JPH04300893A - ステロイド誘導体の製造法 - Google Patents
ステロイド誘導体の製造法Info
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Steroid Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は１α，２５−ジヒドロキ
シ−２２−オキサ−ビタミンＤ３およびその誘導体を製
造する際の中間体としての有用性が期待される（Ｒ）−
または（Ｓ）−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−
５，７−ジエン−２０−オールの新規な製造法並びに上
記化合物の製造過程で得られる新規な中間体化合物に関
する。
シ−２２−オキサ−ビタミンＤ３およびその誘導体を製
造する際の中間体としての有用性が期待される（Ｒ）−
または（Ｓ）−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−
５，７−ジエン−２０−オールの新規な製造法並びに上
記化合物の製造過程で得られる新規な中間体化合物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】１α，２５−ヒドロキシビタミンＤ３は
高い生物活性を有する活性型ビタミンＤ３であることが
知られている。さらに、最近になっていわゆるビタミン
Ｄ活性の他に分化誘導作用をも有することが解明された
。 しかしながら、従来の活性型ビタミンＤ３を分化誘導作
用に基づいて制ガン剤として使用する場合、そのビタミ
ンＤ活性はかえって副作用となる。従ってこれらの作用
の分離を目的としてビタミンＤ活性を有しない活性型ビ
タミンＤ誘導体とその合成法の研究が行われ、その代表
的なものとして１α，２５−ジヒドロキシ−２０−オキ
サ−２１−ノルビタミンＤ３（Ｎ． Ｋｕｂｏｄｅｒａ
， Ｃｈｅｍ． Ｐｈａｒｍ． Ｂｕｌｌ．， ３４，
２２８６（１９８６））あるいは１α，２５−ジヒドロ
キシ−２２−オキサビタミンＤ３（Ｅ． Ｍｕｒａｙａ
ｍａ， Ｃｈｅｍ． Ｐｈａｒｍ． Ｂｕｌｌ．， ３
４，４４１０（１９８６））が知られている。
高い生物活性を有する活性型ビタミンＤ３であることが
知られている。さらに、最近になっていわゆるビタミン
Ｄ活性の他に分化誘導作用をも有することが解明された
。 しかしながら、従来の活性型ビタミンＤ３を分化誘導作
用に基づいて制ガン剤として使用する場合、そのビタミ
ンＤ活性はかえって副作用となる。従ってこれらの作用
の分離を目的としてビタミンＤ活性を有しない活性型ビ
タミンＤ誘導体とその合成法の研究が行われ、その代表
的なものとして１α，２５−ジヒドロキシ−２０−オキ
サ−２１−ノルビタミンＤ３（Ｎ． Ｋｕｂｏｄｅｒａ
， Ｃｈｅｍ． Ｐｈａｒｍ． Ｂｕｌｌ．， ３４，
２２８６（１９８６））あるいは１α，２５−ジヒドロ
キシ−２２−オキサビタミンＤ３（Ｅ． Ｍｕｒａｙａ
ｍａ， Ｃｈｅｍ． Ｐｈａｒｍ． Ｂｕｌｌ．， ３
４，４４１０（１９８６））が知られている。
【０００３】これらの活性型ビタミンＤ３の合成は一般
にそのプロビタミンＤ３を光照射ついで生成したプレビ
タミンＤ３を熱異性化することにより行われている。プ
ロビタミンＤ３の合成においては、ステロイド骨格への
１α位水酸基の導入と、５，７−ジエン部の構築がキー
ステップとなる。
にそのプロビタミンＤ３を光照射ついで生成したプレビ
タミンＤ３を熱異性化することにより行われている。プ
ロビタミンＤ３の合成においては、ステロイド骨格への
１α位水酸基の導入と、５，７−ジエン部の構築がキー
ステップとなる。
【０００４】上記活性型ビタミンＤ３の合成はデヒドロ
エピアンドロステロンを酵素処理して得られる１α−ヒ
ドロキシ−デヒドロエピアンドロステロンを共通の中間
体として５，７−ジエン部を構築した後に側鎖を導入あ
るいは側鎖を合成後、５，７−ジエン部を構築すること
によって行われている。しかし、上記出発物質のデヒド
ロエピアンドロステロンの１α位水酸化は収率も低く、
処理も困難である。また、通常の５，７−ジエンの構築
法（ブロム化脱ＨＢｒ）はよく知られている様に異性体
である４，６−ジエンを大量に副生し、しかもその収率
は低くかつ精製も困難である。
エピアンドロステロンを酵素処理して得られる１α−ヒ
ドロキシ−デヒドロエピアンドロステロンを共通の中間
体として５，７−ジエン部を構築した後に側鎖を導入あ
るいは側鎖を合成後、５，７−ジエン部を構築すること
によって行われている。しかし、上記出発物質のデヒド
ロエピアンドロステロンの１α位水酸化は収率も低く、
処理も困難である。また、通常の５，７−ジエンの構築
法（ブロム化脱ＨＢｒ）はよく知られている様に異性体
である４，６−ジエンを大量に副生し、しかもその収率
は低くかつ精製も困難である。
【０００５】さらに、１α−ヒドロキシ−デヒドロエピ
アンドロステロンを用いた２２−オキサ−１α，２５−
ジヒドロキシビタミンＤ３の中間体、プレグナ−５，７
−ジエン誘導体合成においては２０Ｓ−体しか得られな
い。
アンドロステロンを用いた２２−オキサ−１α，２５−
ジヒドロキシビタミンＤ３の中間体、プレグナ−５，７
−ジエン誘導体合成においては２０Ｓ−体しか得られな
い。
【０００６】また、特開平２−９６５９１にはプレグナ
−５，７−ジエン誘導体の合成が開示されているが、反
応工程が長く、その生成物はジアステレオマー混合物で
ある。
−５，７−ジエン誘導体の合成が開示されているが、反
応工程が長く、その生成物はジアステレオマー混合物で
ある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、これらの活性
型ビタミンＤ誘導体を効率よく得るためには、対応する
プロビタミンＤ化合物を立体選択的に、かつより高収率
で得る簡便な合成法とそのための中間体化合物の開発が
望まれる。
型ビタミンＤ誘導体を効率よく得るためには、対応する
プロビタミンＤ化合物を立体選択的に、かつより高収率
で得る簡便な合成法とそのための中間体化合物の開発が
望まれる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、１α位に水酸
基を有する活性型ビタミンＤのプロ体合成における重要
中間体である次の式（ＸＸＶ）または式（ＸＸＶＩ）
課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、１α位に水酸
基を有する活性型ビタミンＤのプロ体合成における重要
中間体である次の式（ＸＸＶ）または式（ＸＸＶＩ）
【
０００９】
０００９】
【化１４】
で示される化合物およびその製造法を見出した。
【００１０】すなわち、本発明は次の式（Ｉ）または（
ＩＩ）
ＩＩ）
【００１１】
【化１５】
で示される（Ｒ）−または（Ｓ）−２０−ヒドロキシト
リエノン化合物を出発物質としてこれまでに知られてい
ない反応工程を経て、しかも比較的少ない工程でかつ高
収率で上記した式（ＸＸＶ）および式（ＸＸＶＩ）の化
合物を製造する方法、並びにこの方法の中間過程で得ら
れる新規な化合物に関するものである。
リエノン化合物を出発物質としてこれまでに知られてい
ない反応工程を経て、しかも比較的少ない工程でかつ高
収率で上記した式（ＸＸＶ）および式（ＸＸＶＩ）の化
合物を製造する方法、並びにこの方法の中間過程で得ら
れる新規な化合物に関するものである。
【００１２】本発明の方法は（Ｒ）−または（Ｓ）−２
０−ヒドロキシ−プレグナ−５−エン−３−オールをＤ
ＤＱ酸化して得られる次の式（Ｉ）または式（ＩＩ）
０−ヒドロキシ−プレグナ−５−エン−３−オールをＤ
ＤＱ酸化して得られる次の式（Ｉ）または式（ＩＩ）
【
００１３】
００１３】
【化１６】
で示される２０−ヒドロキシトリエノン化合物の２０位
の水酸基を保護して次の式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）
の水酸基を保護して次の式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）
【００１４】
【化１７】
（式中、Ｘは保護基を表わす）で示される化合物とし、
次いでこの式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）の化合物をイ
ソプロペニルアセテートを用いるエノールアセチル化反
応に付して次の式（Ｖ）または式（ＶＩ）
次いでこの式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）の化合物をイ
ソプロペニルアセテートを用いるエノールアセチル化反
応に付して次の式（Ｖ）または式（ＶＩ）
【００１５】
【化１８】
（式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
１，３，５，７−テトラエン化合物とし、次いでこの式
（Ｖ）または式（ＶＩ）の化合物を還元反応に付して次
の式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）
１，３，５，７−テトラエン化合物とし、次いでこの式
（Ｖ）または式（ＶＩ）の化合物を還元反応に付して次
の式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）
【００１６】
【化１９】
（式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
３β−ヒドロキシ−１，５，７−トリエン化合物とし、
次いでこの式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）の化合物
を４−フェニル−１，２，４−トリアゾリン−３，５−
ジオンと反応させて次の式（ＩＸ）または式（Ｘ）
３β−ヒドロキシ−１，５，７−トリエン化合物とし、
次いでこの式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）の化合物
を４−フェニル−１，２，４−トリアゾリン−３，５−
