JPH04305218A - クリーンルームのガス除去装置 - Google Patents
クリーンルームのガス除去装置Info
- Publication number
- JPH04305218A JPH04305218A JP3068410A JP6841091A JPH04305218A JP H04305218 A JPH04305218 A JP H04305218A JP 3068410 A JP3068410 A JP 3068410A JP 6841091 A JP6841091 A JP 6841091A JP H04305218 A JPH04305218 A JP H04305218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- air
- activated carbon
- gas removal
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路等に利用され
るクリーンルームに係り、特に超高集積度の集積回路素
子の製造に適した超清浄クリーンルームに関する。
るクリーンルームに係り、特に超高集積度の集積回路素
子の製造に適した超清浄クリーンルームに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製造等ではクリーンルー
ム内において、洗浄やエッチング等でHFやHCl、N
H3 、H2O2 、その他有機溶剤等を使用している
。従来のクリーンルームでは、このような薬品等の漏れ
による装置の腐食やHEPAフイルタの損傷を防止する
ため、ガスを除去するガス吸収フイルタを設けている。 図6は半導体集積回路素子(LSI)の製造に利用され
るクリーンルームを示している。清浄作業域1の天井に
はファンフイルタユニット1A、1Bが設置され、ファ
ンフイルタユニットにはそれぞれ送風フアン2A、2B
と、高性能フイルタ(以下HEPAフイルタと称する)
3A、3Bを有している。清浄作業域1には製造装置4
が配置されている。ファンフイルタユニット1A、1B
から吹き出された清浄空気は開口床5、床下空間6を通
り、保守域6A、6Bを上昇してファンフイルタユニッ
トの空気取り入れ口1C、1Dに入る。床下空間6から
一部の空気は、換気ダクト6Cを通って空気調和機7に
送られる。空気調和機7はミキシングチャンバ7A、温
湿度調整部7B、送風ファン7C、HEPAフイルタ7
D等より成り、ミキシングチャンバ7Aでは、クリーン
ルームからのエアと外気8とが混合される。混合空気は
、空気調和機の各部分を通って温湿度が調和され、清浄
化されて供給ダクト9を通って、ファンフイルタユニッ
トに入る。
ム内において、洗浄やエッチング等でHFやHCl、N
H3 、H2O2 、その他有機溶剤等を使用している
。従来のクリーンルームでは、このような薬品等の漏れ
による装置の腐食やHEPAフイルタの損傷を防止する
ため、ガスを除去するガス吸収フイルタを設けている。 図6は半導体集積回路素子(LSI)の製造に利用され
るクリーンルームを示している。清浄作業域1の天井に
はファンフイルタユニット1A、1Bが設置され、ファ
ンフイルタユニットにはそれぞれ送風フアン2A、2B
と、高性能フイルタ(以下HEPAフイルタと称する)
3A、3Bを有している。清浄作業域1には製造装置4
が配置されている。ファンフイルタユニット1A、1B
から吹き出された清浄空気は開口床5、床下空間6を通
り、保守域6A、6Bを上昇してファンフイルタユニッ
トの空気取り入れ口1C、1Dに入る。床下空間6から
一部の空気は、換気ダクト6Cを通って空気調和機7に
送られる。空気調和機7はミキシングチャンバ7A、温
湿度調整部7B、送風ファン7C、HEPAフイルタ7
D等より成り、ミキシングチャンバ7Aでは、クリーン
ルームからのエアと外気8とが混合される。混合空気は
、空気調和機の各部分を通って温湿度が調和され、清浄
化されて供給ダクト9を通って、ファンフイルタユニッ
トに入る。
【0003】ところでLSIは、微細化の進展に伴って
、製造環境の清浄度への要求も厳しくなっており、塵埃
の外、外気からの硫黄酸化物(SO2 )、窒素酸化物
類(NOX )の侵入の防止も求められるようになった
。 このため活性炭を主材とするガス吸収フイルタを用いる
ことが提案されている。例えば、第9回超LSIウルト
ラクリーンテクノロジーシンポジウム「クリーンルーム
及びその付帯設備」(平成元年6月)のプロシーディン
グp35には、図6に示すように活性炭吸着層7Eを外
気処理機の中に用いる例が示されている。また特開昭6
0−44742号公報では、図6に示すように活性炭素
