JPS643880B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は医薬としての有用性が期待されている
24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロールを合
成するための中間体およびその製造方法に関す
る。 24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロールは
ビタミンD3の代謝産物であり、それ自体ビタミ
ンＤ様の生理活性を有することが知られている。
代謝産物である24，25―ジヒドロキシコレカルシ
フエロールは24位の水酸基の立体配置がＲ―配位
〔（24R）―体〕であり、このものは代謝産物中に
は見出されない24位の異性体である（24S）―体
とは生理活性に違いがあることはよく知られてい
る。従来、これら異性体は通常混合物として比較
的容易に製せられてきたが立体特異的でかつ工業
生産上有利な製造法は見い出されておらず医薬と
して本化合物を供給する上で一つの障害となつて
いた。既に知られている24位異性体の混合物
24ξ，25―ジヒドロキシコレカルシフエロール
〔（24ξ）―体〕すなわち（24R）―体と（24S）―
体の混合物またはその合成中間体の製法として
は、デスモステロールアセテートから出発して、
24ξ，25―ジヒドロキシコレステロールを得る方
法（特開昭49―109367号），3β―アセトキシ―27
―ノル―５―コレステン―25―オンから24ξ，25
―ジヒドロキシコレカルシフエロールを得る方法
〔Biochemistry，12，4851（1973）〕、デスモステ
ロールアセテートから出発し24ξ，25―ジヒドロ
キシコレカルシフエロールを得る方法〔Compt.
rend.Acad.Sci.（Paris），278，529（1974）〕およ
びエルゴステロールを出発物質とし、3β，24ξ，
25―トリヒドロキシコレスター５，７―ジエンを
得る方法があるが、これらの合成方法は立体特異
的でなく、その生成物は24位における立体異性体
の混合物であり、これらの化合物の立体異性体の
分離は非常に困難であり工業生産上不向きであつ
た。また立体特異的な24，25―ジヒドロキシコレ
カルシフエロールの製法としては、24ξ，25―ジ
ヒドロキシコレステロールを（24R）―および
（24S）―異性体に分離し、24R，25―および24S，
25―ジヒドロキシコレステロールとなし各々対応
する24R，25―および24S，25―ジヒドロキシコ
レカルシフエロールを得る方法〔Tetrahedron
Letters，15（1975）〕、既に24位の立体配置の決
まつているステロイド誘導体から24R，25―およ
び24S，25―ジヒドロキシコレカルシフエロール
を得る方法（特開昭52―108960号）が知られてい
る。しかしながらこれらの方法は24位異性体の分
離工程に繁雑な手段を必要とし工業的な製法には
適していない。 本発明者等はこれらの事情を鑑み立体特異的で
かつ工業的な製造に有利な24，25―ジヒドロキシ
コレカルシフエロールの製造方法を鋭意研究した
結果既に光学的に活性なグリセリン酸低級アルキ
ルエステルから容易な手段で得られる光学活性な
３―メチル―１，２，３―ブタントリオール誘導
体（一般式）と22―アリールスルホニル誘導体
（一般式）と反応せしめ、次いで22位のアリー
ルスルホニル基を除去することにより光学的に活
性な24，25―ジヒドロキシコレスタン誘導体が得
られることを見出し本発明を完成した。すなわち
本発明は一般式 （式中Ａはステロイド残基を意味し、Ｒはアリ
ール基を意味する。）で示される化合物に一般式 〔式中R1は水酸基を意味するかまたはR2と一
緒になつてエポキシ基を形成してもよい。R1が
水酸基を意味するときR2はハロゲン原子または
一般式−OR3（式中R3はｐ―トルエンスルホニル
基およびメタンスルホニル基，トリフルオロメタ
ンスルホニル基等のアルキルスルホニル基を意味
する）で示される基である〕で示される化合物を
反応させることを特徴とする一般式 （式中ＡおよびＲは前記と同じものを意味す
る）で示される24，25―ジヒドロキシコレスタン
誘導体の製法および一般式 （式中Ａはステロイド残基を意味し、Ｒはアリ
ール基を意味する。）で示される化合物に関する。 本発明における一般式（）で示される化合物
の立体配置はＲまたはＳおよびdlであり、同様に
一般式（）で示される化合物の24位の立体配置
はＲまたはＳおよびdlである。 本発明の一般式（）および（）においてＡ
で示されるステロイド残基とは17位に結合するス
テロイド類を示し具体的には例えば ａ ５，７―ジエンステロイド類 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味する） ｂ 3α，5α―シクロステロイド類 （式中R′は低級アルキル基を意味する） ｃ ５―エンステロイド類 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味する） 等である。 本発明の方法を実施する上で出発物質として用
いるステロイド類の3β位の水酸基は保護してお
くのが好ましく、保護基としては、反応に際し不
活性なものであれば特に制限なく使用し得るが好
ましくはエーテル系の保護基であり具体的には２
―テトラヒドロピラニル基，β―メトキシエトキ
シメチル基，メトキシメチル基等である。またジ
メチル―ｔ―ブチルシリル基等のトリ低級アルキ
ルシリル基等も好ましい保護基の例である。なお
原料として3β―ヒドロキシ―５―エンステロイ
ド類を用いる場合、3β位の水酸基を直接保護せ
ず3β位の水酸基をトシル化してトシレートとし
た後アルコール性溶媒好ましくはメタノール中で
ピリジンと混合し還流して得られる6β―アルコ
キシ―3α，5α―シクロステロイド類として保護
することもできる。 本発明の一般式（）で示される化合物におい
てＡは前述したステロイド類の残基であり、Ｒは
置換または非置換のアリール基であり、具体的に
は例えばフエニル基，ｐ―トリル基である。一般
式（）で示される化合物としては、例えば22―
アリールスルホニル―23，24―ビスノルコラン―
５―エン―3β―オール，22―アリールスルホニ
ル23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―3β
―オールの3β位の水酸基を保護したものおよび
20―アリールスルホニルメチル―6β―アルコキ
シ―3α，５―シクロ―5α―プレグナン等が挙げ
られる。これらの化合物は新規化合物であり例え
ば ａ エルゴステロールからバートン等の方法〔J.