ジオンと反応させて次の式（ＩＸ）または式（Ｘ）
【０
０１７】
０１７】
【化２０】
（式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
ディールスアルダー型付加反応生成物である化合物とし
、次いでこの式（ＩＸ）または式（Ｘ）の化合物の３位
の水酸基をかさ高い保護基で保護して次の式（ＸＩ）ま
たは式（ＸＩＩ）
ディールスアルダー型付加反応生成物である化合物とし
、次いでこの式（ＩＸ）または式（Ｘ）の化合物の３位
の水酸基をかさ高い保護基で保護して次の式（ＸＩ）ま
たは式（ＸＩＩ）
【００１８】
【化２１】
（式中、ＸおよびＹはともに保護基を表わす）で示され
る化合物とし、引続きこの式（ＸＩ）または式（ＸＩＩ
）の化合物の２０位の水酸基の保護基を除去して次の式
（ＸＩＩＩ）または式（ＸＩＶ）
る化合物とし、引続きこの式（ＸＩ）または式（ＸＩＩ
）の化合物の２０位の水酸基の保護基を除去して次の式
（ＸＩＩＩ）または式（ＸＩＶ）
【００１９】
【化２２】
（式中、Ｙは上記で定義したとおりである）で示される
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＩＩ）または式
（ＸＩＶ）の化合物の２０位の水酸基を後の工程で使用
するＬｉＡｌＨ４等の試薬に安定であるような保護基で
保護して次の式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ）
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＩＩ）または式
（ＸＩＶ）の化合物の２０位の水酸基を後の工程で使用
するＬｉＡｌＨ４等の試薬に安定であるような保護基で
保護して次の式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ）
【００２０】
【化２３】
（式中、ＹおよびＺはともに保護基を表わす）で示され
る化合物とし、次いでこの式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ
）の化合物をエポキシ化剤で処理して次の式（ＸＶＩＩ
）または式（ＸＶＩＩＩ）
る化合物とし、次いでこの式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ
）の化合物をエポキシ化剤で処理して次の式（ＸＶＩＩ
）または式（ＸＶＩＩＩ）
【００２１】
【化２４】
（式中、ＹおよびＺは上記で定義したとおりである）で
示される１α，２α−エポキシ化合物とし、次いでこの
式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩＩＩ）の化合物の３位
の水酸基の保護基を除去して次の式（ＸＩＸ）または式
（ＸＸ）
示される１α，２α−エポキシ化合物とし、次いでこの
式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩＩＩ）の化合物の３位
の水酸基の保護基を除去して次の式（ＸＩＸ）または式
（ＸＸ）
【００２２】
【化２５】
（式中、Ｚは上記で定義したとおりである）で示される
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＸ）または式（
ＸＸ）の化合物をＬｉＡｌＨ４を用いる還元反応に付し
て次の式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ）
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＸ）または式（
ＸＸ）の化合物をＬｉＡｌＨ４を用いる還元反応に付し
て次の式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ）
【００２３】
【化２６】
（式中、Ｚは上記で定義したとおりである）で示される
５，７−ジエン化合物とし、次いでこの式（ＸＸＩ）ま
たは式（ＸＸＩＩ）の化合物の１位および３位の水酸基
をアセチル化反応に付して次の式（ＸＸＩＩＩ）または
式（ＸＸＩＶ）
５，７−ジエン化合物とし、次いでこの式（ＸＸＩ）ま
たは式（ＸＸＩＩ）の化合物の１位および３位の水酸基
をアセチル化反応に付して次の式（ＸＸＩＩＩ）または
式（ＸＸＩＶ）
【００２４】
【化２７】
で示される化合物とし、次いでこの式（ＸＸＩＩＩ）ま
たは式（ＸＸＩＶ）の化合物の２０位の保護基を除去し
て次の式（ＸＸＶ）または式（ＸＸＶＩ）
たは式（ＸＸＩＶ）の化合物の２０位の保護基を除去し
て次の式（ＸＸＶ）または式（ＸＸＶＩ）
【００２５】
【化２８】
で示される（Ｒ）−および（Ｓ）−１α，３β−ジアセ
トキシ−プレグナ−５，７−ジエン−２０−オールを得
ることを特徴とするものである。
トキシ−プレグナ−５，７−ジエン−２０−オールを得
ることを特徴とするものである。
【００２６】上記の方法における製造過程で合成される
中間体化合物（Ｖ）〜（ＸＸＩＶ）は文献未載の新規化
合物である。
中間体化合物（Ｖ）〜（ＸＸＩＶ）は文献未載の新規化
合物である。
【００２７】上記した本発明方法の具体的な反応操作に
おいて、出発化合物の式（Ｉ）または式（ＩＩ）の化合
物はその２０位の水酸基が始めに保護されるが、この保
護基にはその後の反応処理における酸性条件下で安定で
あるような基、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ベン
ジル基等を用いることが可能である。しかしながら、反
応性および脱離性の容易さを考慮するとアセチル基が好
ましい。このアセチル化は慣用の無水酢酸−ピリジン、
塩化アセチル−ピリジンなどを用いて容易に行うことが
できる。このようにして得られた式（ＩＩＩ）または式
（ＩＶ）の化合物は酸性条件下においてイソプロペニル
アセテートを用いるエノールアセチル化反応に付されて
式（Ｖ）または式（ＶＩ）のテトラエン化合物とされる
。ここで反応を酸性条件とするために用いられる酸とし
てはパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などが
挙げられ、これらは式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）の化
合物に対して０．１〜２．０当量の量で用いられ、また
、イソプロペニルアセテートは１〜５０倍当量の量で用
いられる。 この反応は一般に有機溶媒中で還流下に行うことができ
、また反応体のイソプロペニルアセテート自体を溶媒と
して使用することもできる。
おいて、出発化合物の式（Ｉ）または式（ＩＩ）の化合
物はその２０位の水酸基が始めに保護されるが、この保
護基にはその後の反応処理における酸性条件下で安定で
あるような基、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ベン
ジル基等を用いることが可能である。しかしながら、反
応性および脱離性の容易さを考慮するとアセチル基が好
ましい。このアセチル化は慣用の無水酢酸−ピリジン、
塩化アセチル−ピリジンなどを用いて容易に行うことが
できる。このようにして得られた式（ＩＩＩ）または式
（ＩＶ）の化合物は酸性条件下においてイソプロペニル
アセテートを用いるエノールアセチル化反応に付されて
式（Ｖ）または式（ＶＩ）のテトラエン化合物とされる
。ここで反応を酸性条件とするために用いられる酸とし
てはパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などが
挙げられ、これらは式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）の化
合物に対して０．１〜２．０当量の量で用いられ、また
、イソプロペニルアセテートは１〜５０倍当量の量で用
いられる。 この反応は一般に有機溶媒中で還流下に行うことができ
、また反応体のイソプロペニルアセテート自体を溶媒と
して使用することもできる。
【００２８】このようにして得られた式（Ｖ）または式
（ＶＩ）の化合物は、次いで２０位の水酸基の保護基を
分解しないような還元剤例えばＮａＢＨ４、Ｃａ（ＢＨ
４）２、Ｚｎ（ＢＨ４）２等を用いて還元処理して式（
ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）の３β−ヒドロキシ−１
，５，７−トリエン化合物を生成させる。
（ＶＩ）の化合物は、次いで２０位の水酸基の保護基を
分解しないような還元剤例えばＮａＢＨ４、Ｃａ（ＢＨ
４）２、Ｚｎ（ＢＨ４）２等を用いて還元処理して式（
ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）の３β−ヒドロキシ−１
，５，７−トリエン化合物を生成させる。
【００２９】得られた式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ
）の化合物をＰＴＡＤと反応させて式（ＩＸ）または式
（Ｘ）のディールス−アルダー型付加反応生成物とし、
次いでこの生成物の３位の水酸基をかさ高い保護基、例
えばｔ−ブチルジメチルシリル基で保護して式（ＸＩ）
または式（ＸＩＩ）の化合物とし、この式（ＸＩ）また
は式（ＸＩＩ）の化合物の２０位の保護基を除去（例え
ばアセチル基の場合、水酸化カリウムを用いて加水分解
）して式（ＸＩＩＩ）または式（ＸＩＶ）の化合物とし
た後、その水酸基をさらに別の保護基で保護して式（Ｘ
Ｖ）または式（ＸＶＩ）の化合物とする。この場合の保
護基としては次の工程で使用される水素化アルミニウム
アルカリ金属または水素化ほう素アルカリ金属に安定で
あるような基、例えばテトラヒドロピラニル基、ベンジ
ル基、モノメトキシメチル基等が用いられる。この工程
は好ましくはピリジニウムパラトルエンスルホネート（
以下ＰＰＴＳと略称する）の存在下に、ジヒドロピラン
を用いて処理して２０位の水酸基をテトラヒドロピラニ
ルエーテルとして保護することで行われる。
）の化合物をＰＴＡＤと反応させて式（ＩＸ）または式
