JPH04298005A - サーマルヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
サーマルヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH04298005A JPH04298005A JP3084471A JP8447191A JPH04298005A JP H04298005 A JPH04298005 A JP H04298005A JP 3084471 A JP3084471 A JP 3084471A JP 8447191 A JP8447191 A JP 8447191A JP H04298005 A JPH04298005 A JP H04298005A
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- heating resistor
- thermal head
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Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感熱発色記録装置ある
いは熱転写記録装置等に用いられる多数の発熱抵抗体を
有するサーマルヘッドに関し、特に、前記発熱抵抗体に
、レーザビームによりその抵抗値を均一とする抵抗値調
整用スリットが形成されたサーマルヘッドに関する。
いは熱転写記録装置等に用いられる多数の発熱抵抗体を
有するサーマルヘッドに関し、特に、前記発熱抵抗体に
、レーザビームによりその抵抗値を均一とする抵抗値調
整用スリットが形成されたサーマルヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】サーマルヘッドを用いて優れた印字品質
と濃度階調記録を実現するためには、サーマルヘッドの
抵抗値を均一にする必要がある。従来、絶縁基板上にM
OD材料、もしくは薄膜材料で形成された発熱抵抗体を
有するサーマルヘッドで高品質な階調記録を印字するた
め、レーザトリミングによる発熱抵抗体の抵抗値調整が
行われている。従来のトリミングプロセスはトリミング
をしながら抵抗値を測定し、その抵抗値が目標値以下の
時には所定発熱抵抗体にレーザ光を照射して抵抗値を上
昇させ、上記抵抗値が目標値に到達した時にはレーザ光
照射を停止するという方法がとられている。
と濃度階調記録を実現するためには、サーマルヘッドの
抵抗値を均一にする必要がある。従来、絶縁基板上にM
OD材料、もしくは薄膜材料で形成された発熱抵抗体を
有するサーマルヘッドで高品質な階調記録を印字するた
め、レーザトリミングによる発熱抵抗体の抵抗値調整が
行われている。従来のトリミングプロセスはトリミング
をしながら抵抗値を測定し、その抵抗値が目標値以下の
時には所定発熱抵抗体にレーザ光を照射して抵抗値を上
昇させ、上記抵抗値が目標値に到達した時にはレーザ光
照射を停止するという方法がとられている。
【0003】そして通常図8に示すように、レーザトリ
ミングにより発熱抵抗体をトリミングする場合、共通電
極04および個別電極05間を接続する発熱抵抗体03
にレーザ光を照射して数μm〜数10μmのレーザスポ
ットLoによる孔を生じさせて抵抗値を上昇させる。そ
して、レーザスポットLoによる孔を1個生じさせる毎
に抵抗値を測定し、目標抵抗値に達していなければレー
ザスポットLoの位置を少しずらせて次のレーザ光を照
射する。このようにしてレーザスポットLoによって形
成される連続レーザスポット孔により、発熱抵抗体03
に抵抗値調整用のスリット03aを形成し、発熱抵抗体
03の抵抗値を目標値に合わせる。実用範囲内ではレー
ザ光のスポットLoの径はレーザ光の出力に比例する。 そして、レーザ光のスポットLoの径に比例して抵抗値
は上昇する。もちろん実用範囲を越えた大きなパワーの
レーザ光では表面や下層に破壊を起こし、小さすぎるパ
ワーのレーザ光ではトリミングはできない。
ミングにより発熱抵抗体をトリミングする場合、共通電
極04および個別電極05間を接続する発熱抵抗体03
にレーザ光を照射して数μm〜数10μmのレーザスポ
ットLoによる孔を生じさせて抵抗値を上昇させる。そ
して、レーザスポットLoによる孔を1個生じさせる毎
に抵抗値を測定し、目標抵抗値に達していなければレー
ザスポットLoの位置を少しずらせて次のレーザ光を照
射する。このようにしてレーザスポットLoによって形
成される連続レーザスポット孔により、発熱抵抗体03
に抵抗値調整用のスリット03aを形成し、発熱抵抗体
