JPH04301638A - フォトマスク保護体の剥離方法 - Google Patents
フォトマスク保護体の剥離方法Info
- Publication number
- JPH04301638A JPH04301638A JP3066662A JP6666291A JPH04301638A JP H04301638 A JPH04301638 A JP H04301638A JP 3066662 A JP3066662 A JP 3066662A JP 6666291 A JP6666291 A JP 6666291A JP H04301638 A JPH04301638 A JP H04301638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- protector
- peeling
- frame
- pellicle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title abstract 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 46
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000001012 protector Effects 0.000 claims description 75
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 13
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 6
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 6
- 239000002470 thermal conductor Substances 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 229920006248 expandable polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
に直接塵埃等が付着するのを防止する等のためにフォト
マスクに接着固定されたフォトマスク保護体を剥離する
フォトマスク保護体の剥離方法に関する。
ターン露光に用いられるフォトマスクの遮光膜パターン
に直接塵埃等の異物が付着すると、この塵埃のパターン
も露光されて製品の歩留まりを悪化させるおそれがある
ので、これを防止するためにフォトマスク保護体が用い
られる。
開口部を透光性部材で覆ったもので、透光性部材で覆わ
れていない他方の開口部をフォトマスクの遮光膜パター
ンが形成された主表面に向けて枠体の端部をフォトマス
クに接着し、これにより、フォトマスクの遮光膜パター
ンがフォトマスク保護体とフォトマスクとで形成された
閉じた空間内に配置されるようにして、塵埃等の異物が
直接遮光膜パターンに付着しないようにしたものである
。なお、このフォトマスク保護体としては、透光性部材
に有機膜を用いた、いわゆるペリクルが一般的であるが
、透光性部材としてガラス板(カバーグラス)を用いた
ものも知られている。
ク保護体を取り付けて使用後、このフォトマスク保護体
のみを交換してフォトマスクを再度使用したい場合があ
る。このような場合には、フォトマスクに接着されたフ
ォトマスク保護体を剥離する必要があるが、不用意に剥
離するとフォトマスクを傷付けたり汚染したりするおそ
れがあるため、剥離の際には細心の注意が必要であり、
剥離作業が煩雑であった。
従来からフォトマスク保護体(ペリクル)の剥離方法が
提案されている。従来のフォトマスク保護体(ペリクル
)の剥離方法としては、例えば、特開昭61−1698
48 号公報に記載のものが知られている。この方法は
、ペリクル枠の側面に塵埃侵入防止フィルタを形成した
開口部を設け、この開口部にペリクル剥離治具の係合部
を係合させてペリクルをフォトマスクから引き剥がすも
のである。
、アセトンやメチルエチルケトン等の有機溶剤によって
接着層を溶解して剥離する方法も試みられている。
ば、8インチ角以上の大型のフォトマスクに大型のフォ
トマスク保護体を接着したような場合には、これらの間
