封止樹脂の量は、少なすぎると、素子面が十分に封止
されない。また、多すぎると2つの基板の外周辺にはみ
出した封止樹脂が基板表面に回り込んで塊状に硬化付着
する為、硬化後、基板表面や端面に付着した封止剤を除
去する必要があり、この除去処理に時間を要し、また場
合によっては処理時に素子に損傷を与えることもあり問
題であった。
【0015】本発明は、封止時に基板周辺にはみ出した
封止樹脂が、基板表面に回り込まないようにすることに
より、基板表面の硬化樹脂の除去処理をなくして、基板
表面の損傷を与えないようにするEC素子の製造方法を
得ることを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明に係るEC素子の
製造方法では、第1基板上に形成されたエレクトロクロ
ミック素子を前記第1基板と第2基板との間に樹脂と共
に封止したエレクトロクロミック素子の製造方法におい
て、前記第1基板上のエレクトロクロミック素子と第2
基板との何れかの上に樹脂を載置し、前記第1基板と第
2基板とを係合すると共に、前記係合する2つの基板を
回転させて前記第1基板と第2基板との係合端縁部分か
ら過剰の樹脂を排出するものである。
【0017】
【作用】本発明では、封止時に、封止基板と素子基板を
一体にして回転させ、その遠心力で基板間からはみ出る
封止樹脂を周辺に飛散させるので基板表面に樹脂が付着
せず、また基板端面に樹脂が塊状に付着することがない
。
【0018】尚、封止基板と素子基板との回転数は、基
板の大きさや封止樹脂の粘度によって種々に変更するも
のであるが、少なくとも使用する封止樹脂が飛散する回
転数が必要である。また、基板の回転方向には何の制限
もないが、基板を垂直方向に設立させて回転させる方が
、遠心力のほかに重力が加算されることとなり、良好な
樹脂の飛散が得られる。
【0019】尚、後述する実施例では、好適な例として
ECDに付いて記載しているが、ECDの積層構造は、
特にどれと限定されるものではないが、固体型ECDの
構造としては、例えば■電極層/EC層/イオン導電層
/電極層のような4層構造;■電極層/還元着色型EC
層/イオン導電層/可逆的電解酸化層/電極層のような
5層構造があげられる。
【0020】透明電極の材料としては、例えば、SnO
2 ,In2 O3 ,ITOなどが使用される。この
ような電極層は、一般には真空蒸着、イオンプレーティ
ング、スパッタリングなどの真空薄膜形成技術で形成さ
れる。
(還元着色性)EC層としては一般にWO3 ,M0
O3 などが使用される。
【0021】イオン導電層としては、例えば酸化ケイ素
、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化
ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ラン
タン、フッ化マグネシウムなどが使用される。これらの
物質薄膜は製造方法により電子に対して絶縁体であるが
、プロトン(H+ )およびヒドロキシイオン(OH−
)に対しては良導体となる。EC層の着色消色反応には
カチオンが必要とされ、H+ イオンやLi+ イオン
をEC層その他に含有させる必要がある。H+ イオン
は初めからイオンである必要はなく、電圧が印加された
ときにH+ イオンか生じればよく、従ってH+ イオ
ンの代わりに水を含有させてもよい。この水は非常に少
なくて充分であり、しばしば、大気中から自然に侵入す
る水分でも着消色する。
【0022】EC層とイオン導電層とは、どちらを上に
しても下にしてもよい。さらにEC層に対して間にイオ
ン導電層を挟んで(場合により酸化着色性EC層ともな
る)可逆的電解酸化層ないし触媒層を配設しても良い。
このような層としては、例えば酸化ないし水酸化イリジ
ウム、同じくニッケル、同じくクロム、同じくバナジウ
ム、同じくルテニウム、同じくロジウムなどがあげられ
る。これらの物質は、イオン導電層又は透明電極中に分
散されていても良いし、それらを分散してもよい。不透
明な電極層は、反射層と兼用していてもよく、例えば金
、銀、アルミニウム、クロム、スズ、亜鉛、ニッケル、
ルテニウム、ロジウム、ステンレスなどの金属が使用さ
れる。
【0023】
【実施例】以下に本発明の一実施例を説明する。前述の
図3に示した素子基板(1) 上に形成されたECDの
上部電極(6) 上方を保護用封止基板(9) で覆い
、その間に封止樹脂(10)を封止する。尚、前述の符
号と同一の符号は同一又は相当の部分である。図1は素
子基板と保護用封止基板とを係合させて回転させる状態
を示す断面図である。
【0024】図1に示す通り、吸着盤(13)の付いた
1組の基板保持具(14)の一方の上に前述の図3に示
した素子基板(1) より小さめの矩形のガラス製封止
基板(9’)を載せて、吸着させた。尚、吸着盤(13
)の大きさは封止基板(9’)よりも小さい。そして、
封止基板(9’)上に、エポキシ樹脂からなる液状の封
止樹脂(10)を塗布した。更に、この上から前述の図
3に示したECDを形成した素子基板(1) を載せた
。ここで素子基板(1) は、別の基板保持具(14)
の吸着盤(13)により吸着された状態にある。また吸
着盤(13)の大きさは素子基板(1) よりも小さい
。
【0025】次に、一組の基板保持具(14)を基板面
に垂直な方向に係合して加圧することにより、各基板(
1) (9’)を保持させると共に、各基板(1) (
9’)を一体にして垂直に立てて高速で回転させた。各
基板(1) (9’)からはみ出た封止樹脂(10)は
基板端面より遠心力で周方向に飛散することとなり、基
板(1) (9’)の基板端面からはみ出した封止樹脂
(10)は基板面側に回り込むことはなかった。
【0026】封止樹脂(10)は常温で、又はやや加熱
下で放置すれば硬化するので、硬化を確認した後、基板
の回転を止めて基板保持具(14)から封止した素子基
板をとりはずすと、基板表面に封止樹脂が回り込んでい
ない素子が得られる。ここで上部電極及び下部電極の取
出し用導電性クリップ(8) に、それぞれ外部配線(
11)(12)をボンディングすると、本実施例のEC
Dが出来上がる。
【0027】このECDに、駆動電源から着色電圧(+
1.35V)を付加すると、基板に入射させた波長63
3nmの光に対して透過率は20%に減少し、(10秒
後)この透過率は電圧印加を止めてもしばらく保たれた
。今度は、消色電圧(−1.35V)を印加すると、同
じく透過率は70%に回復した(10秒後)。
【0028】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、封止時に