C.S(c)，1971，1968〕によつて得られるエスゴ
ステロール誘導体と４―フエニル―１，２，４
―トリアゾリン―３，５―ジオンとの１，４―
環化付加体のオゾン酸化物（）を出発物質と
し以下式示する方法 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、R′は
ｐ―トルエンスルホニル基，メタンスルホニル
基およびトリフルオロメタンスルホニル基を意
味し、Ｘはハロゲン原子を意味し、R″は置換
または非置換のアリール基を意味する） 前記の反応式の化合物（）から（）を製
造する段階は通常の水素化金属類を用いた還元
反応例えば水素化硼素ナトリウム，水素化アル
ミニウムリチウムを用いて還元することにより
行なわれる。次いで化合物（）を非プロトン
性有機溶媒中水素化金属類、例えばテトラヒド
ロフラン中水素化アルミニウムリチウムで還元
することにより化合物（）を製造し、次いで
ピリジン等の塩基の存在下ｐ―トルエンスルホ
ニルクロライド，メタンスルホニルクロライ
ド，トリフルオロメタンスルホニルクロライド
を反応させ化合物（）を製造し、次いでアセ
トン，アセトニトリル等の非プロトン性極性溶
媒中NaBr，NaI等の金属ハロゲン化物を反応
させ化合物（）を製造する。なお化合物は
（）は化合物（）を直接水酸基のブロム化
剤例えば２―クロロ―３―エチルベンゾオキサ
ゾリウムテトラヒドロボレートとEt4NBrを用
いる方法、および水酸基のヨード化試薬、例え
ばトリフエニルホスフイン，I2，ジメチルホル
ムアミドの系を用いてハロゲン化することによ
つても製造し得る。このようにして得られた化
合物（）をジメチルホルムアミド等の非プロ
トン性極性溶媒中ソジウムアリールスルフイネ
ートを反応させると化合物（ａ）が得られ
る。 ｂ スチグマステロールを原料とし以下パートリ
ツジ等の方法〔Helv.Chim.Acta，57，764
（1974）〕によつて得られる20―ハロゲノメチル
―6β―アルコキシ―3α，５―シクロ―5α―プ
レグナンにジメチルホルムアミド等の非プロト
ン性極性溶媒中ソジウムアリールスルフイネー
トを反応して製造する方法（下式）によつて得
られる。 （式中Ｒは置換または非置換のアリール基を
意味し、R′は低級アルキル基を意味し、Ｘは
ハロゲン原子を意味する） なお、本発明の出発物質のひとつである22―
アリールスルホニル―23，24―ビスノルコラン
―５―エン―3β―オールの3β位の水酸基を保
護したものは前記化合物（ｂ）を酸化水分解
反応によりもとの５―エン体とした後3β位の
水酸基を保護することによつて容易に製造し得
る。 本発明の方法の化合物（）に化合物（）を
反応させ化合物（）を製造する段階において、
反応は塩基の存在下溶媒中で行なわれ、溶媒とし
ては反応に際し不活性のものであれば特に制限な
く使用し得るが、好ましくは非プロトン性の溶媒
であり、具体的にはテトラヒドロフラン，ジメト
キシエタン，エーテル等のエーテル系溶媒であ
る。塩基としては強塩基が好ましく、例えばリチ
ウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミ
ド類およびｔ―ブチルリチウム等のアルカリ金属
アルキル類が用いられる。反応温度は特に制限は
ないが好ましくは低温乃至室温の範囲である。反
応時間は反応温度によつて適宜選択される。反応
混合物から化合物（）の単離は常法により反応
液を酢酸エチル等の有機溶媒で抽出後カラムクロ
マトグラフイー等の手段に付すことによつて行な
われる。 なお、この反応に用いる一般式（）で示され
る３―メチル―１，２，３―ブタントリオール誘
導体とは求核攻撃を受け１―メチル―２，３―ブ
タンジオール基を形成するものであり、具体的に
は例えば３―メチル―１，２，３―ブタントリオ
ール１―トシレート、３―メチル―１，２，３―
ブタントリオール１―メシレート、２―（１―ヒ
ドロキシ―１―メチル―エチル）オキシラン、１
―ハロゲン―３―メチル―２，３―ブタンジオー
ル等である。これらの化合物は新規化合物であ
り、例えば３―メチル―１，２，３―ブタントリ
オール１―トシレート等のアルキルスルホネート
はグリセリン酸低級アルキルエステルを原料とし
て、ニールセン等の方法〔Acta.Chem.Scand.，
23，967（1969）〕によつて得られる３―メチル―
１，２，３―ブタントリオールをピリジン等の塩
基性物質の存在下にｐ―トルエンスルホン酸クロ
ライド、メタンスルホニルクロライド、トリフル
オロメタンスルホニルクロライド等のスルホン酸
ハライド類と反応せしめて製造することができ
る。なお、この様にして製造したアルキルスルホ
ネート類を塩基、例えば水素化ナトリウム，カリ
ウム―ｔ―ブトキシド，ナトリウムメトキシド等
で処理することにより２―（１―ヒドロキシ―１
―メチル―エチル）オキシランを製造することが
でき、また、リチウムクロライド，リチウムブロ
マイド等のアルカリ金属ハライドで処理すること
によつて１―ハロゲン―３―メチル―２，３―ブ
タンジオール類を製造することができる。これら
はいづれも本反応に供し得るが反応工程の短縮と
いう点では、３―メチル―１，２，３―ブタント
リオール１―トシレート等のアルキルスルホネー
トを塩基の存在下直接化合物（）と反応せしめ
るのが有利である。この化合物（）の製造にお
いて原料として光学活性なグリセリン酸低級アル
キルエステルを用いた場合光学活性な化合物
（）を製造することができる。 本発明の方法では化合物（）の光学的性質は
化合物（）となつてもそのまま維持され、例え
ば化合物（）として、３―メチル―１，２，３
―ブタントリオール１―トシレート等のアルキル
スルホネート類のＲ―異性体を化合物（）と反
応せしめた場合は24位の立体配置がＲの化合物
（）が得られ、Ｓ―異性体を用いた場合は対応
する化合物（）のＳ―異性体が得られる。dl体
を用いた場合も同様に化合物（）の24位の立体
配置が混合物である24ξ体が得られる。 この様にして製造した本発明の化合物（）は
還元剤で処理せしめ22位のアリールスルホニル基
を除去することにより容易に24，25―ジヒドロキ
シコレスタン誘導体（）に誘導される。 （式中Ａは前述のステロイド残基である） この本発明の化合物（）から化合物（）を
製造する段階で還元剤としては脱アリールスルホ
ニル化するもので他の官能基に影響を及ぼさない
ものであれば特に支障なく用いられる。このよう
な還元剤の好ましいものとしては、例えば活性金
属アマルガムと低級アルコールを用いた系であ
り、具体的にはナトリウムアマルガムまたはアル
ミニウムアマルガムと低級アルコールを用いた系
である。ナトリウム，アルミニウム等の活性金属
の含有量は数％のものが好ましく、低級アルコー
ルとしては、例えばメタノール，エタノール等で
ある。反応は溶媒中で行うのが好ましく使用し得
る溶媒としては反応に際し不活性なものであれば
特に制限なく使用し得るが還元剤として活性金属
アマルガムと低級アルコールを用いた場合は特に
別に溶媒を加える必要はない。反応に際し緩衝剤
として燐酸水素二ナトリウム等を加えることによ
り収率が向上する。反応温度は低温乃至加温の範
囲で適宜選択される。 反応混合物から化合物（）の単離は常法によ
り例えば抽出，再結晶等の手段により容易に行う
ことができる。 本反応において24位の立体配置は何ら変化せず
対応する化合物（）が製造される。化合物
（）以下は既知の方法、例えばTetrahedron
Letters，15（1975），J.A.C.S.，98，3739（1976）
および特開昭52―108960号等に記載の方法により
容易に24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロー
ルに誘導することができる。なお、これらの方法
に付しても化合物（）の光学的性質はそのまま
維持される。 参考例 １ ａ エルゴステロール３―テトラヒドロピラニル
エーテルと４―フエニル―１，２，４―トリア
ゾリン―３，５―ジオンの１，４―環化付加体
15ｇのジクロロメタン130ml，エタノール80ml
の溶液に−78℃で撹拌下、原料の約90％が消費
されるまでオゾンを導通させ、ただちに水素化
硼素ナトリウム2.56ｇのメタノール20ml溶液を
加え−78℃で５分間撹拌後室温で１時間放置す
る。反応液を減圧濃縮し残渣を酢酸エチルに溶
解し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を留去し得られる残渣をシリカ
ゲル150ｇを充填したカラムクロマトグラフイ
ー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で
精製して23，24―ビスノル―５，７―コラジエ
ン―3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラ
ニルエーテルと４―フエニル―１，２，４―ト
リアゾリン―３，５―ジオンとの１，４―環化
付加体4.65ｇ（収率35％）を得る。 融点：192〜193℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3470，1750，
1700cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.83（3H，
ｓ），0.97（3H，ｓ），1.06（3H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.85（1H，ｍ），6.25（1H，dd，Ｊ
＝８および２Hz），6.40（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz），7.42（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：414
【式】 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：255nm 元素分析値：C35H47O5N3として 理論値(%)：Ｃ，71.28；Ｈ，8.03；Ｎ，7.13 実測値(%)：Ｃ，70.99；Ｈ，8.06；Ｎ，7.02 ｂ 水素化アルミニウムリチウム634mgのテトラ