繊維からなるフイルタ9Aを供給ダクト9の途中に用い
る例が示されている。
、製造環境の清浄度への要求も厳しくなっており、塵埃
の外、外気からの硫黄酸化物(SO2 )、窒素酸化物
類(NOX )の侵入の防止も求められるようになった
。 このため活性炭を主材とするガス吸収フイルタを用いる
ことが提案されている。例えば、第9回超LSIウルト
ラクリーンテクノロジーシンポジウム「クリーンルーム
及びその付帯設備」(平成元年6月)のプロシーディン
グp35には、図6に示すように活性炭吸着層7Eを外
気処理機の中に用いる例が示されている。また特開昭6
0−44742号公報では、図6に示すように活性炭素
繊維からなるフイルタ9Aを供給ダクト9の途中に用い
る例が示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、クリー
ンルームに供給される空気の大部分は保守域6A、6B
を通って循環しており、内部での汚染、特に製造装置4
からの汚染、それもHEPAフイルタでは除去されない
ガス状物質による汚染が発生すると、これを除去するの
は容易ではない。特に洗浄装置で多量に使用している弗
化水素ガスが漏洩すると、室内壁面等への吸着、脱着な
どを繰り返しながらクリーンルーム内全域へ拡散する。 弗化水素ガスはHEPAフイルタに接触すると、フイル
タを構成するガラス繊維を腐食させ、ガラス中に含まれ
るボロン化合物の極微粒子を放出する危険性がある。ボ
ロン化合物はシリコン半導体のウエハに付着し、LSI
の性能や歩留りを悪くする。
ンルームに供給される空気の大部分は保守域6A、6B
を通って循環しており、内部での汚染、特に製造装置4
からの汚染、それもHEPAフイルタでは除去されない
ガス状物質による汚染が発生すると、これを除去するの
は容易ではない。特に洗浄装置で多量に使用している弗
化水素ガスが漏洩すると、室内壁面等への吸着、脱着な
どを繰り返しながらクリーンルーム内全域へ拡散する。 弗化水素ガスはHEPAフイルタに接触すると、フイル
タを構成するガラス繊維を腐食させ、ガラス中に含まれ
るボロン化合物の極微粒子を放出する危険性がある。ボ
ロン化合物はシリコン半導体のウエハに付着し、LSI
の性能や歩留りを悪くする。
【0005】室内中のガスを除去する例として、例えば
、清水建設研究報告第45号(昭和62年4月)には、
椰子殻破砕活性炭にKOHを添着させた室内空気中の酸
性ガスの吸着剤の例が示されている。しかし破砕活性炭
は使用中に微粒子塵埃の発生数が多く、半導体等の製造
用クリーンルーム内に設置するのは不適当である。 本発明はクリーンルーム内で発生する酸性、アルカリ性
ガス及び有機性の各種ガス類を除去することによって、
高い清浄度のクリーンルーム内雰囲気を形成し、作業環
境並びに製品の歩留り向上を図るものである。
、清水建設研究報告第45号(昭和62年4月)には、
椰子殻破砕活性炭にKOHを添着させた室内空気中の酸
性ガスの吸着剤の例が示されている。しかし破砕活性炭
は使用中に微粒子塵埃の発生数が多く、半導体等の製造
用クリーンルーム内に設置するのは不適当である。 本発明はクリーンルーム内で発生する酸性、アルカリ性
ガス及び有機性の各種ガス類を除去することによって、
高い清浄度のクリーンルーム内雰囲気を形成し、作業環
境並びに製品の歩留り向上を図るものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明ではクリーンルーム内の各種ガスの発生す
る近傍の空気の循環通路に、低い空気流通抵抗値をもっ
たガスの除去装置を設けた。ガス除去装置の基本的構成
は格子構造状の活性炭担体にガスの吸着補助剤を担持し
たものであり、担体を通過する空気の圧力損失は3mm
水柱以下、好ましくは1mm水柱以下である。
めに、本発明ではクリーンルーム内の各種ガスの発生す
る近傍の空気の循環通路に、低い空気流通抵抗値をもっ
たガスの除去装置を設けた。ガス除去装置の基本的構成
は格子構造状の活性炭担体にガスの吸着補助剤を担持し
たものであり、担体を通過する空気の圧力損失は3mm
水柱以下、好ましくは1mm水柱以下である。
【0007】このような低圧損担体の断面開口率(空間
率)は80〜90%である。更に、クリーンルーム内で
使用するためには、低発塵性であることが必要であり、
脆弱な格子構造状の活性炭担体は1個当たりの体積が1
cm3〜500cm3 、好ましくは16cm3 〜3
00cm3 の範囲にある。この格子状に形成された吸
着材を弾性のある不織布等で包み、容器中に整列して空
気の循環通路に設置する。
率)は80〜90%である。更に、クリーンルーム内で
使用するためには、低発塵性であることが必要であり、