、封止基板と素子基板とを一体にして回転させて、基板
間からはみ出る封止樹脂を周辺に飛散させるので基板表
面に樹脂が付着せず、また基板端面に樹脂が塊状に付着
することがないので、硬化樹脂の除去処理が不要となっ
た。またこれにより基板への損傷がなくなる等の効果が
ある。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing an electrochromic device. [0002] When a voltage is applied, a reversible electrolytic oxidation or reduction reaction occurs, and the phenomenon of reversible coloring (coloring) is called electrochromism. A thin film of an electrochromic (hereinafter abbreviated as EC) substance that exhibits this phenomenon is sandwiched between a pair of transparent or opaque electrode layers,
A device that changes color or fades by controlling the voltage applied between the electrode layers is called an EC element. For example, an ECD (see Japanese Patent Publication No. 52-46098) in which a transparent electrode film (cathode), a tungsten trioxide thin film, an insulating film such as silicon dioxide, and an electrode film (anode) are sequentially laminated on a glass substrate. is known as an all-solid-state ECD. When a voltage is applied to this ECD, the tungsten trioxide (WO3) thin film is colored blue. [0004] Thereafter, when a reverse voltage is applied to this ECD, the blue color of the WO3 thin film disappears and it becomes colorless. Although the mechanism of coloring and decoloring has not been elucidated in detail, WO3
It is understood that a small amount of water contained in the thin film and insulating film (ion conductive layer) controls the coloring and decoloring of WO3. The reaction formula for coloring is estimated as follows. [0005] H2 O → H+ +OH− (WO3
Membrane = cathode side) WO3 +nH+ +ne- → H
nWO3
Colorless and transparent
Blue (insulating film = anode side) OH- → 1/2H2
O+1/4O2 ↑+1/2e- 0006] This E
Attempts have been made for more than 20 years to utilize C elements in light quantity control elements (for example, anti-glare mirrors) and numeric display elements using seven segments. [0007] By the way, at least one of the pair of electrode layers that directly or indirectly sandwich the EC layer must be transparent in order to show the coloring and decoloring of the EC layer to the outside. Particularly in the case of a transmissive ECD, both must be transparent. At present, S is used as a transparent electrode material.
nO2, In2 O3, ITO (SnO2 and In
2O3 (mixtures with
For example, the ECD is usually formed on a glass plate, a plastic plate, etc.), and the element is sealed with resin between the substrate on which the ECD is formed and a protective substrate to protect it from physical and chemical effects. ing. An example of the structure of such an ECD is shown below. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an ECD in which an element is sealed together with a resin between two substrates, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the ECD before sealing. In Figure 2, ITO is applied to the entire surface of the rectangular glass element substrate (1).