03の抵抗値を目標値に合わせる。実用範囲内ではレー
ザ光のスポットLoの径はレーザ光の出力に比例する。 そして、レーザ光のスポットLoの径に比例して抵抗値
は上昇する。もちろん実用範囲を越えた大きなパワーの
レーザ光では表面や下層に破壊を起こし、小さすぎるパ
ワーのレーザ光ではトリミングはできない。
【0004】したがって、レーザスポットLoの径は実
用範囲内で定まる一定のものが使用されている。この場
合、トリミング速度を上げるためには、前記実用範囲内
で出力を大きくするか、発熱抵抗体03上でのレーザス
ポットLoの移動速度を速くして1パルス照射時の抵抗
値上昇率を大きくする。このようにして抵抗値上昇率を
大きくすると、目標抵抗値到達直前の状態から目標抵抗
値に到達する最後の1パルスのレーザ光照射での抵抗値
上昇率が大きくなるため、出来上りの抵抗値のバラツキ
も大きくなる。
用範囲内で定まる一定のものが使用されている。この場
合、トリミング速度を上げるためには、前記実用範囲内
で出力を大きくするか、発熱抵抗体03上でのレーザス
ポットLoの移動速度を速くして1パルス照射時の抵抗
値上昇率を大きくする。このようにして抵抗値上昇率を
大きくすると、目標抵抗値到達直前の状態から目標抵抗
値に到達する最後の1パルスのレーザ光照射での抵抗値
上昇率が大きくなるため、出来上りの抵抗値のバラツキ
も大きくなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記抵抗値トリミング
において、より高精度のトリミングを行うには次の(a
),(b)に示す2種類の方法がある。 (a) 1つは1パルス照射時の抵抗値上昇率を小さ
くする方法である。図8の丸1つが1パルス照射時のレ
ーザスポットで、このスポット径を小さくすればよい。 そのためにはレーザ出力を下げる。 (b) もう1つは、レーザスポットのピッチを小さ
くする方法である。そのためにはレーザ光の移動速度を
下げる。これらの二つの方法によれば、トリミングがよ
り高精度におこなえるが、どちらの方法でもトリミング
速度が遅くなることは明白である。
において、より高精度のトリミングを行うには次の(a
),(b)に示す2種類の方法がある。 (a) 1つは1パルス照射時の抵抗値上昇率を小さ
くする方法である。図8の丸1つが1パルス照射時のレ
ーザスポットで、このスポット径を小さくすればよい。 そのためにはレーザ出力を下げる。 (b) もう1つは、レーザスポットのピッチを小さ
くする方法である。そのためにはレーザ光の移動速度を
下げる。これらの二つの方法によれば、トリミングがよ
り高精度におこなえるが、どちらの方法でもトリミング
速度が遅くなることは明白である。
【0006】図9は1個の発熱抵抗体03をトリミング
する場合の抵抗値上昇を表している。目標抵抗値に到達
する直前の状態Raから、目標抵抗値Roに到達する最
後の1パルスのレーザ光を照射すると、その発熱抵抗体
03は目標抵抗値Roを越えて抵抗値Rbに到達し、そ
の発熱抵抗体03のトリミングが終了する。図10は通
常の一定出力でのトリミングによって作製したA4、8
dot/mmのサーマルヘッドの抵抗値バラツキで、ほ
とんどのビットが±0.1%以内に入ってはいるものの
、飛び値によってMaxは0.3%を越えてしまってい
る。以上のことから次の(イ),(ロ)が言える。 (イ) 最後の1パルスのレーザ光での抵抗値上昇率
は、それ以前の抵抗値上昇率と同じであるためこれが大
きいと、目標抵抗値Roをオーバーする大きさも増え、
結果として出来上りのサーマルヘッドのトリミング精度
が低くなる。 (ロ) したがって、1個の発熱抵抗体03をトリミ
ングする際に、精度に最も関係するのは最後の1パルス
である。
する場合の抵抗値上昇を表している。目標抵抗値に到達
する直前の状態Raから、目標抵抗値Roに到達する最
後の1パルスのレーザ光を照射すると、その発熱抵抗体
03は目標抵抗値Roを越えて抵抗値Rbに到達し、そ
の発熱抵抗体03のトリミングが終了する。図10は通
常の一定出力でのトリミングによって作製したA4、8
dot/mmのサーマルヘッドの抵抗値バラツキで、ほ
とんどのビットが±0.1%以内に入ってはいるものの
、飛び値によってMaxは0.3%を越えてしまってい
る。以上のことから次の(イ),(ロ)が言える。 (イ) 最後の1パルスのレーザ光での抵抗値上昇率
は、それ以前の抵抗値上昇率と同じであるためこれが大
きいと、目標抵抗値Roをオーバーする大きさも増え、
結果として出来上りのサーマルヘッドのトリミング精度
が低くなる。 (ロ) したがって、1個の発熱抵抗体03をトリミ