の接着力が強固になるために、上述の従来のフォトマス
ク保護体の剥離方法ではいずれも剥離が著しく困難にな
るという問題点があった。
法では、ペリクル剥離治具の係合部の先端部がフォトマ
スクの遮光膜パターンに接触してこれを損傷させたり、
あるいはフォトマスク基板自体に接触して基板自体を損
傷させるおそれも依然として残っていた。
のであり、その第1の目的は、大型のフォトマスクに大
型のフォトマスク保護体を接着した場合のように、これ
らの間の接着力が強固な場合でもフォトマスク保護体の
剥離が可能なフォトマスク保護体の剥離方法を提供する
ことであり、第2の目的は、フォトマスクを損傷したり
汚染することなく比較的容易にフォトマスク保護体を剥
離することができるフォトマスク保護体の剥離方法を提
供することである。
めに、本発明は、(1) 枠体の一方の開口部を透光性
部材で塞ぎ、開放されている他方の開口部をフォトマス
クの主表面に向くようにして前記枠体の端部をフォトマ
スクに接着手段で接着することによりフォトマスクに固
着したフォトマスク保護体を該フォトマスクから剥離す
るフォトマスク保護体の剥離方法において、前記枠体と
フォトマスクとの接着部を所定温度以下に冷却して前記
枠体とフォトマスクとを接着する接着手段の接着力を所
定以下に低下させて前記フォトマスク保護体をフォトマ
スクから剥離することを特徴とした構成とし、また、構
成1の態様として、(2) 構成1のフォトマスク保護
体の剥離方法において、冷却容器内にフォトマスク保護
体が固着されたフォトマスクを収容してこのフォトマス
クをフォトマスク保護体が下側に位置するようにほぼ水
平に支持し、次いで、前記冷却容器内に冷媒を導入し、
前記フォトマスク保護体の枠体とフォトマスクとの接着
部を所定温度以下に冷却して前記枠体とフォトマスクと
を接着する接着手段の接着力を前記フォトマスク保護体
の自重以下に低下させることにより該フォトマスク保護
体を落下させることを特徴とした構成、及び、(3)
請求項1または2のフォトマスク保護体の剥離方法にお
いて、前記フォトマスク保護体の枠体を熱良導体に接触
させ、この熱伝導性部材を冷媒で冷却することにより、
前記枠体とフォトマスクとの接着部を冷却することを特
徴とする構成とし、また、構成2及び3の他の態様とし
て、(4) 構成2又は3のいずれかのフォトマスク保
護体の剥離方法において、前記冷媒が液体窒素であるこ
とを特徴とした構成とし、さらに、構成1の他の態様と
して、(5) 構成1のフォトマスク保護体の剥離方法
において、前記フォトマスク保護体の枠体にドライアイ
スを接触させることにより、前記枠体とフォトマスクと
の接着部を冷却することを特徴とする構成としたもので
ある。
マスクに接着している接着部を冷却していくと、フォト
マスク保護体の接着に用いられる接着手段の凍結や変質
等による接着手段自体の接着力の低下、あるいは、接着
手段とフォトマスク又はフォトマスク保護体との熱収縮
量の差等により、接着部の接着力が弱くなり、所定温度
以下ではフォトマスク保護体の自重程度以下の接着力に
なる。したがって、例えば、フォトマスクを傷付けたり
汚染するおそれのない柔らかで清潔な治具を用いて剥離
できる所定の接着力になるまで冷却すれば、フォトマス
クを傷付けたり汚染したりすることなく、容易にフォト
マスク保護体をフォトマスクから剥離することができる
。
ォトマスク保護体が下側に向くようにしてフォトマスク
を支持しておき、次いで、前記冷却容器内に冷媒を導入
し、前記フォトマスク保護体の枠体とフォトマスクとの
接着部を所定温度以下に冷却して前記枠体とフォトマス
クとを接着する接着手段の接着力を前記フォトマスク保
護体の自重以下に低下させることにより該フォトマスク
保護体を落下させることができる。この場合には、フォ
トマスクに治具等が触れることがないから、フォトマス
クを治具等で傷付けるおそれを完全に除去できる。
直接冷媒にさらす必要がなくなるから冷媒によるフォト
マスクの汚染のおそれを除去できる。
易な液体窒素を用いているから構成2及び3の方法を容
易に実施可能とする。
媒と熱良導体との双方の機能をドライアイスで兼ねるこ
とになるので、構成3のように、熱伝導性部材を用いる
ことなく、構成3で得られる利点とほぼ同様の利点を得
ることができる。
の剥離方法の説明図、図2は図1のIIーII線断面図