脆弱な格子構造状の活性炭担体は1個当たりの体積が1
cm3〜500cm3 、好ましくは16cm3 〜3
00cm3 の範囲にある。この格子状に形成された吸
着材を弾性のある不織布等で包み、容器中に整列して空
気の循環通路に設置する。
【0008】
【作用】クリーンルーム内の空気は1秒間に1m前後の
風速で流れており、換気回数は1 分間に数回から十数
回に及んでいる。この気流中に水柱1mm以下の低圧力
損失のガス除去装置を設置すると、循環空気の一部がガ
ス除去装置内を通過し、そこで有害成分が除かれる。ガ
ス除去装置にファン等の送風手段を設けると、ガスの除
去量は増大するが、振動や風速の影響で発塵源になる可
能性があり、クリーンルーム内に設置するものとしては
好ましくない。
風速で流れており、換気回数は1 分間に数回から十数
回に及んでいる。この気流中に水柱1mm以下の低圧力
損失のガス除去装置を設置すると、循環空気の一部がガ
ス除去装置内を通過し、そこで有害成分が除かれる。ガ
ス除去装置にファン等の送風手段を設けると、ガスの除
去量は増大するが、振動や風速の影響で発塵源になる可
能性があり、クリーンルーム内に設置するものとしては
好ましくない。
【0009】ガス除去装置は空気の流通路の全面に設け
ることは他の機器や配管に干渉されてできない。循環空
気の一部分しか通過しないので、ガスの除去性能は圧力
損失が3mm水柱以下、好ましくは1mm水柱以下の、
開口率として80%〜90%のものが適している。
ることは他の機器や配管に干渉されてできない。循環空
気の一部分しか通過しないので、ガスの除去性能は圧力
損失が3mm水柱以下、好ましくは1mm水柱以下の、
開口率として80%〜90%のものが適している。
【0010】
【実施例】格子構造状に成形した活性炭を8規定の炭酸
カリ水溶液中に浸漬した後脱水、乾燥し、炭酸カリを活
性炭重量の約10%担持せしめて炭酸ガス除去担体を得
た。この除去担体は縦60mm、横30mm、厚さ30
mmの短冊形で(図3参照)、39個を容器中に並べて
除去装置を組み立てた(図5参照)。
カリ水溶液中に浸漬した後脱水、乾燥し、炭酸カリを活
性炭重量の約10%担持せしめて炭酸ガス除去担体を得
た。この除去担体は縦60mm、横30mm、厚さ30
mmの短冊形で(図3参照)、39個を容器中に並べて
除去装置を組み立てた(図5参照)。
【0011】図3では、本発明の除去フイルタを構成す
る格子構造状活性炭40が示され、活性炭40は全体と
して直方体状に形成されている。活性炭40は、図4に
示すように、多数の貫通した格子状孔42を有し、格子
孔42は開口径l=0.7 〜1.2mm 、壁厚t=
0.2 〜0.4mmで構成されている。活性炭40は
、格子構造状に限らず、ハニカム構造でもよい。
る格子構造状活性炭40が示され、活性炭40は全体と
して直方体状に形成されている。活性炭40は、図4に
示すように、多数の貫通した格子状孔42を有し、格子
孔42は開口径l=0.7 〜1.2mm 、壁厚t=
0.2 〜0.4mmで構成されている。活性炭40は
、格子構造状に限らず、ハニカム構造でもよい。
【0012】このように構成された活性炭40は図5で
示す発泡スチロール製中枠44内に複数個整列して配置
される。各活性炭40の間にはポリエステル繊維製緩衝
材46が配置され、活性炭40同士が直接接触しないよ
うになっている。更に、活性炭40の上面、下面にはポ
リエステル繊維製保護シート48、50が設けられる。 更に、このように構成された活性炭40には、下枠52
の中に下側エキスパンドメタル54、粗フイルタ56、
上側エキスパンドメタル58、上枠60が重ねられ、ボ
ルト62に一体にされてガス吸収フイルタを構成する。
示す発泡スチロール製中枠44内に複数個整列して配置
される。各活性炭40の間にはポリエステル繊維製緩衝
材46が配置され、活性炭40同士が直接接触しないよ
うになっている。更に、活性炭40の上面、下面にはポ
リエステル繊維製保護シート48、50が設けられる。 更に、このように構成された活性炭40には、下枠52
の中に下側エキスパンドメタル54、粗フイルタ56、
上側エキスパンドメタル58、上枠60が重ねられ、ボ
ルト62に一体にされてガス吸収フイルタを構成する。
【0013】本願発明の格子状活性炭A、B及び比較の
ための活性炭Cについての性能は表1の通りである。
ための活性炭Cについての性能は表1の通りである。
【0014】
【表1】
吸着実験は図1に示す実験用クリーンルーム内において
行った。クリーンルーム10内には機器14があり、床
は空気の流通するグレーチング15が敷かれている。天
井にはファン12a、12b、HEPAフイルタ13a
、13bを有するファンフイルタユニット11a、11