ングする際に、精度に最も関係するのは最後の1パルス
である。
【0007】理想としては最後の1パルスのみレーザ出
力を小さく、それ以前のレーザ出力を大きくすれば高精
度で、且つ高速度なトリミングが可能となるが、最後の
1パルスのみを検出するのは事実上不可能である。そこ
で最も理想に近い形として、トリミング中の抵抗値が目
標抵抗値に十分近ずくまで、例えば目標抵抗値の99%
まで比較的大きなレーザ出力でトリミングし、それ以降
の残り1%を比較的小さな出力でトリミングすることに
よって、高精度で且つ高速度なレーザトリミングが可能
となる。本発明は前記事情、および検討結果に鑑み、サ
ーマルヘッドの抵抗値をレーザトリミングにより均一に
調整するに際し、レーザトリミングによる発熱抵抗体の
抵抗値調整を、高速、且つ高精度で行えるようにするこ
とを課題とする。
力を小さく、それ以前のレーザ出力を大きくすれば高精
度で、且つ高速度なトリミングが可能となるが、最後の
1パルスのみを検出するのは事実上不可能である。そこ
で最も理想に近い形として、トリミング中の抵抗値が目
標抵抗値に十分近ずくまで、例えば目標抵抗値の99%
まで比較的大きなレーザ出力でトリミングし、それ以降
の残り1%を比較的小さな出力でトリミングすることに
よって、高精度で且つ高速度なレーザトリミングが可能
となる。本発明は前記事情、および検討結果に鑑み、サ
ーマルヘッドの抵抗値をレーザトリミングにより均一に
調整するに際し、レーザトリミングによる発熱抵抗体の
抵抗値調整を、高速、且つ高精度で行えるようにするこ
とを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本出願の発明の構成を説明するが、本
発明の構成要素には、後述の実施例の構成要素との対応
を容易にするため、実施例の構成要素の符号をカッコで
囲んだものを付記している。なお、本発明を後述の実施
例の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を
容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定す
るためではない。本出願の第1発明のサーマルヘッドは
、複数の個別電極(5)と、それらの個別電極先端部に
対応して配置された共通電極(4)と、前記個別電極先
端部および共通電極(4)間を接続する発熱抵抗体(3
)とが絶縁基板(2)表面に形成され、前記発熱抵抗体
(3)にはレーザビームによりその抵抗値を均一とする
抵抗値調整用スリット(3a)が形成されたサーマルヘ
ッドにおいて、前記抵抗値調整用スリット(3a)の一
端部の幅が他の部分よりも狭く形成されたことを特徴と
する。
るために案出した本出願の発明の構成を説明するが、本
発明の構成要素には、後述の実施例の構成要素との対応
を容易にするため、実施例の構成要素の符号をカッコで
囲んだものを付記している。なお、本発明を後述の実施
例の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を
容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定す
るためではない。本出願の第1発明のサーマルヘッドは
、複数の個別電極(5)と、それらの個別電極先端部に
対応して配置された共通電極(4)と、前記個別電極先
端部および共通電極(4)間を接続する発熱抵抗体(3
)とが絶縁基板(2)表面に形成され、前記発熱抵抗体
(3)にはレーザビームによりその抵抗値を均一とする
抵抗値調整用スリット(3a)が形成されたサーマルヘ
ッドにおいて、前記抵抗値調整用スリット(3a)の一
端部の幅が他の部分よりも狭く形成されたことを特徴と
する。
【0009】本出願の第2発明のサーマルヘッドの製造
方法は、絶縁基板(2)表面に、複数の個別電極(5)
とそれらの個別電極先端部に対応して配置された共通電
極(4)と、前記個別電極(5)および共通電極(4)
間を接続する発熱抵抗体(3)とを形成してから、前記
各発熱抵抗体(3)の抵抗値(Ri)が目標抵抗値(R
o)よりも小さい場合にレーザビームを照射して前記発
熱抵抗体(3)に抵抗値調整用のスリットを形成するサ
ーマルヘッドの製造方法において、前記発熱抵抗体(3
)の抵抗値が前記目標抵抗値(Ro)に近い所定範囲に
達してからは、前記所定範囲に達する前に比べて強度の
小さなレーザビームを使用することを特徴とする。
方法は、絶縁基板(2)表面に、複数の個別電極(5)
とそれらの個別電極先端部に対応して配置された共通電
極(4)と、前記個別電極(5)および共通電極(4)