、図3はフォトマスク保護体付きフォトマスクの断面図
、図4は図3のA部拡大図である。以下、これら図面を
参照しながら本発明の第1実施例を詳述する。なお、こ
の実施例は、フォトマスク保護体としてペリクルを用い
た例である。
ク、符号2はフォトマスク保護体としてのペリクル、符
号3は接着手段としての粘着テープ、符号4は冷媒とし
ての液体窒素、符号5は冷却容器、符号6はフォトマス
ク支持台、符号7は液体窒素タンクである。
、石英ガラス基板11の両面(対向する主表面)11a
,11bを鏡面研摩し、その一方の主表面11aにクロ
ム膜で構成される遮光膜12を形成したものである。 この遮光膜の形成は、周知のように、石英ガラス基板1
1の主表面にクロム膜を成膜した後、フォトリソグラフ
ィー法によって透光部と遮光部とからなる遮光膜パター
ンを形成したものである。
体としてのペリクル2が固着されている。このペリクル
2はアルミニウム等を短い円筒状に形成したペリクル枠
21と、このペリクル枠21の一方の開口部を塞ぐよう
に該ペリクル枠21の一方の端部間に張られたペリクル
膜22とで構成されており、ペリクル枠21の他方の開
口部をフォトマスク1の遮光膜12に向けてペリクル枠
21の他方の端部を粘着テープ3により石英ガラス基板
11に接着することによってフォトマスク1に固着され
ている。なお、ペリクル膜22は厚さ数μm程度のニト
ロセルロース等の透光性有機膜で構成されたものである
。
厚さ0.8mm程度のポリエチレン発泡体テープで構成
されるテープ基体31と、このテープ基体31の両面に
付着された接着剤層31a,31bとからなる。これら
接着剤層31a,31bは厚さ0.1μm程度のアクリ
ル系接着剤の層である。
器であり、上面開口部を蓋体51で塞ぐようになってい
る。蓋体51には冷媒導入孔52が設けられており、こ
の冷媒導入孔52から液体窒素タンク7の液体窒素供給
管71が挿入されている。液体窒素タンク7は、内圧印
加用のガス導入管72から例えば窒素ガスを導入するこ
とにより液体窒素タンク7内にある液体窒素4を液体窒
素供給管71を通じて冷却容器5内に供給するものであ
る。
支持台6が設けられている。これらフォトマスク支持台
6は、それぞれフォトマスク1の四隅が載置されるよう
に、適宜の間隔を設けて配置されている。なお、フォト
マスク支持台6にフォトマスク1が支持された場合、冷
却容器5の底面とフォトマスク1の下面との距離は略1
0mmである。また、冷却容器5の深さは略100mm
程度である。液体窒素供給管71の先端と冷却容器5の
底面との距離は5〜10mmに設定される。さらに、冷
却容器5及び蓋体51は、例えば、厚さ10mm程度の
発泡スチロール板等で構成できる。
容し、ペリクル2が下を向くようにしてフォトマスク支
持台6上に載置した。
のガス導入管72を通じて2Kg/cm2 程度の圧の
窒素ガスを導入することによって冷却容器5内に1〜3
リットル/min程度の速度で液体窒素を導入し、液体
窒素の液面が冷却容器5の底面から10mmの高さにな
るようにした。このとき、液体窒素の液面はフォトマス
ク1の下面に一致した。なお、このように、フォトマス
ク1全体を液体窒素中に侵漬させないようにしたのは、
なるべく液体窒素をフォトマスク1に直接接触させない
ようにして、直接接触させた場合における液体窒素によ
る汚染のおそれや、熱ショックによる損傷のおそれを軽
減するためである。無論このようなおそれが少ない場合
は、液体窒素中にフォトマスク1を侵漬させるようにし
てもよい。
ペリクル2がフォトマスク1から自然に剥離し、落下し
た。この場合、粘着テープ3はペリクル2側に付着して
おり、石英ガラス基板11への接着剤の付着はほとんど
認められなかった。
ク1を冷却容器5から取り出し、約10分間室温に放置
した。その後、超音波洗浄を施してペリクル剥離工程中
に付着した塵埃を除去してフォトマスクを再生した。
石英ガラス基板11及び遮光膜12を目視検査したとこ
ろ、これらに欠陥や損傷は認められなかった。また、高
精度長寸法測定器(例えば、日本精工社製の商品名MZ
ー205を適用できる)において、300mm間隔のフ
ォトマスクパターンの所定部を測定したところ、剥離前
に比べて0.1μm程度の縮小しか認められず、実用上
全く問題がないことがわかった。
1、ペリクル2等の物性は次の通りであった。
m/℃ペリクル枠 2.