（Ｘ）のディールス−アルダー型付加反応生成物とし、
次いでこの生成物の３位の水酸基をかさ高い保護基、例
えばｔ−ブチルジメチルシリル基で保護して式（ＸＩ）
または式（ＸＩＩ）の化合物とし、この式（ＸＩ）また
は式（ＸＩＩ）の化合物の２０位の保護基を除去（例え
ばアセチル基の場合、水酸化カリウムを用いて加水分解
）して式（ＸＩＩＩ）または式（ＸＩＶ）の化合物とし
た後、その水酸基をさらに別の保護基で保護して式（Ｘ
Ｖ）または式（ＸＶＩ）の化合物とする。この場合の保
護基としては次の工程で使用される水素化アルミニウム
アルカリ金属または水素化ほう素アルカリ金属に安定で
あるような基、例えばテトラヒドロピラニル基、ベンジ
ル基、モノメトキシメチル基等が用いられる。この工程
は好ましくはピリジニウムパラトルエンスルホネート（
以下ＰＰＴＳと略称する）の存在下に、ジヒドロピラン
を用いて処理して２０位の水酸基をテトラヒドロピラニ
ルエーテルとして保護することで行われる。
【００３０】次いでこの式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ）
の化合物はエポキシ化試剤、例えばｍ−クロロ過安息香
酸で処理して選択的に式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩ
ＩＩ）のα−エポキシ化合物とされる。
の化合物はエポキシ化試剤、例えばｍ−クロロ過安息香
酸で処理して選択的に式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩ
ＩＩ）のα−エポキシ化合物とされる。
【００３１】この式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩＩＩ
）の化合物は次いでその３位の保護基を除去して式（Ｘ
ＩＸ）または式（ＸＸ）の化合物とされる。この脱保護
工程は例えば保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基であ
る場合、Ｂｕ４ＮＦのテトラヒドロフラン溶液で処理す
ることで行われる。
）の化合物は次いでその３位の保護基を除去して式（Ｘ
ＩＸ）または式（ＸＸ）の化合物とされる。この脱保護
工程は例えば保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基であ
る場合、Ｂｕ４ＮＦのテトラヒドロフラン溶液で処理す
ることで行われる。
【００３２】次いでこの式（ＸＩＸ）または式（ＸＸ）
の化合物は水素化アルミニウムアルカリ金属または水素
化ほう素アルカリ金属、例えばＬｉＡｌＨ４、ＮａＡｌ
Ｈ４、ＫＡｌＨ４、ＬｉＢＨ４、ＮａＢＨ４、ＫＢＨ４
などで還元して式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ）の化
合物とされる。
の化合物は水素化アルミニウムアルカリ金属または水素
化ほう素アルカリ金属、例えばＬｉＡｌＨ４、ＮａＡｌ
Ｈ４、ＫＡｌＨ４、ＬｉＢＨ４、ＮａＢＨ４、ＫＢＨ４
などで還元して式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ）の化
合物とされる。
【００３３】この式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ）の
化合物は慣用方法、例えば無水酢酸−ピリジン、または
塩化アセチル−ピリジンを用いてアセチル化して式（Ｘ
ＸＩＩＩ）または式（ＸＸＩＶ）の化合物とされる。
化合物は慣用方法、例えば無水酢酸−ピリジン、または
塩化アセチル−ピリジンを用いてアセチル化して式（Ｘ
ＸＩＩＩ）または式（ＸＸＩＶ）の化合物とされる。
【００３４】このようにして得られた式（ＸＸＩＩＩ）
または式（ＸＸＩＶ）の化合物について２０位の保護基
が除去される。例えば保護基がテトラヒドロピラニル基
の場合、ＰＰＴＳまたはパラトルエンスルホン酸の存在
下にエタノール中処理することによりこの保護基は脱離
し、かくして目的化合物である式（ＸＸＶ）または式（
ＸＸＶＩ）の化合物、すなわち、（Ｒ）−または（Ｓ）
−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７−ジエ
ン−２０−オールが得られる。
または式（ＸＸＩＶ）の化合物について２０位の保護基
が除去される。例えば保護基がテトラヒドロピラニル基
の場合、ＰＰＴＳまたはパラトルエンスルホン酸の存在
下にエタノール中処理することによりこの保護基は脱離
し、かくして目的化合物である式（ＸＸＶ）または式（
ＸＸＶＩ）の化合物、すなわち、（Ｒ）−または（Ｓ）
−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７−ジエ
ン−２０−オールが得られる。
【００３５】本発明の方法を具体的な反応試薬を用いる
反応によって例示すると、次の反応スキームで示される
。
反応によって例示すると、次の反応スキームで示される
。
【００３６】
【化２９】
【００３７】
【化３０】
【００３８】
【化３１】
【００３９】以下に本発明を実施例によって更に詳細に
説明するが、これらの実施例は本発明を具体例によって
説明するための目的で記載するものであって、これらに
よって本発明は限定的に解釈されるものではない。
説明するが、これらの実施例は本発明を具体例によって
説明するための目的で記載するものであって、これらに
よって本発明は限定的に解釈されるものではない。
【００４０】実施例１
（Ｒ）−２０−アセトキシ−プレグナ−１，４，６−ト
リエン−３−オン（ＩＩＩ）（Ｒ）−プレグナ−５−エ
ン−３β，２０−ジオール（２５．０ｇ）をジオキサン
（５００ｍｌ）に溶解し、さらにＤＤＱ（７５．０ｇ）
を加え、１６時間加熱還流した。生成したハイドロキノ
ンを濾過して取り除き、そして溶媒を留去した。残渣を
酢酸エチルで抽出し、１０％ＫＯＨ、ブラインで洗浄し
た後、酢酸エチルを留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル＝９／１）に
付し、化合物（Ｉ）を１５．６ｇ得た。さらに無水酢酸
１５ｍｌ、ピリジン（５０ｍｌ）を加え、そして９０°
〜９５℃において１時間加熱した。酢酸エチルで抽出し
、１０％塩酸、ＮａＨＣＯ３水溶液、ブラインで洗浄し
た後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（クロロホルムで溶出）に付し、標記化合物（Ｉ
ＩＩ）を１４．３ｇ得た（５１％）。 融点：１６２〜１６３℃（ＭｅＯＨ）；ＭＳ（ｍ／ｅ）
：３５５（Ｍ＋）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：５．
９７〜７．０９（５Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，
Ｈ−６，Ｈ−７）、４．８６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、
２．００（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
リエン−３−オン（ＩＩＩ）（Ｒ）−プレグナ−５−エ
ン−３β，２０−ジオール（２５．０ｇ）をジオキサン
（５００ｍｌ）に溶解し、さらにＤＤＱ（７５．０ｇ）
を加え、１６時間加熱還流した。生成したハイドロキノ
ンを濾過して取り除き、そして溶媒を留去した。残渣を
酢酸エチルで抽出し、１０％ＫＯＨ、ブラインで洗浄し
た後、酢酸エチルを留去した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル＝９／１）に
付し、化合物（Ｉ）を１５．６ｇ得た。さらに無水酢酸
１５ｍｌ、ピリジン（５０ｍｌ）を加え、そして９０°
〜９５℃において１時間加熱した。酢酸エチルで抽出し
、１０％塩酸、ＮａＨＣＯ３水溶液、ブラインで洗浄し
た後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（クロロホルムで溶出）に付し、標記化合物（Ｉ
ＩＩ）を１４．３ｇ得た（５１％）。 融点：１６２〜１６３℃（ＭｅＯＨ）；ＭＳ（ｍ／ｅ）
：３５５（Ｍ＋）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：５．
９７〜７．０９（５Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，
Ｈ−６，Ｈ−７）、４．８６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、
２．００（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００４１】実施例２
（Ｓ）−２０−アセトキシ−プレグナ−１，４，６−ト
リエン−３−オン（ＩＶ）（Ｓ）−プレグナ−５−エン
−３β，２０−ジオール（１０．０ｇ）を用いて実施例
１と同様の処理を行い、標記化合物（ＩＶ）を４．１ｇ
得た（３７％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；５．９７〜７．０９（５
Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，Ｈ−７）、
４．９１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０１（３Ｈ，ｓ
，ＣＯＣＨ３）。
リエン−３−オン（ＩＶ）（Ｓ）−プレグナ−５−エン
−３β，２０−ジオール（１０．０ｇ）を用いて実施例
１と同様の処理を行い、標記化合物（ＩＶ）を４．１ｇ
得た（３７％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；５．９７〜７．０９（５
Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，Ｈ−７）、
４．９１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０１（３Ｈ，ｓ