間を接続する発熱抵抗体(3)とを形成してから、前記
各発熱抵抗体(3)の抵抗値(Ri)が目標抵抗値(R
o)よりも小さい場合にレーザビームを照射して前記発
熱抵抗体(3)に抵抗値調整用のスリットを形成するサ
ーマルヘッドの製造方法において、前記発熱抵抗体(3
)の抵抗値が前記目標抵抗値(Ro)に近い所定範囲に
達してからは、前記所定範囲に達する前に比べて強度の
小さなレーザビームを使用することを特徴とする。
【0010】
【作用】本出願の第1のサーマルヘッドは、前記レーザ
ビームにより発熱抵抗体(3)に形成された抵抗値調整
用スリット(3a)の一端部の幅が他の部分よりも狭く
形成されている。すなわち、前記抵抗値調整用スリット
(3a)には、幅の広い部分と幅の狭い部分とがある。 前記抵抗値調整用スリット(3a)の幅の広い部分は、
スポット径の大きなレーザビームを用いて照射された部
分であり、幅の狭い部分はスポット径の小さなレーザビ
ームを用いて照射された部分である。したがって、前記
発熱抵抗体(3)は、その実際の抵抗値と前記目標抵抗
値との差が大きい間は前記スポット径の大きなレーザビ
ームを用いて抵抗値調整を行い、その実際の抵抗値と前
記目標抵抗値との差が小さくなったときは前記スポット
径の小さなレーザビームを用いて抵抗値調整を行うこと
ができる。そして、スポット径が大きなレーザビームを
用いて抵抗値調整を行ったときにはスリット形成の速度
すなわち抵抗値調整速度を高速に行うことができ、スポ
ット径が小さなレーザビームを用いて抵抗値調整を行っ
たときには抵抗値調整を高精度で行うことができる。し
たがって、本出願の第1発明のサーマルヘッドはその製
造時に、レーザトリミングによる発熱抵抗体の抵抗値調
整を、高速、且つ高精度で行うことができる。したがっ
て、本出願の第1発明のサーマルヘッドは、抵抗値が高
精度で均一化されており、しかも生産性が高い。
ビームにより発熱抵抗体(3)に形成された抵抗値調整
用スリット(3a)の一端部の幅が他の部分よりも狭く
形成されている。すなわち、前記抵抗値調整用スリット
(3a)には、幅の広い部分と幅の狭い部分とがある。 前記抵抗値調整用スリット(3a)の幅の広い部分は、
スポット径の大きなレーザビームを用いて照射された部
分であり、幅の狭い部分はスポット径の小さなレーザビ
ームを用いて照射された部分である。したがって、前記
発熱抵抗体(3)は、その実際の抵抗値と前記目標抵抗
値との差が大きい間は前記スポット径の大きなレーザビ
ームを用いて抵抗値調整を行い、その実際の抵抗値と前
記目標抵抗値との差が小さくなったときは前記スポット
径の小さなレーザビームを用いて抵抗値調整を行うこと
ができる。そして、スポット径が大きなレーザビームを
用いて抵抗値調整を行ったときにはスリット形成の速度
すなわち抵抗値調整速度を高速に行うことができ、スポ
ット径が小さなレーザビームを用いて抵抗値調整を行っ
たときには抵抗値調整を高精度で行うことができる。し
たがって、本出願の第1発明のサーマルヘッドはその製
造時に、レーザトリミングによる発熱抵抗体の抵抗値調
整を、高速、且つ高精度で行うことができる。したがっ
て、本出願の第1発明のサーマルヘッドは、抵抗値が高
精度で均一化されており、しかも生産性が高い。
【0011】また、本出願の第2発明のサーマルヘッド
の製造方法は、前記発熱抵抗体(3)の抵抗値が前記目
標抵抗値(Ro)に近い所定範囲に達してからは、前記
所定範囲に達する前に比べて強度の小さなレーザビーム
を使用するので、レーザトリミングによる発熱抵抗体(
3)の抵抗値調整を、高速、且つ高精度で行うことがで
きる。
の製造方法は、前記発熱抵抗体(3)の抵抗値が前記目
標抵抗値(Ro)に近い所定範囲に達してからは、前記
所定範囲に達する前に比べて強度の小さなレーザビーム
を使用するので、レーザトリミングによる発熱抵抗体(
3)の抵抗値調整を、高速、且つ高精度で行うことがで
きる。
【0012】
【実施例】以下、図面により本発明のサーマルヘッドお
よびその製造方法の実施例について説明する。図1は本
発明のサーマルヘッドの一実施例の要部斜視図、図2は
前記図1の矢視II部分の拡大図、図3は前記図2の対
摩耗層を除いた部分の拡大平面図、図4は前記図3の要
部拡大図、である。本実施例のサーマルヘッドの発熱抵
抗体の抵抗値バラツキの説明図、である。 図1に示
すように、サーマルヘッドHは、支持板1を備えている
。この支持板1の表面には、絶縁基板2が接着剤によっ
て張付けられており、この絶縁基板2は、アルミナ製本
体2aとその表面に形成された約60μmの厚さのアン