1×10−5 m/℃粘着テープ テープ基体 7.0×10−5
m/℃アクリル系接着剤 5.3×10−5
m/℃アクリル系接着剤の凍結温度 TMA(Thermo Mechanical A
nalysis)熱分析装置で測定した。すなわち、ア
クリル系接着剤に針を嵌入し、振動を与え、温度を室温
から−120℃まで下げて再び室温まで上げる間におけ
る針の嵌入抵抗を測定して凍結及び溶解温度を求めた。
解温度 −74.5℃第2
実施例 図5は本発明の第2実施例の説明図である。図5に示さ
れるように、この実施例はペリクル付フォトマスク1を
フォトマスク支持台6に載置するかわりに熱良導体とし
てのアルミ板8上にペリクル2を接触させた状態で載置
するようにし、このアルミ板8を液体窒素によって冷却
して熱伝導によってペリクル枠21を通じて接着部を冷
却するようにしたほかは上述の第1実施例と同じである
。
体窒素に直接接触するおそれをより効果的に防止できる
。
れるように、この実施例は上述の第1及び第2実施例と
同じペリクル付フォトマスク1を熱良導体8上に載置す
るかわりにドライアイス上に載置するようにして熱伝導
によってペリクル枠21を通じて接着部を冷却するよう
にしたものである。
おける液体窒素4と熱良導体との双方の機能をドライア
イスで兼ねることになるので、第2実施例のように、熱
良導体8を用いることなく、第2実施例で得られる利点
とほぼ同様の利点を得ることができる。
フォトマスク1と同じフォトマスクを用いて冷却温度を
変えて実験した結果は以下の通りであった。
度 剥離の有無
冷凍庫に収納 0℃
12時間経過しても
剥離せず
同上 −12℃
同上 ペリクル
に −78.5℃
20分経過後に ドライアイス
剥離
当接 この結果と、上述のアクリル系接着剤の凍結温度(−7
9.2℃)及び溶解温度(−74.5℃)とを勘案する
と、このペリクル付きフォトマスクでは、アクリル系接
着剤の凍結温度近傍まで冷却すれば十分であることがわ
かる。これはアクリル系接着剤が凍結により接着力をほ
とんど失うためと推定される。
窒素とドライアイスを用いた場合を例に掲げたが、冷媒
としては、他に例えば液体アルゴン(沸点−185.9
℃)液体キセノン(沸点−105.1℃)、液体クリプ
トン(沸点−153.4℃)、液体酸素(沸点−182
.9℃)、液体エタン(沸点−88.6℃)等がある。 さらに、本発明は必ずしも冷媒を用いる必要はなく
、所定の温度以下に冷却できる冷凍庫等を用いることも
できる。
かに、アクリル系、シアノール系またはエポキシ系等の
接着剤単独を用いてもよい。
のペリクル枠の材質は、アルミのほかに、SKゲージ鋼
等の金属あるいは樹脂等を使用でき、また、フォトマス
クのガラス基板としては、石英ガラスのほかにアルミノ
ボロシリケートガラス等を用いることもできる。
スクの材質に応じて適切な温度とする。この場合、必ず
しも自然落下する程度まで冷却する必要はなく、フォト
マスクを損傷することなくペリクルを剥離可能な程度に
接着力が弱くなる程度の温度でもよい。
トマスクが形成された面と反対側の面に設けたり、ある
いは、両面に設けた場合にも適用できることは勿論であ
る。
を用いたフォトマスク保護体にも適用できる。
トマスクに接着手段で接着することによりフォトマスク
に固着したフォトマスク保護体を該フォトマスクから剥
離するフォトマスク保護体の剥離方法において、前記フ
ォトマスク保護体とフォトマスクとの接着部を所定温度
以下に冷却して接着部の接着手段の接着力を所定以下に
低下させて前記フォトマスク保護体をフォトマスクから
剥離することを特徴としたもので、大型のフォトマスク
に強い接着力で接着されたフォトマスク保護体の剥離を
可能にするとともに、フォトマスクを損傷したり汚染す
ることなく、フォトマスクからフォトマスク保護体を剥
離することを可能にしたものである。
体の剥離方法の説明図である。
リクル、3…接着手段としての粘着テープ、4…冷媒と
しての液体窒素、5…冷却容器、6…フォトマスク支持
台、7…液体窒素タンク、8…熱良導体としてのアルミ
板、11…石英ガラス基板、12…遮光膜。
Claims (5)
- 【請求項1】 枠体の一方の開口部を透光性部材で塞
ぎ、開放されている他方の開口部をフォトマスクの主表
面に向くようにして前記枠体の端部をフォトマスクに接
着手段で接着することによりフォトマスクに固着したフ
ォトマスク保護体を該フォトマスクから剥離するフォト
マスク保護体の剥離方法において、前記枠体とフォトマ
スクとの接着部を所定温度以下に冷却して前記枠体とフ
ォトマスクとを接着する接着手段の接着力を所定以下に
低下させて前記フォトマスク保護体をフォトマスクから
剥離することを特徴としたフォトマスク保護体の剥離方
法。 - 【請求項2】 請求項1に記載のフォトマスク保護体
の剥離方法において、冷却容器内にフォトマスク保護体
が固着されたフォトマスクを収容してこのフォトマスク
をフォトマスク保護体が下側に位置するようにほぼ水平
に支持し、次いで、前記冷却容器内に冷媒を導入し、前
記フォトマスク保護体の枠体とフォトマスクとの接着部
を所定温度以下に冷却して前記枠体とフォトマスクとを
接着する接着手段の接着力を前記フォトマスク保護体の
自重以下に低下させることにより該フォトマスク保護体
を落下させることを特徴としたフォトマスク保護体の剥
離方法。 - 【請求項3】 請求項1または2のいずれかに記載の
フォトマスク保護体の剥離方法において、前記フォトマ
スク保護体の枠体を良導体に接触させ、この熱伝導性部
材を冷媒で冷却することにより、前記枠体とフォトマス
クとの接着部を冷却することを特徴としたフォトマスク
保護体の剥離方法。 - 【請求項4】 請求項2又は3のいずれかに記載のフ
ォトマスク保護体の剥離方法において、前記冷媒が液体
窒素であることを特徴としたフォトマスク保護体の剥離
方法。 - 【請求項5】 請求項1に記載のフォトマスク保護体
の剥離方法において、前記フォトマスク保護体の枠体に
ドライアイスを接触させることにより、前記枠体とフォ
トマスクとの接着部を冷却することを特徴としたフォト
マスク保護体の剥離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6666291A JP3006694B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | フォトマスク保護体の剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6666291A JP3006694B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | フォトマスク保護体の剥離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04301638A true JPH04301638A (ja) | 1992-10-26 |