，ＣＯＣＨ３）。
【００４２】実施例３
（Ｒ）−３，２０−ジアセトキシ−プレグナ−１，３，
５，７−テトラエン（Ｖ）実施例１で得られた化合物（
ＩＩＩ） １４．３ｇをイソプロペニルアセテート（１
５０ｍｌ）、酢酸ブチル（３００ｍｌ）に溶解し、パラ
トルエンスルホン酸（７．０ｇ）を加えそして１０時間
還流下に加熱した。反応混合物を重ソウ水、ブラインで
洗浄した後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）そして溶媒を留去し
た。残留物をメタノールより結晶化し、標記化合物（Ｖ
）を７．１ｇ得た（４４％）。 融点：１５９〜１６０℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）：３９７（Ｍ
＋）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．６３〜５
．９７（５Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，
Ｈ−７）、４．８９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０６
、２．１７（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
５，７−テトラエン（Ｖ）実施例１で得られた化合物（
ＩＩＩ） １４．３ｇをイソプロペニルアセテート（１
５０ｍｌ）、酢酸ブチル（３００ｍｌ）に溶解し、パラ
トルエンスルホン酸（７．０ｇ）を加えそして１０時間
還流下に加熱した。反応混合物を重ソウ水、ブラインで
洗浄した後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）そして溶媒を留去し
た。残留物をメタノールより結晶化し、標記化合物（Ｖ
）を７．１ｇ得た（４４％）。 融点：１５９〜１６０℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）：３９７（Ｍ
＋）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．６３〜５
．９７（５Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，
Ｈ−７）、４．８９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０６
、２．１７（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００４３】実施例４
（Ｓ）−３，２０−ジアセトキシ−プレグナ−１，３，
５，７−テトラエン（ＶＩ）実施例２で得られた化合物
（ＩＶ）４．１ｇを用いて実施例３と同様の処理を行い
、標記化合物（ＶＩ）を１．６ｇ得た（３５％）。 融点：１４８〜１４９℃（ＭｅＯＨ）；１Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣｌ３）：δ ５．６５〜６．００（５Ｈ，ｍ，Ｈ
−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．８９（
１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．００、２．１７（６Ｈ，ｓ
，ＣＯＣＨ３）。
５，７−テトラエン（ＶＩ）実施例２で得られた化合物
（ＩＶ）４．１ｇを用いて実施例３と同様の処理を行い
、標記化合物（ＶＩ）を１．６ｇ得た（３５％）。 融点：１４８〜１４９℃（ＭｅＯＨ）；１Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣｌ３）：δ ５．６５〜６．００（５Ｈ，ｍ，Ｈ
−１，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．８９（
１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．００、２．１７（６Ｈ，ｓ
，ＣＯＣＨ３）。
【００４４】実施例５
（Ｒ）−２０−アセトキシ−３β−ヒドロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−プレグナ−１，６−ジエン（ＩＸ
）塩化カルシウム（４０ｇ）をメタノール（２００ｍｌ
）に溶解し、０〜−５℃に冷却しながら、これに水素化
ほう素ナトリウム（２０ｇ）のエタノール溶液（３００
ｍｌ）を滴下して加え、同温度で１時間保った。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−プレグナ−１，６−ジエン（ＩＸ
）塩化カルシウム（４０ｇ）をメタノール（２００ｍｌ
）に溶解し、０〜−５℃に冷却しながら、これに水素化
ほう素ナトリウム（２０ｇ）のエタノール溶液（３００
ｍｌ）を滴下して加え、同温度で１時間保った。
【００４５】次いでこのようにして得られた混合物に実
施例３で得た化合物（Ｖ）７．１ｇのエーテル溶液（３
００ｍｌ）を−１０°〜−１５℃で滴下して加え、同温
度で２時間撹拌した後、室温で一夜保った。次いで５０
％酢酸水溶液を加えて過剰の試薬を分解後、酢酸エチル
で抽出し、抽出液を重ソウ水、ブラインで洗浄した。
施例３で得た化合物（Ｖ）７．１ｇのエーテル溶液（３
００ｍｌ）を−１０°〜−１５℃で滴下して加え、同温
度で２時間撹拌した後、室温で一夜保った。次いで５０
％酢酸水溶液を加えて過剰の試薬を分解後、酢酸エチル
で抽出し、抽出液を重ソウ水、ブラインで洗浄した。
【００４６】このようにして得られた溶液に４−フェニ
ル−１，２，４−トリアゾリジン−３，５−ジオンを溶
液の色が赤くなるまで加え、そして酢酸エチルを留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：
酢酸エチル／クロロホルム＝１／９）により精製し、標
記化合物（ＩＸ）を６．７ｇ得た（７１％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：３５７（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ６
）、６．２９、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．８６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、５．０３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）、４．８９（
１Ｈ，ｔ，Ｈ−２０）、２．０４（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
３）。
ル−１，２，４−トリアゾリジン−３，５−ジオンを溶
液の色が赤くなるまで加え、そして酢酸エチルを留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：
酢酸エチル／クロロホルム＝１／９）により精製し、標
記化合物（ＩＸ）を６．７ｇ得た（７１％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：３５７（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ６
）、６．２９、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．８６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、５．０３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）、４．８９（
１Ｈ，ｔ，Ｈ−２０）、２．０４（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
３）。
【００４７】実施例６
（Ｓ）−２０−アセトキシ−３β−ヒドロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−プレグナ−１，６−ジエン（Ｘ）
実施例４で得られた化合物（ＶＩ）１．６ｇを用いて実
施例５と同様の処理を行い、標記化合物（Ｘ）を１．６
ｇ得た（７５％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．４４（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．７１（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９７（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３，Ｈ
−２０）、２．００（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−プレグナ−１，６−ジエン（Ｘ）
実施例４で得られた化合物（ＶＩ）１．６ｇを用いて実
施例５と同様の処理を行い、標記化合物（Ｘ）を１．６
ｇ得た（７５％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．４４（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．７１（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９７（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３，Ｈ
−２０）、２．００（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００４８】実施例７
（Ｒ）−２０−アセトキシ−３β−ｔ−ブチルジメチル
シリロキシ−５α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フ