bがあり、クリーンルーム内に下向きに吹出された清浄
空気はグレーチング15を通り、床下16から一部の空
気(約5%)は外調機20へ、大部分の空気は循環流路
17a、17bを通り、ファンフイルタユニット11a
、11bに戻る。ガス除去装置50aはファンフイルタ
ユニット11aの吸気部に同じくガス除去装置50bは
循環流路17bの一部に位置するように取付けられてい
る。
行った。クリーンルーム10内には機器14があり、床
は空気の流通するグレーチング15が敷かれている。天
井にはファン12a、12b、HEPAフイルタ13a
、13bを有するファンフイルタユニット11a、11
bがあり、クリーンルーム内に下向きに吹出された清浄
空気はグレーチング15を通り、床下16から一部の空
気(約5%)は外調機20へ、大部分の空気は循環流路
17a、17bを通り、ファンフイルタユニット11a
、11bに戻る。ガス除去装置50aはファンフイルタ
ユニット11aの吸気部に同じくガス除去装置50bは
循環流路17bの一部に位置するように取付けられてい
る。
【0015】クリーンルーム内に循環全空気量の10p
pm に相当する量の塩化水素ガスを発生させ、30分
ごとにガス濃度を測定した。測定結果を図2に示す。本
願発明のA、Bは30分後に1ppm 以下に達したの
に対し、Cは2時間以上要した。塩化水素ガスはクリー
ンルーム内外の壁面等への吸着、放出を繰り返すため、
完全に除去されるまでにかなりの時間を要している。こ
のため、活性の強いガスの除去性能は除去材自身の性能
よりも、除去装置を通過しうる風量に依存するものと思
われる。
pm に相当する量の塩化水素ガスを発生させ、30分
ごとにガス濃度を測定した。測定結果を図2に示す。本
願発明のA、Bは30分後に1ppm 以下に達したの
に対し、Cは2時間以上要した。塩化水素ガスはクリー
ンルーム内外の壁面等への吸着、放出を繰り返すため、
完全に除去されるまでにかなりの時間を要している。こ
のため、活性の強いガスの除去性能は除去材自身の性能
よりも、除去装置を通過しうる風量に依存するものと思
われる。
【0016】本実施例では塩化水素ガスを対象にしたが
、弗化水素ガスや硫酸ガス等の酸性ガスでも同様である
。活性炭に酸性成分を担持することによって、アンモニ
ア等のアルカリ性ガスの除去や、その他有機性ガスの除
去も可能である。吸着装置の設置場所としては、ダクト
部を除く空気の流通領域であれば、とくに場所として限
定されるものではない。
、弗化水素ガスや硫酸ガス等の酸性ガスでも同様である
。活性炭に酸性成分を担持することによって、アンモニ
ア等のアルカリ性ガスの除去や、その他有機性ガスの除
去も可能である。吸着装置の設置場所としては、ダクト
部を除く空気の流通領域であれば、とくに場所として限
定されるものではない。
【0017】
【発明の効果】本願のガス除去装置は低い空気抵抗値を
もつため、専用のファンを設けたり、循環用のファンフ
イルタユニット中のファンの容量を大きくする必要もな
く、床下や循環空気通路の空いている場所に取付けるこ
とで、確実にクリーンルーム内の有害ガス成分の濃度を
下げることができる。
もつため、専用のファンを設けたり、循環用のファンフ
イルタユニット中のファンの容量を大きくする必要もな
く、床下や循環空気通路の空いている場所に取付けるこ
とで、確実にクリーンルーム内の有害ガス成分の濃度を
下げることができる。
【図1】図1はガス除去装置を備えたクリーンルームの
断面説明図
断面説明図
【図2】図2は本発明と従来例のHCL除去率を示す特
性図
性図
【図3】図3は本発明の格子構造体状活性炭の斜視図
【
図4】図4は本発明の活性炭の拡大斜視図
図4】図4は本発明の活性炭の拡大斜視図
【図5】図5
は本発明のガス吸収フイルタの分解斜視図
は本発明のガス吸収フイルタの分解斜視図
【図6】図6
は従来のクリーンルームの一例を示す概略構成図
は従来のクリーンルームの一例を示す概略構成図
10…クリーンルーム
15…グレーチング
11a、11b…ファンフイルタユニット17a、17
b…循環流路 40…格子構造状活性炭 46…緩衝材 50a、50b…ガス除去装置 52…下枠 56…フイルタ
b…循環流路 40…格子構造状活性炭 46…緩衝材 50a、50b…ガス除去装置 52…下枠 56…フイルタ
Claims (2)
- 【請求項1】除塵フイルタを通過した空気を循環して吹
出すクリーンルームにおいて、空気の循環通路の一部に
空気の通風抵抗が3mm水柱以下の格子構造状活性炭を
有するガス除去装置を備えたことを特徴とするクリーン
ルーム。 - 【請求項2】請求項1記載のガス除去装置は断面開口率
が80%〜90%の格子構造状活性炭で構成されたこと
を特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3068410A JPH04305218A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クリーンルームのガス除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3068410A JPH04305218A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クリーンルームのガス除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305218A true JPH04305218A (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=13372880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3068410A Pending JPH04305218A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クリーンルームのガス除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04305218A (ja) |
-
1991
- 1991-04-01 JP JP3068410A patent/JPH04305218A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3090088B2 (ja) | クリーンルームのファンフィルタユニット | |
| US5772738A (en) | Multifunctional air filter and air-circulating clean unit with the same incorporated therein | |
| KR100197900B1 (ko) | 반도체 청정실용의 공기조화시스템 | |
| KR100514716B1 (ko) | 공기 청정 장치 및 방법 | |
| JPH1066207A (ja) | 空冷用大気ガス浄化装置 | |
| KR20220122525A (ko) | 재생 가능한 공기 필터 | |
| JPH02126912A (ja) | 空気清浄装置及びこれを用いたクリーンルーム | |
| KR100907492B1 (ko) | 케미컬 필터 및 이의 용도 | |
| JP3694046B2 (ja) | クリーンルームシステム | |
| JP4123824B2 (ja) | ウエハポッドの清浄化システム、ウエハポッド | |
| JP4664459B2 (ja) | クリーンルームシステム | |
| JPH04305218A (ja) | クリーンルームのガス除去装置 | |
| JP3878275B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP4312878B2 (ja) | 高度清浄装置 | |
| JPH04214137A (ja) | ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 | |
| US6280504B1 (en) | Hygroscopic monolith having a channel therethrough for modifying a gas therein by adsorption or desorption, and processes therefor | |
| JP3941029B2 (ja) | クリーンルーム汚染物質除去システム | |
| JP4166909B2 (ja) | 高度清浄装置,局所清浄システム及びオゾン分解フィルタとその製造方法 | |
| JP3323137B2 (ja) | クリーンルーム設備 | |
| KR100431103B1 (ko) | 가습기능을 갖는 공기 정화기용 필터 | |
| JPH10259938A (ja) | 半導体装置生産用クリーンルーム | |
| CN112616232B (zh) | 硅片处理设备 | |
| JP2001145816A (ja) | 気体浄化用フィルタ | |
| JP3123098B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JPH04118121U (ja) | クリーンルーム用空気清浄フイルターユニツト |