ヒドロフラン12ml懸濁液に前記ａ）で得られた
１，４―環化付加体1.97ｇのテトラヒドロフラ
ン25ml溶液をアルゴン気流中加熱還流撹拌下10
分間で滴下した後15分間放置する。反応液に０
℃で撹拌下20％の水酸化ナトリウム水溶液５ml
を注意深く滴加し反応液を過する。液の溶
媒を留去し、得られる残渣をシリカゲル50ｇを
充填したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：３）で精製して23，
24―ビスノル―５，７―コラジエン―3β，22
―ジオール３―テトラヒドロピラニルエーテル
879mg（収率：63％）を得る。 融点：151〜152℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3380cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.63（3H，
ｓ），0.94（3H，ｓ），1.09（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.75（1H，ｍ），5.39（1H，dd，Ｊ
＝６Hz），5.58（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：414（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C27H42O3として 理論値（％）：Ｃ，78.21；Ｈ，10.21 実測値（％）：Ｃ，78.44；Ｈ，10.43 ｃ 23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―
3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル394mgのピリジン４ml溶液にアルゴン
気流中、０℃で撹拌下トシルクロライド199mg
を加え一夜放置する。反応液を酢酸エチルで希
釈した後飽和硫酸銅溶液次いで飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧
留去し、得られる残渣をシリカゲル５ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：メチレ
ンクロライド）で精製し、23，24―ビスノル―
５，７―コラジエン―3β，22―ジオール３―
テトラヒドロピラニルエーテル22―トシレート
432mg（収率80％）を得る。 融点：147〜149℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：1350，1170cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.58（3H，
ｓ），0.93（3H，ｓ），1.00（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.73（1H，ｍ），5.36（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.54（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.35
（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.78（2H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：484
【式】 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C34H48O5Sとして 理論値（％）：Ｃ，71.78；Ｈ，8.51 実測値（％）：Ｃ，71.66；Ｈ，8.61 ｄ 23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―
3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル22―トシレート100mg、リチウムブロ
マイド１水和物37mg、炭酸リチウム26mgとジメ
チルホルムアミド３mlの混合物をアルゴン気流
中、撹拌下75℃で１時間放放置する。反応液を
酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去し22
―ブロム―23，24―ビスノル―５，７―コラジ
エン―3β―オール３―テトラヒドロピラニル
エーテル82mg（収率98％）を得る。 融点：150〜152℃（ヘキサンより再結晶） NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.65（3H，
ｓ），0.95（3H，ｓ），1.13（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.72（1H，ｍ），5.37（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.55（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：478，476（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C27H41O2Brとして 理論値（％）：Ｃ，67.91；Ｈ，8.65 実測値（％）：Ｃ，67.66；Ｈ，8.71 ｅ 22―ブロム―23，24―ビスノル―５，７―コ
ラジエン―3β―オール３―テトラヒドロピラ
ニルエーテル60mg、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウム52mgとジメチルホルムアミド１mlの混合
物をアルゴン気流中撹拌下75℃で１時間放置す
る。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水
で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去し得られる残渣をシリカゲル10ｇを充
填したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキ
サン―酢酸エチル＝10：３）で精製し、22―フ
エニルスルホニル―23，24―ビスノル―５，７
―コラジエン―3β―オール３―テトラヒドロ
ピラニルエーテル53mg（収率：78％）を得る。 融点：175〜177℃（酢酸エチルより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：1295，1135cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.59（3H，
ｓ），0.92（3H，ｓ），1.23（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.74（1H，ｍ），5.35（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.54（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.5〜
8.0（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：538（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：271，282，294nm 参考例 ２ ａ （Ｒ）―メチルグリセレート8.3ｇの２，２
―ジメトキシプロパン30ml溶液にピリジニウム
ｐ―トルエンスルホネート50mgを加え30分間加
熱還流する。反応液をシリカゲル120ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキサ
ン―酢酸エチル＝５：１）で精製して（Ｒ）―
メチルグリセレートアセトニド9.87ｇ（収率89
％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.41（3H，
ｓ），1.50（3H，ｓ），3.80（3H，ｓ），4.0
〜4.7（3H，ｍ） ｂ メチルマグネシウムプロマイドのテトラヒド
ロフラン溶液（1mol／，21ml）にアルゴン
気流中０℃で撹拌下（Ｒ）―メチルグリセレー
トアセトニド1.126ｇのテトラヒドロフラン溶
液を滴加し30分間放置する。反応液に飽和塩化
アンモニウム水2.1mlを加え反応液を過する。
液を減圧濃縮し残渣をシリカゲル50ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキサ
ン―酢酸エチル＝５：２）で精製し（Ｒ）―メ
チル―１，２，３―ブタントリオールアセトニ
ド841mg（収率75％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.14（3H，
ｓ），1.24（3H，ｓ），1.37（3H，ｓ），1.44
（3H，ｓ），2.12（1H，ｓ），3.8〜4.3（3H，
ｍ） 〔α〕D＝＋5.03゜（Ｃ＝2.88，CH3OH） ｃ （Ｒ）―３―メチル―１，２，３―ブタント
リオールアセトニド1.94ｇの20％含水メタノー
ル20ml溶液にピリジニウムｐ―トルエンスルホ
ネート304mgを加え３時間加熱還流する。反応
液を減圧濃縮し残渣にベンゼンとエタノールを
加え水を共沸により完全に除去する。残渣をシ
リカゲル50ｇを充填したカラムクロマトグラフ
イー（溶媒：酢酸エチル―エタノール＝20：
１）で精製し（Ｒ）―３―メチル―１，２，３
―ブタントリオール1.381（収率95％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.20（3H，