ェニル−１，２，４−トリアゾリジノ）−プレグナ−１
，６−ジエン（ＸＩ） 実施例５で得られた化合物（ＩＸ）６．７ｇをジメチル
ホルムアミド（２０ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロライド（３．５ｇ）およびイミダゾール（
３．５ｇ）を加え、４０℃で１時間保持した。反応混合
物をエーテルで抽出し、ブラインで洗浄した後、乾燥し
た（ＭｇＳＯ４）。エーテルを留去し、残留物にメタノ
ールを加えると結晶が析出した。結晶を濾過して標記化
合物（ＸＩ）を７．０ｇ得た（８６％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）；４７１（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２６、６．４１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、４．９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、４．８４（
１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０３（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
３）。
シリロキシ−５α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フ
ェニル−１，２，４−トリアゾリジノ）−プレグナ−１
，６−ジエン（ＸＩ） 実施例５で得られた化合物（ＩＸ）６．７ｇをジメチル
ホルムアミド（２０ｍｌ）に溶解し、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロライド（３．５ｇ）およびイミダゾール（
３．５ｇ）を加え、４０℃で１時間保持した。反応混合
物をエーテルで抽出し、ブラインで洗浄した後、乾燥し
た（ＭｇＳＯ４）。エーテルを留去し、残留物にメタノ
ールを加えると結晶が析出した。結晶を濾過して標記化
合物（ＸＩ）を７．０ｇ得た（８６％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）；４７１（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２６、６．４１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、４．９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、４．８４（
１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０３（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
３）。
【００４９】実施例８
（Ｓ）−２０−アセトキシ−３β−ｔ−ブチルジメチル
シリロキシ−５α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フ
ェニル−１，２，４−トリアゾリジノ）−プレグナ−１
，６−ジエン（ＸＩＩ） 実施例６で得られた化合物（Ｘ）１．６ｇを用いて実施
例７と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＩＩ）を１．
０ｇ得た（５２％）。 融点：１９６〜１９８℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
：δ ７．３７（ｍ，５Ｈ，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６
．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−
７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９
９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３，Ｈ−２０）、２．００（３Ｈ，
ｓ，ＣＯＣＨ３）。
シリロキシ−５α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フ
ェニル−１，２，４−トリアゾリジノ）−プレグナ−１
，６−ジエン（ＸＩＩ） 実施例６で得られた化合物（Ｘ）１．６ｇを用いて実施
例７と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＩＩ）を１．
０ｇ得た（５２％）。 融点：１９６〜１９８℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
：δ ７．３７（ｍ，５Ｈ，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６
．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−
７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９
９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３，Ｈ−２０）、２．００（３Ｈ，
ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００５０】実施例９
（Ｒ）−３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−トリアゾリ
ジノ）−プレグナ−１，６−ジエン−２０−オール（Ｘ
ＩＩＩ） 実施例７で得られた化合物（ＸＩ）７．０ｇを水酸化カ
リウム（４．０ｇ）を含むエタノール（１００ｍｌ）に
溶解し、室温で３０分間撹拌した。酢酸エチルで抽出し
、ブラインで洗浄した後、溶媒を留去した。標記化合物
（ＸＩＩＩ）を５．７ｇ得た（８７％）。 融点：２０３〜２０５℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）４２９（Ｍ＋
−１７５）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３
７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ
，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６
９（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９７（１Ｈ，ｔ
，Ｈ−３）、３．７０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−トリアゾリ
ジノ）−プレグナ−１，６−ジエン−２０−オール（Ｘ
ＩＩＩ） 実施例７で得られた化合物（ＸＩ）７．０ｇを水酸化カ
リウム（４．０ｇ）を含むエタノール（１００ｍｌ）に
溶解し、室温で３０分間撹拌した。酢酸エチルで抽出し
、ブラインで洗浄した後、溶媒を留去した。標記化合物
（ＸＩＩＩ）を５．７ｇ得た（８７％）。 融点：２０３〜２０５℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）４２９（Ｍ＋
−１７５）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３
７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ
，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６
９（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９７（１Ｈ，ｔ
，Ｈ−３）、３．７０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）。
【００５１】実施例１０
（Ｓ）−３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−トリアゾリ
ジノ）−プレグナ−１，６−ジエン−２０−オール（Ｘ
ＩＩＩ） 実施例８で得られた化合物（ＸＩＩ）１．０ｇを用いて
実施例９と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＩＶ）を
９３０ｍｇ得た（９９％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、
３．７７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−トリアゾリ
ジノ）−プレグナ−１，６−ジエン−２０−オール（Ｘ
ＩＩＩ） 実施例８で得られた化合物（ＸＩＩ）１．０ｇを用いて
実施例９と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＩＶ）を
９３０ｍｇ得た（９９％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、
３．７７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）。
【００５２】実施例１１
（Ｒ）−３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロキシ
−プレグナ−１，６−ジエン（ＸＶ） 実施例９で得られた化合物（ＸＩＩＩ）５．７ｇをジク
ロロメタン（１００ｍｌ）に溶解し、ジヒドロピラン（
３．０ｇ）、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（
３００ｍｇ）を加え、室温で４時間撹拌した。ブライン
で洗浄した後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ジクロロメタン
を留去した。標記化合物（ＸＶ）を粉末として４．９ｇ