ダーグレーズ層2bとから構成されている。そして、第
3図に示すように前記絶縁基板2の表面には、複数の発
熱抵抗体3が主走査方向Xに沿って島状に設けられてい
る。 この発熱抵抗体3は、金属有機物抵抗体材料を600℃
で焼成して形成されたものである。なお、この発熱抵抗
体3は薄膜によって形成することも可能である。
よびその製造方法の実施例について説明する。図1は本
発明のサーマルヘッドの一実施例の要部斜視図、図2は
前記図1の矢視II部分の拡大図、図3は前記図2の対
摩耗層を除いた部分の拡大平面図、図4は前記図3の要
部拡大図、である。本実施例のサーマルヘッドの発熱抵
抗体の抵抗値バラツキの説明図、である。 図1に示
すように、サーマルヘッドHは、支持板1を備えている
。この支持板1の表面には、絶縁基板2が接着剤によっ
て張付けられており、この絶縁基板2は、アルミナ製本
体2aとその表面に形成された約60μmの厚さのアン
ダーグレーズ層2bとから構成されている。そして、第
3図に示すように前記絶縁基板2の表面には、複数の発
熱抵抗体3が主走査方向Xに沿って島状に設けられてい
る。 この発熱抵抗体3は、金属有機物抵抗体材料を600℃
で焼成して形成されたものである。なお、この発熱抵抗
体3は薄膜によって形成することも可能である。
【0013】前記絶縁基板2表面上には、図2に示すよ
うな帯状の共通電極本体部4aとこの共通電極本体部4
aから櫛歯状に副走査方向Yに突出する多数の共通電極
接続部4bとを有する共通電極4と、前記多数の共通電
極接続部4bに対向する位置に所定の距離を置いて配置
された多数の個別電極5とが形成されている。前記各共
通電極接続部4bおよび個別電極5は前記絶縁基板2表
面上に主走査方向Xに沿って配設された前記発熱抵抗体
3によって接続されている。また、前記個別電極5の基
端部(第1図中、左端部)は駆動用IC(図示省略)と
接続するためのパッド(すなわち、IC接続端子)5a
として形成されている。そして、前記発熱抵抗体3、共
通電極4、および個別電極5等は耐摩耗層6(図2参照
)によって被覆されている。そして、前記サーマルヘッ
ドHは、前記符号1〜6等で示された構成要素および図
示しない駆動用IC等から構成されている。そして、前
記各発熱抵抗体3が前記耐摩耗層6を介してローラプラ
テン上の感熱記録紙に押付けられた状態で熱記録(印字
)が行われる。
うな帯状の共通電極本体部4aとこの共通電極本体部4
aから櫛歯状に副走査方向Yに突出する多数の共通電極
接続部4bとを有する共通電極4と、前記多数の共通電
極接続部4bに対向する位置に所定の距離を置いて配置
された多数の個別電極5とが形成されている。前記各共
通電極接続部4bおよび個別電極5は前記絶縁基板2表
面上に主走査方向Xに沿って配設された前記発熱抵抗体
3によって接続されている。また、前記個別電極5の基
端部(第1図中、左端部)は駆動用IC(図示省略)と
接続するためのパッド(すなわち、IC接続端子)5a
として形成されている。そして、前記発熱抵抗体3、共
通電極4、および個別電極5等は耐摩耗層6(図2参照
)によって被覆されている。そして、前記サーマルヘッ
ドHは、前記符号1〜6等で示された構成要素および図
示しない駆動用IC等から構成されている。そして、前
記各発熱抵抗体3が前記耐摩耗層6を介してローラプラ
テン上の感熱記録紙に押付けられた状態で熱記録(印字
)が行われる。
【0014】前記サーマルヘッドHの各発熱抵抗体3に
は、レーザビームによって抵抗値調整用スリットSが形
成されている。前記抵抗値調整用スリットSは幅の広い
広幅スリット部分S1と、幅の狭い狭幅スリット部分S
2とから構成されている。前記広幅スリット部分S1は
スポット径の大きなレーザビームによって形成されたス
リットであり、前記狭幅スリット部分S2はスポット径
の小さなレーザビームによって形成されたスリットであ
る。前記抵抗値調整用スリットSによって、サーマルヘ
ッドHの各発熱抵抗体3の抵抗値は均一に調整されてい
る。
は、レーザビームによって抵抗値調整用スリットSが形
成されている。前記抵抗値調整用スリットSは幅の広い
広幅スリット部分S1と、幅の狭い狭幅スリット部分S
2とから構成されている。前記広幅スリット部分S1は
スポット径の大きなレーザビームによって形成されたス
リットであり、前記狭幅スリット部分S2はスポット径
の小さなレーザビームによって形成されたスリットであ
る。前記抵抗値調整用スリットSによって、サーマルヘ
ッドHの各発熱抵抗体3の抵抗値は均一に調整されてい
る。
【0015】次に図5により、前記絶縁基板2表面に形
成された各発熱抵抗体3の抵抗値を調整するレーザトリ
ミング装置を説明する。図5において、プローバ21は
、前記個別電極5のパッド5aに接触する探針21a,
21a,…を備えている。そして、前記プローバ21に
はマルチプレクサリレー22が接続されており、これら
のプローバ21およびマルチプレクサリレー22はコン
ピュータ23により制御されて、前記探針21a、個別
電極5を介して前記発熱抵抗体3,3,…(図2参照)
中の1ビットを選択するように構成されている。また、
前記マルチプレクサリレー22は、抵抗測定器24の入
力端子に接続されており、前記コンピュータ23は、前
記抵抗測定器24によって測定された、発熱抵抗体3の
抵抗値に応じてパルス発生器25で2種のパルス、すな
わち比較的大電力の第1パルスおよび比較的小電力の第
2パルスを発生させる。そして、レーザ装置26は、前
記2種のパルスに応じたスポット径の第1レーザおよび
第2レーザを発熱抵抗体3に照射するように構成されて
いる。
成された各発熱抵抗体3の抵抗値を調整するレーザトリ
ミング装置を説明する。図5において、プローバ21は
、前記個別電極5のパッド5aに接触する探針21a,
21a,…を備えている。そして、前記プローバ21に
はマルチプレクサリレー22が接続されており、これら
のプローバ21およびマルチプレクサリレー22はコン
ピュータ23により制御されて、前記探針21a、個別
電極5を介して前記発熱抵抗体3,3,…(図2参照)
中の1ビットを選択するように構成されている。また、
前記マルチプレクサリレー22は、抵抗測定器24の入
力端子に接続されており、前記コンピュータ23は、前
記抵抗測定器24によって測定された、発熱抵抗体3の
抵抗値に応じてパルス発生器25で2種のパルス、すな
わち比較的大電力の第1パルスおよび比較的小電力の第
2パルスを発生させる。そして、レーザ装置26は、前
記2種のパルスに応じたスポット径の第1レーザおよび
第2レーザを発熱抵抗体3に照射するように構成されて
いる。
【0016】次に、前述の図5のブロック線図で示され
るトリミング装置の作用を図6のフローチャートにより
説明する。前記絶縁基板2表面に形成された前記複数の
発熱抵抗体3のトリミングを行う処理(フロー)が開始
されると、ステップS1において前記プローバ21の探
針21a,21a、…を前記個別電極5,5,…のパッ
ド5a,5a,…に接触させ、探針21aの数に応じた
数(たとえば128)の発熱抵抗体3の初期抵抗値Ri
を測定する。次にステップS2において、n=1と置く
。 次短針にステップS3において前記各発熱抵抗体3,3
,…の中からn=1に対応するビット(すなわち発熱抵
抗体)を選択する。この場合、前記プローバ21の短針
21による発熱抵抗体を選択するとともに、その発熱抵
抗体にレーザが照射される位置に前記レーザ装置26を
移動させる。次にステップS4において抵抗値が最終目
標値の所定範囲内に在るかどうかを判断する。ノー(N
)の場合はステップS5に移る。次にステップS5にお
いて抵抗値が最終目標値の99%範囲内に在るかどうか
を判断する。ノー(N)の場合はステップS6に移り、
イエス(Y)の場合はステップS7に移る。ステップS
6においては比較的大電力の第1レーザを発熱抵抗体3
に照射し、ステップS7においては比較的小電力の第2
レーザを発熱抵抗体3に照射する。
るトリミング装置の作用を図6のフローチャートにより
説明する。前記絶縁基板2表面に形成された前記複数の
発熱抵抗体3のトリミングを行う処理(フロー)が開始
されると、ステップS1において前記プローバ21の探
針21a,21a、…を前記個別電極5,5,…のパッ
ド5a,5a,…に接触させ、探針21aの数に応じた
数(たとえば128)の発熱抵抗体3の初期抵抗値Ri
を測定する。次にステップS2において、n=1と置く
。 次短針にステップS3において前記各発熱抵抗体3,3
,…の中からn=1に対応するビット(すなわち発熱抵
抗体)を選択する。この場合、前記プローバ21の短針
21による発熱抵抗体を選択するとともに、その発熱抵
抗体にレーザが照射される位置に前記レーザ装置26を
移動させる。次にステップS4において抵抗値が最終目
標値の所定範囲内に在るかどうかを判断する。ノー(N
)の場合はステップS5に移る。次にステップS5にお
いて抵抗値が最終目標値の99%範囲内に在るかどうか
を判断する。ノー(N)の場合はステップS6に移り、
イエス(Y)の場合はステップS7に移る。ステップS
6においては比較的大電力の第1レーザを発熱抵抗体3
に照射し、ステップS7においては比較的小電力の第2
レーザを発熱抵抗体3に照射する。
【0017】次にステップS8においてレーザ照射した
発熱抵抗体3の抵抗値を測定する。そして、前記ステッ
プS4に戻る。ステップS4においてイエスの場合はス
テップS10に移る。ステップS10においてn=n+
1と置く。次にステップS11においてn=noかどう
かを判断する。ただしnoは前記個別電極5に接触する
前記プローブ21の探針21aの数に1をプラスした数
であり、たとえば探針21aの数が128であるならば
no=129である。このステップS11においてノー
の場合は前記ステップS3に戻り、イエスの場合には全
ての探針(たとえば128本の探針)21aに接続され
た発熱抵抗体3,3,…のトリミングが終了したものと
して、次のステップS12に移る。
発熱抵抗体3の抵抗値を測定する。そして、前記ステッ
プS4に戻る。ステップS4においてイエスの場合はス
テップS10に移る。ステップS10においてn=n+
1と置く。次にステップS11においてn=noかどう
かを判断する。ただしnoは前記個別電極5に接触する
前記プローブ21の探針21aの数に1をプラスした数
であり、たとえば探針21aの数が128であるならば
no=129である。このステップS11においてノー
の場合は前記ステップS3に戻り、イエスの場合には全
ての探針(たとえば128本の探針)21aに接続され
た発熱抵抗体3,3,…のトリミングが終了したものと
して、次のステップS12に移る。
【0018】ステップS12において、前記絶縁基板2
表面の発熱抵抗体3,3,…の全ビットのトリミングが
終了したかどうか判断する。このステップS12におい
てノーの場合には前記ステップS1に戻り、まだトリミ
ングの終了していない発熱抵抗体3,3,…に接続され
た個別電極5,5,…のパッド5aに前記プローバ21
の探針21aを接触させてその各発熱抵抗体3,3,…
の初期抵抗値Riを測定する。 前記ステップS12
においてイエスの場合には前記絶縁基板2表面の発熱抵
抗体3のトリミングのフローを終了する。このトリミン
グにより、前記金属有機物抵抗体材料から形成された各
発熱抵抗体3のバラツキのあった初期抵抗値Riを所定
の目標範囲内に収めることができる。図7は前記実施例
のサーマルヘッドの抵抗値バラツキを示す図で、Max
の値も0.1%以内に入っている。
表面の発熱抵抗体3,3,…の全ビットのトリミングが
終了したかどうか判断する。このステップS12におい
てノーの場合には前記ステップS1に戻り、まだトリミ
ングの終了していない発熱抵抗体3,3,…に接続され
た個別電極5,5,…のパッド5aに前記プローバ21
の探針21aを接触させてその各発熱抵抗体3,3,…
の初期抵抗値Riを測定する。 前記ステップS12
においてイエスの場合には前記絶縁基板2表面の発熱抵
抗体3のトリミングのフローを終了する。このトリミン
グにより、前記金属有機物抵抗体材料から形成された各
発熱抵抗体3のバラツキのあった初期抵抗値Riを所定
の目標範囲内に収めることができる。図7は前記実施例
のサーマルヘッドの抵抗値バラツキを示す図で、Max
の値も0.1%以内に入っている。
【0019】以上、本発明によるサーマルヘッドの実施
例を詳述したが、本発明は、前述の実施例に限定される
ものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要
旨の範囲内で、種々の設計変更を行うことが可能である
。前記実施例では目標抵抗値の99%以内に達してから
レーザ出力を変更してトリミングを行う2段階トリミン
グであるが、これを95%までは実用範囲内での、比較
的大きなレーザ出力、95〜99%の範囲は中間の大き
さのレーザ出力、それ以降の残り1%を比較的小さなレ
ーザ出力というように3段階、またそれ以上に区切って
も同様な効果を得られる。また、レーザ出力を切り替え
るタイミングは、抵抗値が目標の98%または97%に
達したとき等に変更することも可能である。そして、切
り替時の定める抵抗値を最適化することにより、通常よ
りも短時間で、より高精度のトリミングが可能なる。
例を詳述したが、本発明は、前述の実施例に限定される
ものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要
旨の範囲内で、種々の設計変更を行うことが可能である
。前記実施例では目標抵抗値の99%以内に達してから
レーザ出力を変更してトリミングを行う2段階トリミン
グであるが、これを95%までは実用範囲内での、比較
的大きなレーザ出力、95〜99%の範囲は中間の大き
さのレーザ出力、それ以降の残り1%を比較的小さなレ
ーザ出力というように3段階、またそれ以上に区切って
も同様な効果を得られる。また、レーザ出力を切り替え
るタイミングは、抵抗値が目標の98%または97%に
達したとき等に変更することも可能である。そして、切
り替時の定める抵抗値を最適化することにより、通常よ
りも短時間で、より高精度のトリミングが可能なる。
【0020】
【発明の効果】前述したように、本発明によれば、多階
調記録に適した高精度なサーマルヘッドの作製が高速な
レーザトリミングプロセスによって可能となる。
調記録に適した高精度なサーマルヘッドの作製が高速な
レーザトリミングプロセスによって可能となる。
【図1】 図1は本発明の一実施例のサーマルヘッド
Hの要部斜視図である。
Hの要部斜視図である。
【図2】 図2は前記図1の矢印II部分の拡大図で
ある。
ある。
【図3】 図3は同実施例の対摩耗層6を省略した平
面拡大図である。
面拡大図である。
【図4】 図4は前記図3の要部拡大図である。
【図5】 図5は同実施例で使用するトリミング装置
のブロック図である。
のブロック図である。
【図6】 図6は前記図5に示すトリミング装置の動
作を示すフローチャートである。
作を示すフローチャートである。
【図7】 図7は前記トリミングされた実施例のサー
マルヘッドの抵抗値のバラツキを示すグラフである。
マルヘッドの抵抗値のバラツキを示すグラフである。
【図8】 図8は従来のサーマルヘッドのレーザトリ
ミング方法によって発熱抵抗体に形成されたスリットを
示す図である。
ミング方法によって発熱抵抗体に形成されたスリットを
示す図である。
【図9】 図9は従来のサーマルヘッドのトリミング
方法の説明図である。
方法の説明図である。
【図10】 図10は従来のトリミング方法によって
トリミングされたサーマルヘッドの抵抗値のバラツキを
示すグラフである。
トリミングされたサーマルヘッドの抵抗値のバラツキを
示すグラフである。
Ri…抵抗値、Ro…目標抵抗値、2…絶縁基板、3…
発熱抵抗体、3a…スリット、4…共通電極、5…個別
電極
発熱抵抗体、3a…スリット、4…共通電極、5…個別
電極
Claims (2)
- 【請求項1】 複数の個別電極(5)と、それらの個
別電極先端部に対応して配置された共通電極(4)と、
前記個別電極先端部および共通電極(4)間を接続する
発熱抵抗体(3)とが絶縁基板(2)表面に形成され、
前記発熱抵抗体(3)にはレーザビームによりその抵抗
値を均一とする抵抗値調整用スリット(3a)が形成さ
れたサーマルヘッドにおいて、前記抵抗値調整用スリッ
ト(3a)の一端部の幅が他の部分よりも狭く形成され
たことを特徴とするサーマルヘッド。 - 【請求項2】 絶縁基板(2)表面に、複数の個別電
極(5)とそれらの個別電極先端部に対応して配置され
た共通電極(4)と、前記個別電極(5)および共通電
極(4)間を接続する発熱抵抗体(3)とを形成してか
ら、前記各発熱抵抗体(3)の抵抗値(Ri)が目標抵
抗値(Ro)よりも小さい場合にレーザビームを照射し
て前記発熱抵抗体(3)に抵抗値調整用のスリットを形
成するサーマルヘッドの製造方法において、前記発熱抵
抗体(3)の抵抗値が前記目標抵抗値(Ro)に近い所
定範囲に達してからは、前記所定範囲に達する前に比べ
て強度の小さなレーザビームを使用することを特徴とす
るサーマルヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3084471A JPH04298005A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3084471A JPH04298005A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04298005A true JPH04298005A (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=13831555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3084471A Pending JPH04298005A (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04298005A (ja) |
-
1991
- 1991-03-26 JP JP3084471A patent/JPH04298005A/ja active Pending
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