Form an electrode layer with
7) A groove was formed between the lower electrode (2) and the lower electrode (2). Incidentally, patterns of the lead-out portion (7) and the lower electrode (2) are also directly formed by vapor-depositing ITO using a mask. Next, a reversible electrolytic oxidation layer (3) made of a mixture of iridium oxide and tin oxide, an ion conductive layer (4) made of tantalum oxide, and a reductively colored EC layer (5) made of tungsten oxide. were formed in sequence. Finally, ITO was deposited as an upper electrode (6) to produce an ECD. At this time, the ITO was formed so that one end was in contact with the extraction part (7) already formed on the element substrate (1). Here, two conductive clips (8) made of phosphor bronze and having a U-shaped cross section were prepared as electrode contacts. Attach two of these clips (8) to the edge sides of the element board (1), and thereby the clips (8)
Crimp the upper and lower electrode extraction parts,
ECD formed on the element substrate (1) shown in FIG. 3
I got it. The ECD formed on the element substrate (1) shown in FIG. cover with a sealing board (9), and sealing resin (1
0) was sealed. The shape and dimensions of the conductive clip (8) were set so that the sealing substrate (9) could be positioned and the non-display area around the ECD could be masked. [0013] Basically, an ECD is constructed only by the laminated structure of the lower electrode (2) to the upper electrode (6). That is, the lead-out portions (7) of the lower electrode (2) and the upper electrode (6) are each electrically connected to the clip (8), and furthermore, external wiring (11) and (12) are connected to the driving power source, respectively. As mentioned above, the ECD is colored and erased by voltage manipulation. [0014] However, if the amount of sealing resin held between the element substrate (1) and the protective sealing substrate (9) is too small, the element surface may not be fully covered. is not sealed. In addition, if the amount is too large, the sealing resin that protrudes from the outer periphery of the two substrates will wrap around the substrate surface and harden and adhere in lumps, so after curing, it is necessary to remove the sealant that has adhered to the substrate surfaces and end faces. However, this removal process takes time, and in some cases, the device may be damaged during the process, which is a problem. [0015] The present invention prevents the sealing resin protruding from the periphery of the substrate during sealing from wrapping around the substrate surface, thereby eliminating the need to remove the cured resin from the substrate surface and thereby preventing damage to the substrate surface. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an EC element. Means for Solving the Problems In the method for manufacturing an EC element according to the present invention, an electrochromic element formed on a first substrate is sealed together with a resin between the first substrate and the second substrate. In the method for manufacturing an electrochromic device, the electrochromic device on the first substrate and the second electrochromic device are
A resin is placed on one of the substrates, the first substrate and the second substrate are engaged, and the two substrates to be engaged are rotated to connect the first substrate and the second substrate. Excess resin is discharged from the engaging edge portion. [Operation] In the present invention, during sealing, the sealing substrate and the element substrate are rotated together, and the centrifugal force causes the sealing resin protruding from between the substrates to be scattered around, so that the resin is not deposited on the substrate surface. Also, resin does not adhere in lumps to the end surface of the substrate. [0018] The rotation speed of the sealing substrate and the element substrate can be varied depending on the size of the substrate and the viscosity of the sealing resin, but the rotation speed must be such that at least the sealing resin used is scattered. be. Although there are no restrictions on the direction of rotation of the substrate, it is better to rotate the substrate vertically, since gravity is added to the centrifugal force, resulting in better resin scattering. In the embodiments described later, ECD is described as a preferable example, but the laminated structure of ECD is as follows.
Although not particularly limited, the structure of solid-state ECD includes, for example: ■4-layer structure such as electrode layer/EC layer/ion conductive layer/electrode layer; ■electrode layer/reduction colored EC
A five-layer structure such as layer/ion conductive layer/reversible electrolytic oxidation layer/electrode layer is mentioned. [0020] As the material of the transparent electrode, for example, SnO
2, In2O3, ITO, etc. are used. Such an electrode layer is generally formed by vacuum thin film forming techniques such as vacuum evaporation, ion plating, and sputtering. (Reduction colorability) EC layer is generally WO3, M0
O3 etc. are used. As the ion conductive layer, for example, silicon oxide, tantalum oxide, titanium oxide, aluminum oxide, niobium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide, magnesium fluoride, etc. are used. Although thin films of these materials are insulators with respect to electrons due to the manufacturing method, they also contain protons (H+) and hydroxy ions (OH-
) is a good conductor. Cations are required for the coloring and decoloring reaction of the EC layer, and it is necessary to contain H+ ions and Li+ ions in the EC layer and other parts. The H+ ions do not have to be ions from the beginning, but only H+ ions are generated when a voltage is applied. Therefore, water may be included instead of the H+ ions. Very little of this water is sufficient, and often even moisture that naturally enters from the atmosphere will discolor. [0022] The EC layer and the ion conductive layer may be placed either on top or on the bottom. Further, a reversible electrolytic oxidation layer or a catalyst layer may be provided to the EC layer with an ion conductive layer sandwiched therebetween (which may also serve as an oxidative coloring EC layer in some cases). Such layers include, for example, iridium oxide or hydroxide, nickel, chromium, vanadium, ruthenium, rhodium, and the like. These substances may be dispersed in the ion conductive layer or the transparent electrode, or may be dispersed therein. The opaque electrode layer may also serve as a reflective layer, such as gold, silver, aluminum, chromium, tin, zinc, nickel,
Metals such as ruthenium, rhodium, and stainless steel are used. [Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below. The upper electrode (6) of the ECD formed on the element substrate (1) shown in FIG. 3 is covered with a protective sealing substrate (9), and a sealing resin (10) is sealed in between. Note that the same reference numerals as those described above indicate the same or corresponding parts. FIG. 1 is a sectional view showing a state in which an element substrate and a protective sealing substrate are engaged and rotated. As shown in FIG. 1, a smaller rectangular glass element substrate (1) shown in FIG. A sealing substrate (9') was placed and adsorbed. In addition, a suction cup (13
) is smaller than the sealing substrate (9'). and,
A liquid sealing resin (10) made of epoxy resin was applied onto the sealing substrate (9'). Furthermore, the element substrate (1) on which the ECD shown in FIG. 3 was formed was placed on top of this. Here, the element substrate (1) is attached to another substrate holder (14).
It is in a state where it is sucked by the suction cup (13). Further, the size of the suction cup (13) is smaller than the element substrate (1). Next, each substrate (
1) (9') and each board (1) (
9') were put together vertically and rotated at high speed. The sealing resin (10) protruding from each substrate (1) (9') will be scattered in the circumferential direction from the edge surface of the substrate due to centrifugal force, and the sealing resin (10) protruding from the edge surface of the substrate (1) (9') will be scattered in the circumferential direction from the edge surface of the substrate. (10) did not wrap around to the substrate surface side. The sealing resin (10) will harden if left at room temperature or slightly heated, so after confirming the hardening, stop the rotation of the substrate and remove the sealed element substrate from the substrate holder (14). When removed, an element is obtained in which the sealing resin does not wrap around the surface of the substrate. At this point, connect the external wiring (
11) When (12) is bonded, the EC of this example is
D is completed. This ECD is supplied with a coloring voltage (+
1.35V), the wavelength 63
The transmittance decreased to 20% for 3 nm light (after 10 seconds), and this transmittance was maintained for a while even after the voltage application was stopped. This time, when a decoloring voltage (-1.35 V) was applied, the transmittance similarly recovered to 70% (after 10 seconds). As described above, according to the present invention, the sealing substrate and the element substrate are rotated together during sealing, and the sealing resin protruding from between the substrates is scattered around. Since the resin does not adhere to the substrate surface and the resin does not adhere in lumps to the end face of the substrate, a process for removing the cured resin is no longer necessary. This also has the effect of eliminating damage to the substrate.
【図1】素子基板と保護用封止基板とを係合させて回転
させる状態を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a state in which an element substrate and a protective sealing substrate are engaged and rotated.
【図2】2枚の基板の間に樹脂と共に素子を封止したE
CDの構成を示す模式断面図である。[Figure 2] E with an element sealed with resin between two substrates
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a CD.
【図3】封止する前のECDの概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the ECD before sealing.
Claims (1)
ロミック素子を前記第1基板と第2基板との間に樹脂と
共に封止したエレクトロクロミック素子の製造方法にお
いて、前記第1基板上のエレクトロクロミック素子と第
2基板との何れかの上に樹脂を載置し、前記第1基板と
第2基板とを係合すると共に、前記係合する2つの基板
を回転させて前記第1基板と第2基板との係合端縁部分
から過剰の樹脂を排出することを特徴とするエレクトロ
クロミック素子の製造方法。1. A method for manufacturing an electrochromic device, in which an electrochromic device formed on a first substrate is sealed together with a resin between the first substrate and a second substrate, wherein the electrochromic device formed on the first substrate is sealed with a resin. Resin is placed on either the element or the second substrate, the first substrate and the second substrate are engaged, and the two engaging substrates are rotated to connect the first substrate and the second substrate. A method for manufacturing an electrochromic device, characterized in that excess resin is discharged from an edge portion that engages with two substrates.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103722A JPH04295832A (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Manufacturing method of electrochromic device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103722A JPH04295832A (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Manufacturing method of electrochromic device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04295832A true JPH04295832A (en) | 1992-10-20 |
Family
ID=14361573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103722A Pending JPH04295832A (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Manufacturing method of electrochromic device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04295832A (en) |
-
1991
- 1991-03-25 JP JP3103722A patent/JPH04295832A/en active Pending
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