得た（７５％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：５１３（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２６、６．４４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、４．９７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）、４．６０（
１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．９０（２Ｈ，ｍ，ＴＨＰ，Ｈ
−２０）、３．５７（１Ｈ，ｍ，ＴＨＰ）。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロキシ
−プレグナ−１，６−ジエン（ＸＶ） 実施例９で得られた化合物（ＸＩＩＩ）５．７ｇをジク
ロロメタン（１００ｍｌ）に溶解し、ジヒドロピラン（
３．０ｇ）、ピリジニウムパラトルエンスルホナート（
３００ｍｇ）を加え、室温で４時間撹拌した。ブライン
で洗浄した後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、ジクロロメタン
を留去した。標記化合物（ＸＶ）を粉末として４．９ｇ
得た（７５％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：５１３（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３７（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２６、６．４４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ，Ｈ−１，
Ｈ−２）、４．９７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）、４．６０（
１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．９０（２Ｈ，ｍ，ＴＨＰ，Ｈ
−２０）、３．５７（１Ｈ，ｍ，ＴＨＰ）。
【００５３】実施例１２
（Ｓ）−３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５α，
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロキシ
−プレグナ−１，６−ジエン（ＸＶＩ） 実施例１０で得られた化合物（ＸＩＶ）９３０ｍｇを実
施例１１と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＶＩ）を
９６０ｍｇ得た（９１％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３８（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、
４．６３、４．７０（１Ｈ，ｓ，ＣＨ（ＴＨＰ））、３
．９１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３
．５１（１Ｈ，ｍ，ＣＨ２（ＴＨＰ））。
８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４
−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロキシ
−プレグナ−１，６−ジエン（ＸＶＩ） 実施例１０で得られた化合物（ＸＩＶ）９３０ｍｇを実
施例１１と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＶＩ）を
９６０ｍｇ得た（９１％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３８（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．２６、６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．６６（２Ｈ，ｓ
，Ｈ−１，Ｈ−２）、４．９４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、
４．６３、４．７０（１Ｈ，ｓ，ＣＨ（ＴＨＰ））、３
．９１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３
．５１（１Ｈ，ｍ，ＣＨ２（ＴＨＰ））。
【００５４】実施例１３
（Ｒ）−１α，２α−エポキシ−３β−ヒドロキシ−５
α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２
，４−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロ
キシ−プレグナ−６−エン（ＸＩＸ） 実施例１１で得られた化合物（ＸＶ）２．１ｇをクロロ
ホルム（１００ｍｌ）に溶解し、ｍ−クロロ過安息香酸
（４．０ｇ）を加え、一夜室温で撹拌した。反応混合物
を１０％炭酸カリウム水溶液、次いでブラインで洗浄し
た後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、クロロホルムを留去した
。化合物（ＸＶＩＩ）を２．２ｇ得た（オイル）。
α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２
，４−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロ
キシ−プレグナ−６−エン（ＸＩＸ） 実施例１１で得られた化合物（ＸＶ）２．１ｇをクロロ
ホルム（１００ｍｌ）に溶解し、ｍ−クロロ過安息香酸
（４．０ｇ）を加え、一夜室温で撹拌した。反応混合物
を１０％炭酸カリウム水溶液、次いでブラインで洗浄し
た後、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、クロロホルムを留去した
。化合物（ＸＶＩＩ）を２．２ｇ得た（オイル）。
【００５５】この化合物（ＸＶＩＩ）２．２ｇをテトラ
ヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、これに１Ｍテトラ
ブチルアンモニウムフルオライド（テトラヒドロフラン
溶液）（９ｍｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応
混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄した後、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶出液：酢酸エチル、クロロホルム＝１／９）によ
り精製して標記化合物（ＸＩＸ）をオイルとして１．４
ｇ得た（７８％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４１４（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．４１（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２０、６．４４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．０３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）
、４．６５（１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．５１〜３．８９
（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３．２１
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−１）。
ヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、これに１Ｍテトラ
ブチルアンモニウムフルオライド（テトラヒドロフラン
溶液）（９ｍｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応
混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄した後、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶出液：酢酸エチル、クロロホルム＝１／９）によ
り精製して標記化合物（ＸＩＸ）をオイルとして１．４
ｇ得た（７８％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４１４（Ｍ＋−１７５）；１Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．４１（５Ｈ，ｍ，Ｃ６Ｈ５
）、６．２０、６．４４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．０３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３）
、４．６５（１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．５１〜３．８９
（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３．２１
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−１）。
【００５６】実施例１４
（Ｓ）−１α，２α−エポキシ−３β−ヒドロキシ−５
α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２
，４−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロ
キシ−プレグナ−６−エン（ＸＸ） 実施例１２で得られた化合物（ＸＶＩ）９６０ｍｇを実
施例１３と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＸ）を６
５０ｍｇ得た（７９％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３８（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．１９、６．３９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．９９（１Ｈ，ｍ
，Ｈ−３）、４．６０、４．６７（１Ｈ，ｓ，ＣＨ（Ｔ
ＨＰ））、３．４３〜３．９７（３Ｈ，ｍ，ＣＨ２（Ｔ
ＨＰ），Ｈ−２０）。
α，８α−（３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２
，４−トリアゾリジノ）−２０−テトラヒドロピラニロ
キシ−プレグナ−６−エン（ＸＸ） 実施例１２で得られた化合物（ＸＶＩ）９６０ｍｇを実
施例１３と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＸ）を６
５０ｍｇ得た（７９％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ７．３８（５Ｈ，ｍ
，Ｃ６Ｈ５）、６．１９、６．３９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．９９（１Ｈ，ｍ
，Ｈ−３）、４．６０、４．６７（１Ｈ，ｓ，ＣＨ（Ｔ
ＨＰ））、３．４３〜３．９７（３Ｈ，ｍ，ＣＨ２（Ｔ
ＨＰ），Ｈ−２０）。
【００５７】実施例１５
（Ｒ）−１α，３α−ジアセトキシ−２０−テトラヒド
ロピラニロキシ−プレグナ−５，７−ジエン（ＸＸＩＩ
Ｉ）実施例１３で得られた化合物（ＸＩＸ）１．４ｇの
テトラヒドロフラン溶液（４０ｍｌ）をＬｉＡｌＨ４（
３．０ｇ）を含むテトラヒドロフラン溶液（１００ｍｌ
）に滴下して加え、さらに１時間加熱還流した。反応物
に水を加えて過剰のＬｉＡｌＨ４を分解した後、固形物
を濾過して取り除きクロロホルムで抽出した。抽出液を
ブラインで洗浄し、乾燥した（ＭｇＳＯ４）。化合物（
ＸＸＩ）を６００ｍｇ得た（オイル）。
ロピラニロキシ−プレグナ−５，７−ジエン（ＸＸＩＩ
Ｉ）実施例１３で得られた化合物（ＸＩＸ）１．４ｇの
テトラヒドロフラン溶液（４０ｍｌ）をＬｉＡｌＨ４（
３．０ｇ）を含むテトラヒドロフラン溶液（１００ｍｌ
）に滴下して加え、さらに１時間加熱還流した。反応物
に水を加えて過剰のＬｉＡｌＨ４を分解した後、固形物
を濾過して取り除きクロロホルムで抽出した。抽出液を
ブラインで洗浄し、乾燥した（ＭｇＳＯ４）。化合物（
ＸＸＩ）を６００ｍｇ得た（オイル）。
【００５８】この化合物（ＸＸＩ）６００ｍｇをピリジ
ン（１０ｍｌ）に溶解し、無水酢酸（２ｍｌ）を加え、
９０℃で１時間加熱撹拌した。反応混合物を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を重ソウ水、ブラインで洗浄し、乾燥
した。 酢酸エチルを留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（ＣＨＣｌ３で溶出）に付し、化合物（ＸＸＩＩ
Ｉ）をオイルとして４５０ｍｇ得た（３６％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４４１（Ｍ＋−ＣＨ３ＣＯＯＨ）；１
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．４０、５．７０（
２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．０３（２Ｈ，ｍ，Ｈ
−１，Ｈ−３）、４．７０（１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．
８９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３．
５１（１Ｈ，ｍ，ＣＨ２（ＴＨＰ））、２．０３、２．
１０（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
ン（１０ｍｌ）に溶解し、無水酢酸（２ｍｌ）を加え、
９０℃で１時間加熱撹拌した。反応混合物を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を重ソウ水、ブラインで洗浄し、乾燥
した。 酢酸エチルを留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（ＣＨＣｌ３で溶出）に付し、化合物（ＸＸＩＩ
Ｉ）をオイルとして４５０ｍｇ得た（３６％）。 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４４１（Ｍ＋−ＣＨ３ＣＯＯＨ）；１
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．４０、５．７０（
２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．０３（２Ｈ，ｍ，Ｈ
−１，Ｈ−３）、４．７０（１Ｈ，ｓ，ＴＨＰ）、３．
８９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２０，ＣＨ２（ＴＨＰ））、３．
５１（１Ｈ，ｍ，ＣＨ２（ＴＨＰ））、２．０３、２．
１０（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００５９】実施例１６
（Ｓ）−１α，３β−ジアセトキシ−２０−テトラヒド
ロピラニロキシ−プレグナ−５，７−ジエン（ＸＸＩＶ
）実施例１４で得られた化合物（ＸＸ）６５０ｍｇを用
いて実施例１５と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＸ
ＩＶ）を３２０ｍｇ得た（５８％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．３７、５．６３
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．００（２Ｈ，ｍ，
Ｈ−１，Ｈ−３）、４．５７、４．６７（１Ｈ，ｓ，Ｃ
Ｈ（ＴＨＰ））、３．４６〜４．０９（３Ｈ，ｍ，ＣＨ
２（ＴＨＰ），Ｈ−２０）、２．０３、２．０９（２Ｈ
，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
ロピラニロキシ−プレグナ−５，７−ジエン（ＸＸＩＶ
）実施例１４で得られた化合物（ＸＸ）６５０ｍｇを用
いて実施例１５と同様の処理を行い、標記化合物（ＸＸ
ＩＶ）を３２０ｍｇ得た（５８％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．３７、５．６３
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、５．００（２Ｈ，ｍ，
Ｈ−１，Ｈ−３）、４．５７、４．６７（１Ｈ，ｓ，Ｃ
Ｈ（ＴＨＰ））、３．４６〜４．０９（３Ｈ，ｍ，ＣＨ
２（ＴＨＰ），Ｈ−２０）、２．０３、２．０９（２Ｈ
，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００６０】実施例１７
（Ｒ）−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７
−ジエン−２０−オール（ＸＸＶ） 実施例１５で得られた化合物（ＸＸＩＩＩ）４５０ｍｇ
をエタノール（１０ｍｌ）に溶解し、ピリジニウムパラ
トルエンスルホナート（１００ｍｇ）を加え、４０〜４
５℃で３時間撹拌下に反応させた。反応混合物を酢酸エ
チルで抽出し、ブラインで洗浄した後、酢酸エチルを留
去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出
液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／９）により精製し
標記化合物（ＸＸＶ）を３０８ｍｇ得た（８２％）。融
点：１８８〜１８９℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）：３５７（Ｍ＋
−ＣＨ３ＣＯＯＨ）；ＵＶ（λｍａｘ）：２８２ｎｍ（
ε＝１１，５００、ＥｔＯＨ）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３）：δ ５．３７、５．７０（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，
Ｈ−７）、４．９９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−３）、３
．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０３、２．０８（
６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
−ジエン−２０−オール（ＸＸＶ） 実施例１５で得られた化合物（ＸＸＩＩＩ）４５０ｍｇ
をエタノール（１０ｍｌ）に溶解し、ピリジニウムパラ
トルエンスルホナート（１００ｍｇ）を加え、４０〜４
５℃で３時間撹拌下に反応させた。反応混合物を酢酸エ
チルで抽出し、ブラインで洗浄した後、酢酸エチルを留
去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出
液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／９）により精製し
標記化合物（ＸＸＶ）を３０８ｍｇ得た（８２％）。融
点：１８８〜１８９℃；ＭＳ（ｍ／ｅ）：３５７（Ｍ＋
−ＣＨ３ＣＯＯＨ）；ＵＶ（λｍａｘ）：２８２ｎｍ（