ｓ），1.25（3H，ｓ），3.4〜4.7（6H，ｍ） 〔α〕D＝＋23.85゜（Ｃ＝0.96，CH3OH） ｄ （Ｒ）―３―メチル―１，２，３―ブタント
リオール2.52ｇのピリジン15ml溶液にアルゴン
気流中０℃で撹拌下トシルクロライド4.03ｇを
加え、１時間放置後室温で16時間放置する。反
応液を2N塩酸100mlに注ぎ酢酸エチルで抽出す
る。有機層を2N塩酸，飽和炭酸水素ナトリウ
ムおよび飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後溶媒を留出して（Ｒ）―３―メチ
ル―ブタントリオール１―トシレート4.70ｇ
（収率85％）を得る。 融点：103〜104℃（ベンゼンより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3330，1350，
1190，1170cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.16（3H，
ｓ），1.21（3H，ｓ），2.15（1H，ｓ），2.45
（3H，ｓ），2.80（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
3.70（1H，ｍ），3.9〜4.4（2H，ｍ），7.39
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.82（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：256，263，266，
273nm 〔α〕D＝＋3.21゜（Ｃ＝0.448，CH3OH） 元素分析値：C12H18O5Sとして 理論値（％）：Ｃ，52.54；Ｈ，6.61 実測値（％）：Ｃ，52.80；Ｈ，6.67 参考例 ３ ａ （24R）―22ξ―フエニルスルホニル―５，
７―コレスタジエン―3β，24，25―トリオー
ル３―テトラヒドロピラニルエーテル160mgの
メタノール５ml溶液にアルゴン気流中、撹拌下
無水燐酸水素二ナトリウム１ｇと５％ナトリウ
ム―アマルガム3.2ｇを加え室温で30分間放置
する。反応液をメタノール10mlで希釈後過
し、液を減圧濃縮し残渣に水を加え酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去し
（24R）―５，７―コレスタジエン―3β，24，
25―トリオール３―テトラヒドロピラニルエー
テル116mg（収率93％）を得る。 融点：149〜150℃（ヘキサン―ジメトキシエ
タンより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（CHCl3）：3580，3440cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.64（3H，
ｓ），0.95（3H，ｓ），1.18（3H，ｓ），1.22
（3H，ｓ），4.76（1H，ｍ），5.40（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.58（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：500（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm ｂ （24R）―５，７―コレスタジエン―3β，
24，25―トリオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル25mgのエタノール２ml溶液にアルゴン
気流中、撹拌下ピリジニウムｐ―トルエンスル
ホネート12.5mgを加え室温で２日間放置する。
反応液を酢酸エチル40mlで希釈し、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を
減圧留去し（24R）―５，７―コレスタジエン
―3β，24，25―トリオール14mg（収率67％）
を得る。 融点：216〜218℃（酢酸エチルより再結晶） NMRスペクトル（CDCl3CD3OD）δ：0.64
（3H，ｓ），0.94（3H，ｓ），1.15（3H，
ｓ），1.19（3H，ｓ），3.3〜3.8（2H，ｍ），
5.38（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.56（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz） マスペクトル（ｍ／ｅ：416（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm ｃ （24R）―５，７―コレスタジエン―3β，
24，25―トリオール12.1mgのエタノール20ml溶
液をエーテル200mlで希釈した溶液に０℃で40
分間アルゴンを通じた後バイコールフイルター
と高圧水銀ランプ（200W）を用いて4.5分間光
照射する。反応液を水浴上20℃以下で減圧濃縮
し残渣をセフアデツクスLH―20，20ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：クロロ
ホルム―ヘキサン＝65：35）で精製し（24R）
―９，10―セコ―５（10），６，８―コレスタト
リエン―3β，24，25―トリオール4.53mgを得
る。 ｄ （24R）―９，10―セコ―５（10），６，８―
コレスタトリエン―3β，24，25―トリオール
4.53mgのエタノール15ml溶液をアルゴン気流中
２時間加熱還流後室温で24時間放置する。反応
液を水浴上20℃以下で減圧濃縮し残渣を高速液
体クロマトグラフイー〔マイクロポラシル（ウ
オーターズ社製），ヘキサン：イソプロパノー
ル＝10：１〕で精製し（24R）―24，25―ジヒ
ドロキシコレカルシフエロール1.85mgを得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.55（3H，
ｓ），0.93（3H，ｄ，Ｊ＝４Hz），1.17（3H，
ｓ），1.22（3H，ｓ），3.33（1H，ｍ），3.95
（1H，ｍ），4.85（1H，bs），5.07（1H，
bs），6.08（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），6.25（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：416（M+），136，
118 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：265nm 実施例 22―フエニルスルホニル―23，24―ビスノル―
５，７―コラジエン―3β―オール３―テトラヒ
ドロピラニルエーテル100mgと（Ｒ）―３―メチ
ル―１，２，３―ブタントリオール１―トシレー
ト100mgのテトラヒドロフラン２ml溶液にアルゴ
ン気流中−20℃で撹拌下ｎ―ブチルリチウムのヘ
キサン溶液（1.53mol／，670μl）を滴下し30分
間放置する。反応液を飽和塩化アンモニウム水に
注ぎ酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和塩化ア
ンモニウム水および飽和食塩水で洗浄し無水硫酸
ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去して得られる
残渣をシリカゲル20ｇを充填したカラムクロマト
グラフイー（溶媒：ヘキサン―酢酸エチル＝１：
１）で精製して（24R）―22ξ―フエニルスルホ
ニル―５，７―コレスタジエン―3β，24，25―
トリオール３―テトラヒドロピラニルエーテル
102mg（収率86％）を得る。 Ｉ Ｒスペクトル（CHCl3）：1300，1135cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：4.72（1H，
ｍ），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.52（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），7.4〜8.0（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：640（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：271，282，294nm
24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロールを合
成するための中間体およびその製造方法に関す
る。 24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロールは
ビタミンD3の代謝産物であり、それ自体ビタミ
ンＤ様の生理活性を有することが知られている。
代謝産物である24，25―ジヒドロキシコレカルシ
フエロールは24位の水酸基の立体配置がＲ―配位
〔（24R）―体〕であり、このものは代謝産物中に
は見出されない24位の異性体である（24S）―体
とは生理活性に違いがあることはよく知られてい
る。従来、これら異性体は通常混合物として比較
的容易に製せられてきたが立体特異的でかつ工業
生産上有利な製造法は見い出されておらず医薬と
して本化合物を供給する上で一つの障害となつて
いた。既に知られている24位異性体の混合物
24ξ，25―ジヒドロキシコレカルシフエロール
〔（24ξ）―体〕すなわち（24R）―体と（24S）―
体の混合物またはその合成中間体の製法として
は、デスモステロールアセテートから出発して、
24ξ，25―ジヒドロキシコレステロールを得る方
法（特開昭49―109367号），3β―アセトキシ―27
―ノル―５―コレステン―25―オンから24ξ，25
―ジヒドロキシコレカルシフエロールを得る方法
〔Biochemistry，12，4851（1973）〕、デスモステ
ロールアセテートから出発し24ξ，25―ジヒドロ
キシコレカルシフエロールを得る方法〔Compt.
rend.Acad.Sci.（Paris），278，529（1974）〕およ
びエルゴステロールを出発物質とし、3β，24ξ，
25―トリヒドロキシコレスター５，７―ジエンを
得る方法があるが、これらの合成方法は立体特異
的でなく、その生成物は24位における立体異性体
の混合物であり、これらの化合物の立体異性体の
分離は非常に困難であり工業生産上不向きであつ
た。また立体特異的な24，25―ジヒドロキシコレ
カルシフエロールの製法としては、24ξ，25―ジ
ヒドロキシコレステロールを（24R）―および
（24S）―異性体に分離し、24R，25―および24S，
25―ジヒドロキシコレステロールとなし各々対応
する24R，25―および24S，25―ジヒドロキシコ
レカルシフエロールを得る方法〔Tetrahedron
Letters，15（1975）〕、既に24位の立体配置の決
まつているステロイド誘導体から24R，25―およ
び24S，25―ジヒドロキシコレカルシフエロール
を得る方法（特開昭52―108960号）が知られてい
る。しかしながらこれらの方法は24位異性体の分
離工程に繁雑な手段を必要とし工業的な製法には
適していない。 本発明者等はこれらの事情を鑑み立体特異的で
かつ工業的な製造に有利な24，25―ジヒドロキシ
コレカルシフエロールの製造方法を鋭意研究した
結果既に光学的に活性なグリセリン酸低級アルキ
ルエステルから容易な手段で得られる光学活性な
３―メチル―１，２，３―ブタントリオール誘導
体（一般式）と22―アリールスルホニル誘導体
（一般式）と反応せしめ、次いで22位のアリー
ルスルホニル基を除去することにより光学的に活
性な24，25―ジヒドロキシコレスタン誘導体が得
られることを見出し本発明を完成した。すなわち
本発明は一般式 （式中Ａはステロイド残基を意味し、Ｒはアリ
ール基を意味する。）で示される化合物に一般式 〔式中R1は水酸基を意味するかまたはR2と一
緒になつてエポキシ基を形成してもよい。R1が
水酸基を意味するときR2はハロゲン原子または
一般式−OR3（式中R3はｐ―トルエンスルホニル
基およびメタンスルホニル基，トリフルオロメタ
ンスルホニル基等のアルキルスルホニル基を意味
する）で示される基である〕で示される化合物を
反応させることを特徴とする一般式 （式中ＡおよびＲは前記と同じものを意味す
る）で示される24，25―ジヒドロキシコレスタン
誘導体の製法および一般式 （式中Ａはステロイド残基を意味し、Ｒはアリ
ール基を意味する。）で示される化合物に関する。 本発明における一般式（）で示される化合物
の立体配置はＲまたはＳおよびdlであり、同様に
一般式（）で示される化合物の24位の立体配置
はＲまたはＳおよびdlである。 本発明の一般式（）および（）においてＡ
で示されるステロイド残基とは17位に結合するス
テロイド類を示し具体的には例えば ａ ５，７―ジエンステロイド類 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味する） ｂ 3α，5α―シクロステロイド類 （式中R′は低級アルキル基を意味する） ｃ ５―エンステロイド類 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味する） 等である。 本発明の方法を実施する上で出発物質として用
いるステロイド類の3β位の水酸基は保護してお
くのが好ましく、保護基としては、反応に際し不
活性なものであれば特に制限なく使用し得るが好
ましくはエーテル系の保護基であり具体的には２
―テトラヒドロピラニル基，β―メトキシエトキ
シメチル基，メトキシメチル基等である。またジ
メチル―ｔ―ブチルシリル基等のトリ低級アルキ
ルシリル基等も好ましい保護基の例である。なお
原料として3β―ヒドロキシ―５―エンステロイ
ド類を用いる場合、3β位の水酸基を直接保護せ
ず3β位の水酸基をトシル化してトシレートとし
た後アルコール性溶媒好ましくはメタノール中で
ピリジンと混合し還流して得られる6β―アルコ
キシ―3α，5α―シクロステロイド類として保護
することもできる。 本発明の一般式（）で示される化合物におい
てＡは前述したステロイド類の残基であり、Ｒは
置換または非置換のアリール基であり、具体的に
は例えばフエニル基，ｐ―トリル基である。一般
式（）で示される化合物としては、例えば22―
アリールスルホニル―23，24―ビスノルコラン―
５―エン―3β―オール，22―アリールスルホニ
ル23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―3β
―オールの3β位の水酸基を保護したものおよび
20―アリールスルホニルメチル―6β―アルコキ
シ―3α，５―シクロ―5α―プレグナン等が挙げ
られる。これらの化合物は新規化合物であり例え
ば ａ エルゴステロールからバートン等の方法〔J.
C.S(c)，1971，1968〕によつて得られるエスゴ
ステロール誘導体と４―フエニル―１，２，４
―トリアゾリン―３，５―ジオンとの１，４―
環化付加体のオゾン酸化物（）を出発物質と
し以下式示する方法 （式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、R′は
ｐ―トルエンスルホニル基，メタンスルホニル
基およびトリフルオロメタンスルホニル基を意
味し、Ｘはハロゲン原子を意味し、R″は置換
または非置換のアリール基を意味する） 前記の反応式の化合物（）から（）を製
造する段階は通常の水素化金属類を用いた還元
反応例えば水素化硼素ナトリウム，水素化アル
ミニウムリチウムを用いて還元することにより
行なわれる。次いで化合物（）を非プロトン
性有機溶媒中水素化金属類、例えばテトラヒド
ロフラン中水素化アルミニウムリチウムで還元
することにより化合物（）を製造し、次いで
ピリジン等の塩基の存在下ｐ―トルエンスルホ
ニルクロライド，メタンスルホニルクロライ
ド，トリフルオロメタンスルホニルクロライド
を反応させ化合物（）を製造し、次いでアセ
トン，アセトニトリル等の非プロトン性極性溶
媒中NaBr，NaI等の金属ハロゲン化物を反応
させ化合物（）を製造する。なお化合物は
（）は化合物（）を直接水酸基のブロム化
剤例えば２―クロロ―３―エチルベンゾオキサ
ゾリウムテトラヒドロボレートとEt4NBrを用
いる方法、および水酸基のヨード化試薬、例え
ばトリフエニルホスフイン，I2，ジメチルホル
ムアミドの系を用いてハロゲン化することによ
つても製造し得る。このようにして得られた化
合物（）をジメチルホルムアミド等の非プロ
トン性極性溶媒中ソジウムアリールスルフイネ
ートを反応させると化合物（ａ）が得られ
る。 ｂ スチグマステロールを原料とし以下パートリ
ツジ等の方法〔Helv.Chim.Acta，57，764
（1974）〕によつて得られる20―ハロゲノメチル
―6β―アルコキシ―3α，５―シクロ―5α―プ
レグナンにジメチルホルムアミド等の非プロト
ン性極性溶媒中ソジウムアリールスルフイネー
トを反応して製造する方法（下式）によつて得
られる。 （式中Ｒは置換または非置換のアリール基を
意味し、R′は低級アルキル基を意味し、Ｘは
ハロゲン原子を意味する） なお、本発明の出発物質のひとつである22―
アリールスルホニル―23，24―ビスノルコラン
―５―エン―3β―オールの3β位の水酸基を保
護したものは前記化合物（ｂ）を酸化水分解
反応によりもとの５―エン体とした後3β位の
水酸基を保護することによつて容易に製造し得
る。 本発明の方法の化合物（）に化合物（）を
反応させ化合物（）を製造する段階において、
反応は塩基の存在下溶媒中で行なわれ、溶媒とし
ては反応に際し不活性のものであれば特に制限な
く使用し得るが、好ましくは非プロトン性の溶媒
であり、具体的にはテトラヒドロフラン，ジメト
キシエタン，エーテル等のエーテル系溶媒であ
る。塩基としては強塩基が好ましく、例えばリチ
ウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミ
ド類およびｔ―ブチルリチウム等のアルカリ金属
アルキル類が用いられる。反応温度は特に制限は
ないが好ましくは低温乃至室温の範囲である。反
応時間は反応温度によつて適宜選択される。反応
混合物から化合物（）の単離は常法により反応
液を酢酸エチル等の有機溶媒で抽出後カラムクロ
マトグラフイー等の手段に付すことによつて行な
われる。 なお、この反応に用いる一般式（）で示され
る３―メチル―１，２，３―ブタントリオール誘
導体とは求核攻撃を受け１―メチル―２，３―ブ
タンジオール基を形成するものであり、具体的に
は例えば３―メチル―１，２，３―ブタントリオ
ール１―トシレート、３―メチル―１，２，３―
ブタントリオール１―メシレート、２―（１―ヒ
ドロキシ―１―メチル―エチル）オキシラン、１
―ハロゲン―３―メチル―２，３―ブタンジオー
ル等である。これらの化合物は新規化合物であ
り、例えば３―メチル―１，２，３―ブタントリ
オール１―トシレート等のアルキルスルホネート
はグリセリン酸低級アルキルエステルを原料とし
て、ニールセン等の方法〔Acta.Chem.Scand.，
23，967（1969）〕によつて得られる３―メチル―
１，２，３―ブタントリオールをピリジン等の塩
基性物質の存在下にｐ―トルエンスルホン酸クロ
ライド、メタンスルホニルクロライド、トリフル
オロメタンスルホニルクロライド等のスルホン酸
ハライド類と反応せしめて製造することができ
る。なお、この様にして製造したアルキルスルホ
ネート類を塩基、例えば水素化ナトリウム，カリ
ウム―ｔ―ブトキシド，ナトリウムメトキシド等
で処理することにより２―（１―ヒドロキシ―１
―メチル―エチル）オキシランを製造することが
でき、また、リチウムクロライド，リチウムブロ
マイド等のアルカリ金属ハライドで処理すること
によつて１―ハロゲン―３―メチル―２，３―ブ
タンジオール類を製造することができる。これら
はいづれも本反応に供し得るが反応工程の短縮と
いう点では、３―メチル―１，２，３―ブタント
リオール１―トシレート等のアルキルスルホネー
トを塩基の存在下直接化合物（）と反応せしめ
るのが有利である。この化合物（）の製造にお
いて原料として光学活性なグリセリン酸低級アル
キルエステルを用いた場合光学活性な化合物
（）を製造することができる。 本発明の方法では化合物（）の光学的性質は
化合物（）となつてもそのまま維持され、例え
ば化合物（）として、３―メチル―１，２，３
―ブタントリオール１―トシレート等のアルキル
スルホネート類のＲ―異性体を化合物（）と反
応せしめた場合は24位の立体配置がＲの化合物
（）が得られ、Ｓ―異性体を用いた場合は対応
する化合物（）のＳ―異性体が得られる。dl体
を用いた場合も同様に化合物（）の24位の立体
配置が混合物である24ξ体が得られる。 この様にして製造した本発明の化合物（）は
還元剤で処理せしめ22位のアリールスルホニル基
を除去することにより容易に24，25―ジヒドロキ
シコレスタン誘導体（）に誘導される。 （式中Ａは前述のステロイド残基である） この本発明の化合物（）から化合物（）を
製造する段階で還元剤としては脱アリールスルホ
ニル化するもので他の官能基に影響を及ぼさない
ものであれば特に支障なく用いられる。このよう
な還元剤の好ましいものとしては、例えば活性金
属アマルガムと低級アルコールを用いた系であ
り、具体的にはナトリウムアマルガムまたはアル
ミニウムアマルガムと低級アルコールを用いた系
である。ナトリウム，アルミニウム等の活性金属
の含有量は数％のものが好ましく、低級アルコー
ルとしては、例えばメタノール，エタノール等で
ある。反応は溶媒中で行うのが好ましく使用し得
る溶媒としては反応に際し不活性なものであれば
特に制限なく使用し得るが還元剤として活性金属
アマルガムと低級アルコールを用いた場合は特に
別に溶媒を加える必要はない。反応に際し緩衝剤
として燐酸水素二ナトリウム等を加えることによ
り収率が向上する。反応温度は低温乃至加温の範
囲で適宜選択される。 反応混合物から化合物（）の単離は常法によ
り例えば抽出，再結晶等の手段により容易に行う
ことができる。 本反応において24位の立体配置は何ら変化せず
対応する化合物（）が製造される。化合物
（）以下は既知の方法、例えばTetrahedron
Letters，15（1975），J.A.C.S.，98，3739（1976）
および特開昭52―108960号等に記載の方法により
容易に24，25―ジヒドロキシコレカルシフエロー
ルに誘導することができる。なお、これらの方法
に付しても化合物（）の光学的性質はそのまま
維持される。 参考例 １ ａ エルゴステロール３―テトラヒドロピラニル
エーテルと４―フエニル―１，２，４―トリア
ゾリン―３，５―ジオンの１，４―環化付加体
15ｇのジクロロメタン130ml，エタノール80ml
の溶液に−78℃で撹拌下、原料の約90％が消費
されるまでオゾンを導通させ、ただちに水素化
硼素ナトリウム2.56ｇのメタノール20ml溶液を
加え−78℃で５分間撹拌後室温で１時間放置す
る。反応液を減圧濃縮し残渣を酢酸エチルに溶
解し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を留去し得られる残渣をシリカ
ゲル150ｇを充填したカラムクロマトグラフイ
ー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で
精製して23，24―ビスノル―５，７―コラジエ
ン―3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラ
ニルエーテルと４―フエニル―１，２，４―ト
リアゾリン―３，５―ジオンとの１，４―環化
付加体4.65ｇ（収率35％）を得る。 融点：192〜193℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3470，1750，
1700cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.83（3H，
ｓ），0.97（3H，ｓ），1.06（3H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.85（1H，ｍ），6.25（1H，dd，Ｊ
＝８および２Hz），6.40（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz），7.42（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：414
【式】 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：255nm 元素分析値：C35H47O5N3として 理論値(%)：Ｃ，71.28；Ｈ，8.03；Ｎ，7.13 実測値(%)：Ｃ，70.99；Ｈ，8.06；Ｎ，7.02 ｂ 水素化アルミニウムリチウム634mgのテトラ
ヒドロフラン12ml懸濁液に前記ａ）で得られた
１，４―環化付加体1.97ｇのテトラヒドロフラ
ン25ml溶液をアルゴン気流中加熱還流撹拌下10
分間で滴下した後15分間放置する。反応液に０
℃で撹拌下20％の水酸化ナトリウム水溶液５ml
を注意深く滴加し反応液を過する。液の溶
媒を留去し、得られる残渣をシリカゲル50ｇを
充填したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：３）で精製して23，
24―ビスノル―５，７―コラジエン―3β，22
―ジオール３―テトラヒドロピラニルエーテル
879mg（収率：63％）を得る。 融点：151〜152℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3380cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.63（3H，
ｓ），0.94（3H，ｓ），1.09（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.75（1H，ｍ），5.39（1H，dd，Ｊ
＝６Hz），5.58（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：414（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C27H42O3として 理論値（％）：Ｃ，78.21；Ｈ，10.21 実測値（％）：Ｃ，78.44；Ｈ，10.43 ｃ 23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―
3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル394mgのピリジン４ml溶液にアルゴン
気流中、０℃で撹拌下トシルクロライド199mg
を加え一夜放置する。反応液を酢酸エチルで希
釈した後飽和硫酸銅溶液次いで飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧
留去し、得られる残渣をシリカゲル５ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：メチレ
ンクロライド）で精製し、23，24―ビスノル―
５，７―コラジエン―3β，22―ジオール３―
テトラヒドロピラニルエーテル22―トシレート
432mg（収率80％）を得る。 融点：147〜149℃（ヘキサン―酢酸エチルよ
り再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：1350，1170cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.58（3H，
ｓ），0.93（3H，ｓ），1.00（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.73（1H，ｍ），5.36（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.54（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.35
（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.78（2H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：484
【式】 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C34H48O5Sとして 理論値（％）：Ｃ，71.78；Ｈ，8.51 実測値（％）：Ｃ，71.66；Ｈ，8.61 ｄ 23，24―ビスノル―５，７―コラジエン―
3β，22―ジオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル22―トシレート100mg、リチウムブロ
マイド１水和物37mg、炭酸リチウム26mgとジメ
チルホルムアミド３mlの混合物をアルゴン気流
中、撹拌下75℃で１時間放放置する。反応液を
酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去し22
―ブロム―23，24―ビスノル―５，７―コラジ
エン―3β―オール３―テトラヒドロピラニル
エーテル82mg（収率98％）を得る。 融点：150〜152℃（ヘキサンより再結晶） NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.65（3H，
ｓ），0.95（3H，ｓ），1.13（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.72（1H，ｍ），5.37（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.55（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：478，476（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm 元素分析値：C27H41O2Brとして 理論値（％）：Ｃ，67.91；Ｈ，8.65 実測値（％）：Ｃ，67.66；Ｈ，8.71 ｅ 22―ブロム―23，24―ビスノル―５，７―コ
ラジエン―3β―オール３―テトラヒドロピラ
ニルエーテル60mg、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウム52mgとジメチルホルムアミド１mlの混合
物をアルゴン気流中撹拌下75℃で１時間放置す
る。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水
で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去し得られる残渣をシリカゲル10ｇを充
填したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキ
サン―酢酸エチル＝10：３）で精製し、22―フ
エニルスルホニル―23，24―ビスノル―５，７
―コラジエン―3β―オール３―テトラヒドロ
ピラニルエーテル53mg（収率：78％）を得る。 融点：175〜177℃（酢酸エチルより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：1295，1135cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.59（3H，
ｓ），0.92（3H，ｓ），1.23（3H，ｄ，Ｊ＝
６Hz），4.74（1H，ｍ），5.35（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），5.54（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.5〜
8.0（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：538（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：271，282，294nm 参考例 ２ ａ （Ｒ）―メチルグリセレート8.3ｇの２，２
―ジメトキシプロパン30ml溶液にピリジニウム
ｐ―トルエンスルホネート50mgを加え30分間加
熱還流する。反応液をシリカゲル120ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキサ
ン―酢酸エチル＝５：１）で精製して（Ｒ）―
メチルグリセレートアセトニド9.87ｇ（収率89
％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.41（3H，
ｓ），1.50（3H，ｓ），3.80（3H，ｓ），4.0
〜4.7（3H，ｍ） ｂ メチルマグネシウムプロマイドのテトラヒド
ロフラン溶液（1mol／，21ml）にアルゴン
気流中０℃で撹拌下（Ｒ）―メチルグリセレー
トアセトニド1.126ｇのテトラヒドロフラン溶
液を滴加し30分間放置する。反応液に飽和塩化
アンモニウム水2.1mlを加え反応液を過する。
液を減圧濃縮し残渣をシリカゲル50ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：ヘキサ
ン―酢酸エチル＝５：２）で精製し（Ｒ）―メ
チル―１，２，３―ブタントリオールアセトニ
ド841mg（収率75％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.14（3H，
ｓ），1.24（3H，ｓ），1.37（3H，ｓ），1.44
（3H，ｓ），2.12（1H，ｓ），3.8〜4.3（3H，
ｍ） 〔α〕D＝＋5.03゜（Ｃ＝2.88，CH3OH） ｃ （Ｒ）―３―メチル―１，２，３―ブタント
リオールアセトニド1.94ｇの20％含水メタノー
ル20ml溶液にピリジニウムｐ―トルエンスルホ
ネート304mgを加え３時間加熱還流する。反応
液を減圧濃縮し残渣にベンゼンとエタノールを
加え水を共沸により完全に除去する。残渣をシ
リカゲル50ｇを充填したカラムクロマトグラフ
イー（溶媒：酢酸エチル―エタノール＝20：
１）で精製し（Ｒ）―３―メチル―１，２，３
―ブタントリオール1.381（収率95％）を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.20（3H，
ｓ），1.25（3H，ｓ），3.4〜4.7（6H，ｍ） 〔α〕D＝＋23.85゜（Ｃ＝0.96，CH3OH） ｄ （Ｒ）―３―メチル―１，２，３―ブタント
リオール2.52ｇのピリジン15ml溶液にアルゴン
気流中０℃で撹拌下トシルクロライド4.03ｇを
加え、１時間放置後室温で16時間放置する。反
応液を2N塩酸100mlに注ぎ酢酸エチルで抽出す
る。有機層を2N塩酸，飽和炭酸水素ナトリウ
ムおよび飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後溶媒を留出して（Ｒ）―３―メチ
ル―ブタントリオール１―トシレート4.70ｇ
（収率85％）を得る。 融点：103〜104℃（ベンゼンより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（KBr）：3330，1350，
1190，1170cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：1.16（3H，
ｓ），1.21（3H，ｓ），2.15（1H，ｓ），2.45
（3H，ｓ），2.80（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
3.70（1H，ｍ），3.9〜4.4（2H，ｍ），7.39
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.82（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：256，263，266，
273nm 〔α〕D＝＋3.21゜（Ｃ＝0.448，CH3OH） 元素分析値：C12H18O5Sとして 理論値（％）：Ｃ，52.54；Ｈ，6.61 実測値（％）：Ｃ，52.80；Ｈ，6.67 参考例 ３ ａ （24R）―22ξ―フエニルスルホニル―５，
７―コレスタジエン―3β，24，25―トリオー
ル３―テトラヒドロピラニルエーテル160mgの
メタノール５ml溶液にアルゴン気流中、撹拌下
無水燐酸水素二ナトリウム１ｇと５％ナトリウ
ム―アマルガム3.2ｇを加え室温で30分間放置
する。反応液をメタノール10mlで希釈後過
し、液を減圧濃縮し残渣に水を加え酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去し
（24R）―５，７―コレスタジエン―3β，24，
25―トリオール３―テトラヒドロピラニルエー
テル116mg（収率93％）を得る。 融点：149〜150℃（ヘキサン―ジメトキシエ
タンより再結晶） Ｉ Ｒスペクトル（CHCl3）：3580，3440cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.64（3H，
ｓ），0.95（3H，ｓ），1.18（3H，ｓ），1.22
（3H，ｓ），4.76（1H，ｍ），5.40（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.58（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：500（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm ｂ （24R）―５，７―コレスタジエン―3β，
24，25―トリオール３―テトラヒドロピラニル
エーテル25mgのエタノール２ml溶液にアルゴン
気流中、撹拌下ピリジニウムｐ―トルエンスル
ホネート12.5mgを加え室温で２日間放置する。
反応液を酢酸エチル40mlで希釈し、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を
減圧留去し（24R）―５，７―コレスタジエン
―3β，24，25―トリオール14mg（収率67％）
を得る。 融点：216〜218℃（酢酸エチルより再結晶） NMRスペクトル（CDCl3CD3OD）δ：0.64
（3H，ｓ），0.94（3H，ｓ），1.15（3H，
ｓ），1.19（3H，ｓ），3.3〜3.8（2H，ｍ），
5.38（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.56（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz） マスペクトル（ｍ／ｅ：416（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：272，282，294nm ｃ （24R）―５，７―コレスタジエン―3β，
24，25―トリオール12.1mgのエタノール20ml溶
液をエーテル200mlで希釈した溶液に０℃で40
分間アルゴンを通じた後バイコールフイルター
と高圧水銀ランプ（200W）を用いて4.5分間光
照射する。反応液を水浴上20℃以下で減圧濃縮
し残渣をセフアデツクスLH―20，20ｇを充填
したカラムクロマトグラフイー（溶媒：クロロ
ホルム―ヘキサン＝65：35）で精製し（24R）
―９，10―セコ―５（10），６，８―コレスタト
リエン―3β，24，25―トリオール4.53mgを得
る。 ｄ （24R）―９，10―セコ―５（10），６，８―
コレスタトリエン―3β，24，25―トリオール
4.53mgのエタノール15ml溶液をアルゴン気流中
２時間加熱還流後室温で24時間放置する。反応
液を水浴上20℃以下で減圧濃縮し残渣を高速液
体クロマトグラフイー〔マイクロポラシル（ウ
オーターズ社製），ヘキサン：イソプロパノー
ル＝10：１〕で精製し（24R）―24，25―ジヒ
ドロキシコレカルシフエロール1.85mgを得る。 NMRスペクトル（CDCl3）δ：0.55（3H，
ｓ），0.93（3H，ｄ，Ｊ＝４Hz），1.17（3H，
ｓ），1.22（3H，ｓ），3.33（1H，ｍ），3.95
（1H，ｍ），4.85（1H，bs），5.07（1H，
bs），6.08（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），6.25（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz） マススペクトル（ｍ／ｅ：416（M+），136，
118 Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：265nm 実施例 22―フエニルスルホニル―23，24―ビスノル―
５，７―コラジエン―3β―オール３―テトラヒ
ドロピラニルエーテル100mgと（Ｒ）―３―メチ
ル―１，２，３―ブタントリオール１―トシレー
ト100mgのテトラヒドロフラン２ml溶液にアルゴ
ン気流中−20℃で撹拌下ｎ―ブチルリチウムのヘ
キサン溶液（1.53mol／，670μl）を滴下し30分
間放置する。反応液を飽和塩化アンモニウム水に
注ぎ酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和塩化ア
ンモニウム水および飽和食塩水で洗浄し無水硫酸
ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧留去して得られる
残渣をシリカゲル20ｇを充填したカラムクロマト
グラフイー（溶媒：ヘキサン―酢酸エチル＝１：
１）で精製して（24R）―22ξ―フエニルスルホ
ニル―５，７―コレスタジエン―3β，24，25―
トリオール３―テトラヒドロピラニルエーテル
102mg（収率86％）を得る。 Ｉ Ｒスペクトル（CHCl3）：1300，1135cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ：4.72（1H，
ｍ），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.52（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），7.4〜8.0（5H，ｍ） マススペクトル（ｍ／ｅ：640（M+） Ｕ ＶスペクトルλHtoH nax：271，282，294nm
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｒは置換若しくは非置換のフエニル基
を、R′は水酸基の保護基を意味する）で示され
る化合物。
Priority Applications (6)
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| JP10677480A JPS5735599A (en) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 24,25-dihydroxycholestane and its preparation |
| US06/287,052 US4344888A (en) | 1980-08-05 | 1981-07-27 | 24,25-Dihydroxycholestans and process for preparing the same |
| CA000383164A CA1177480A (en) | 1980-08-05 | 1981-08-04 | 24,25-dihydroxycholestans and process for preparing the same |
| AT81106150T ATE5077T1 (de) | 1980-08-05 | 1981-08-05 | 22-arylsulfonyl-24,25-dihydroxy-cholestane und verfahren zu ihrer herstellung. |
| EP81106150A EP0045524B1 (en) | 1980-08-05 | 1981-08-05 | 22-arylsulfonyl-24,25-dihydroxycholestanes and process for preparing the same |
| DE8181106150T DE3161243D1 (en) | 1980-08-05 | 1981-08-05 | 22-arylsulfonyl-24,25-dihydroxycholestanes and process for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP10677480A JPS5735599A (en) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 24,25-dihydroxycholestane and its preparation |
Publications (2)
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ID=14442243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0045524B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5735599A (ja) |
| AT (1) | ATE5077T1 (ja) |
| CA (1) | CA1177480A (ja) |
| DE (1) | DE3161243D1 (ja) |
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