| JP3006694B2 JP3006694B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=13322340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6666291A Expired - Lifetime JP3006694B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | フォトマスク保護体の剥離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3006694B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227861A (ja) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | レイヴ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ペリクル除去方法及び装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61169848A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | マスク保護用ペリクルの剥離方法 |
| JPS63147325A (ja) * | 1986-12-11 | 1988-06-20 | Toshiba Corp | テ−プ剥離装置 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6666291A patent/JP3006694B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61169848A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | マスク保護用ペリクルの剥離方法 |
| JPS63147325A (ja) * | 1986-12-11 | 1988-06-20 | Toshiba Corp | テ−プ剥離装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227861A (ja) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | レイヴ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ペリクル除去方法及び装置 |
| JP2019061272A (ja) * | 2016-06-23 | 2019-04-18 | レイヴ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ペリクル除去方法及び装置 |
| US10409154B2 (en) | 2016-06-23 | 2019-09-10 | Bruker Nano, Inc. | Method and apparatus for pellicle removal |
| JP2020129138A (ja) * | 2016-06-23 | 2020-08-27 | レイヴ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ペリクル除去方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3006694B2 (ja) | 2000-02-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4255216A (en) | Pellicle ring removal method and tool | |
| JP5876927B2 (ja) | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 | |
| JP7061149B2 (ja) | ペリクル除去方法及び装置 | |
| KR20090053680A (ko) | 펠리클, 펠리클을 수납하는 펠리클 수납 용기 및 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법 | |
| US20100225011A1 (en) | System and Method for Integrated Circuit Fabrication | |
| TW201138017A (en) | Electrostatic chucks and methods for refurbishing same | |
| CN101995764A (zh) | 防尘薄膜组件收纳容器 | |
| KR20230088663A (ko) | 펠리클 수납 용기 | |
| JPH04301638A (ja) | フォトマスク保護体の剥離方法 | |
| JP2017227861A5 (ja) | ||
| JP2015036791A (ja) | ペリクル枠体及びペリクル | |
| JP4345882B2 (ja) | 大型ペリクル | |
| JPH05501701A (ja) | 結晶化方法 | |
| JPH0772793B2 (ja) | ペリクル | |
| JPH06265724A (ja) | 粘着付偏光積層板およびその製造方法 | |
| JPS6325657B2 (ja) | ||
| JP3027078B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクルの製造方法 | |
| JPH0818069A (ja) | 微小装置の製造方法 | |
| JPH07253659A (ja) | ペリクルの剥離方法 | |
| JP2000021825A (ja) | 半導体治具 | |
| JP2003240959A (ja) | 偏光フィルム用保護フィルムおよび偏光フィルム用離型保護フィルム、ならびにそれらを用いた偏光板 | |
| JPS61142035A (ja) | 研磨装置 | |
| JP2003068841A (ja) | ウェーハカセット | |
| JP2005289458A (ja) | スペーサーシート及びそれによる輸送方法 | |
| JPH0424639A (ja) | レチクル及びマスクの洗浄方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081126 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101126 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111126 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111126 Year of fee payment: 12 |