ε＝１１，５００、ＥｔＯＨ）；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３）：δ ５．３７、５．７０（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，
Ｈ−７）、４．９９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−３）、３
．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２０）、２．０３、２．０８（
６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。
【００６１】実施例１８
（Ｓ）−１α，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７
−ジエン−２０−オール（ＸＸＶＩ） 実施例１６で得られた化合物（ＸＸＩＶ）３２０ｍｇを
用いて実施例１７と同様の処理を行い、標記化合物（Ｘ
ＸＶＩ）をオイルとして２００ｍｇ得た（７５％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．３９、５．６４
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．９４（２Ｈ，ｍ，
Ｈ−１，Ｈ−３）、３．６９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２０）、
２．０３、２．０６（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。ＵＶ（
λｍａｘ）：２８２ｎｍ（ε＝１１，０００、ＥｔＯＨ
）。
−ジエン−２０−オール（ＸＸＶＩ） 実施例１６で得られた化合物（ＸＸＩＶ）３２０ｍｇを
用いて実施例１７と同様の処理を行い、標記化合物（Ｘ
ＸＶＩ）をオイルとして２００ｍｇ得た（７５％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ ５．３９、５．６４
（２Ｈ，ｍ，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．９４（２Ｈ，ｍ，
Ｈ−１，Ｈ−３）、３．６９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２０）、
２．０３、２．０６（６Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ３）。ＵＶ（
λｍａｘ）：２８２ｎｍ（ε＝１１，０００、ＥｔＯＨ
）。
【００６２】
【発明の効果】本発明によれば、（Ｒ）−または（Ｓ）
−２０−ヒドロキシトリエノン化合物を出発物質として
これまでに知られていない反応工程を経てしかも比較的
少ない工程でかつ高収率で（Ｒ）−または（Ｓ）−１α
，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７−ジエン−２
０−オールが製造される。
−２０−ヒドロキシトリエノン化合物を出発物質として
これまでに知られていない反応工程を経てしかも比較的
少ない工程でかつ高収率で（Ｒ）−または（Ｓ）−１α
，３β−ジアセトキシ−プレグナ−５，７−ジエン−２
０−オールが製造される。
【００６３】さらに、本方法で得られたこれらの化合物
を使用することにより、２０−オキサ型の活性型ビタミ
ンＤ誘導体の２０Ｒ−および２０Ｓ−体化合物の両方を
合成することができる。
を使用することにより、２０−オキサ型の活性型ビタミ
ンＤ誘導体の２０Ｒ−および２０Ｓ−体化合物の両方を
合成することができる。
【００６４】また、本発明の方法の製造過程で得られる
化合物（Ｖ）〜（ＸＸＩＶ）は文献未載の新規化合物で
ある。
化合物（Ｖ）〜（ＸＸＩＶ）は文献未載の新規化合物で
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】 次の式（Ｉ）または式（ＩＩ）【化１
】 で示される２０−ヒドロキシトリエノン化合物の２０位
の水酸基を保護して次の式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）
【化２】 （式中、Ｘは保護基を表わす）で示される化合物とし、
次いでこの式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）の化合物をイ
ソプロペニルアセテートを用いるエノールアセチル化反
応に付して次の式（Ｖ）または式（ＶＩ） 【化３】 （式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
１，３，５，７−テトラエン化合物とし、次いでこの式
（Ｖ）または式（ＶＩ）の化合物を還元反応に付して次
の式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ） 【化４】 （式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
３β−ヒドロキシ−１，５，７−トリエン化合物とし、
次いでこの式（ＶＩＩ）または式（ＶＩＩＩ）の化合物
を４−フェニル−１，２，４−トリアゾリン−３，５−
ジオンと反応させて次の式（ＩＸ）または式（Ｘ）【化
５】 （式中、Ｘは上記で定義したとおりである）で示される
ディールスアルダー型付加反応生成物である化合物とし
、次いでこの式（ＩＸ）または式（Ｘ）の化合物の３位
の水酸基をかさ高い保護基で保護して次の式（ＸＩ）ま
たは式（ＸＩＩ） 【化６】 （式中、ＸおよびＹはともに保護基を表わす）で示され
る化合物とし、引続きこの式（ＸＩ）または式（ＸＩＩ
）の化合物の２０位の水酸基の保護基を除去して次の式
（ＸＩＩＩ）または式（ＸＩＶ） 【化７】 （式中、Ｙは上記で定義したとおりである）で示される
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＩＩ）または式
（ＸＩＶ）の化合物の２０位の水酸基を後の工程で使用
するＬｉＡｌＨ４等の試薬に安定であるような保護基で
保護して次の式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ） 【化８】 （式中、ＹおよびＺはともに保護基を表わす）で示され
る化合物とし、次いでこの式（ＸＶ）または式（ＸＶＩ
）の化合物をエポキシ化剤で処理して次の式（ＸＶＩＩ
）または式（ＸＶＩＩＩ） 【化９】 （式中、ＹおよびＺは上記で定義したとおりである）で
示される１α，２α−エポキシ化合物とし、次いでこの
式（ＸＶＩＩ）または式（ＸＶＩＩＩ）の化合物の３位
の水酸基の保護基を除去して次の式（ＸＩＸ）または式
（ＸＸ）【化１０】 （式中、Ｚは上記で定義したとおりである）で示される
化合物とし、そして引続きこの式（ＸＩＸ）または式（
ＸＸ）の化合物をＬｉＡｌＨ４を用いる還元反応に付し
て次の式（ＸＸＩ）または式（ＸＸＩＩ） 【化１１】 （式中、Ｚは上記で定義したとおりである）で示される
５，７−ジエン化合物とし、次いでこの式（ＸＸＩ）ま
たは式（ＸＸＩＩ）の化合物の１位および３位の水酸基
をアセチル化反応に付して次の式（ＸＸＩＩＩ）または
式（ＸＸＩＶ）【化１２】 で示される化合物とし、次いでこの式（ＸＸＩＩＩ）ま
たは式（ＸＸＩＶ）の化合物の２０位の保護基を除去し
て次の式（ＸＸＶ）または式（ＸＸＶＩ） 【化１３】 で示される（Ｒ）−または（Ｓ）−１α，３β−ジアセ
トキシ−プレグナ−５，７−ジエン−２０−オールを得
ることを特徴とする上記化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3089173A JP2984406B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3089173A JP2984406B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04300893A true JPH04300893A (ja) | 1992-10-23 |
| JP2984406B2 JP2984406B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=13963395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3089173A Expired - Fee Related JP2984406B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2984406B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210023183A (ko) * | 2019-08-22 | 2021-03-04 | 세종대학교산학협력단 | 탈아세틸화용 조성물 및 이를 이용한 탈아세틸화 방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102108179B1 (ko) * | 2019-08-22 | 2020-05-07 | 세종대학교산학협력단 | 신규한 단백질 및 그의 용도 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP3089173A patent/JP2984406B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210023183A (ko) * | 2019-08-22 | 2021-03-04 | 세종대학교산학협력단 | 탈아세틸화용 조성물 및 이를 이용한 탈아세틸화 방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2984406B2 (ja) | 1999-11-29 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |