JPH0430554A - ウェハ整列装置およびウェハ整列方法 - Google Patents
ウェハ整列装置およびウェハ整列方法Info
- Publication number
- JPH0430554A JPH0430554A JP2138020A JP13802090A JPH0430554A JP H0430554 A JPH0430554 A JP H0430554A JP 2138020 A JP2138020 A JP 2138020A JP 13802090 A JP13802090 A JP 13802090A JP H0430554 A JPH0430554 A JP H0430554A
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- Japan
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- wafer
- wafers
- roller
- orientation flat
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明はウェハ整列装置に関する。
(従来の技術)
キャリアに収納された複数枚のウェハのオリフラを回転
ローラにより一度に合わせるものとして特公平1−59
739号公報がある。
ローラにより一度に合わせるものとして特公平1−59
739号公報がある。
また、キャリアに収納された複数枚のウェハの有無を、
収納されるウェハと同数の光検出器を設け、−度に検出
するものとして特開昭63−1334号、特開昭63−
20958号公報がある。
収納されるウェハと同数の光検出器を設け、−度に検出
するものとして特開昭63−1334号、特開昭63−
20958号公報がある。
(発明が解決しようとする課題)
前記文献の技術で、回転ローラとウェハの周縁を当接さ
せこのウェハを回転させるとき、ウェハはキャリアの溝
内の上部と下部の2ケ所で接触しウェハエツジ部の微少
部分が割れたりCVD等でウェハに付着した膜が剥離し
たりするいわゆるチッピングが多大に発生し、このチッ
ピングにより発生した塵が空気中に浮遊し上記ウェハに
再付着して半導体素子の歩留りを低下させるという改善
点を有する。
せこのウェハを回転させるとき、ウェハはキャリアの溝
内の上部と下部の2ケ所で接触しウェハエツジ部の微少
部分が割れたりCVD等でウェハに付着した膜が剥離し
たりするいわゆるチッピングが多大に発生し、このチッ
ピングにより発生した塵が空気中に浮遊し上記ウェハに
再付着して半導体素子の歩留りを低下させるという改善
点を有する。
後者文献の技術を用いてオリフラ合せの次にウェハのカ
ウントを行なおうとするとき、オリフラ合わせ用の回転
ローラにより回転させられたウェハの厚み方向の移動範
囲はキャリアの溝中心より最大2■前後移動する6 通常用いられるキャリアの溝ピッチである3/16イン
チ(4,76mm)のウェハ間隔内に光検出器を挿入す
るため、この光検出器の厚さを薄く製作できる限度の例
えば2t+iとすると、ウェハと光検出器の間隔は約1
am L/かない。
ウントを行なおうとするとき、オリフラ合わせ用の回転
ローラにより回転させられたウェハの厚み方向の移動範
囲はキャリアの溝中心より最大2■前後移動する6 通常用いられるキャリアの溝ピッチである3/16イン
チ(4,76mm)のウェハ間隔内に光検出器を挿入す
るため、この光検出器の厚さを薄く製作できる限度の例
えば2t+iとすると、ウェハと光検出器の間隔は約1
am L/かない。
この状態で上記光検出器をウェハ間に挿入する如く移動
させたときキャリアの溝中心位置よりズレの大きなウェ
ハは、このウェハのエツジ部が光検出器と接触しウェハ
のチッピングが多大に発生し前記と同様に半導体素子の
歩留りを低下させるという改善点を有する。
させたときキャリアの溝中心位置よりズレの大きなウェ
ハは、このウェハのエツジ部が光検出器と接触しウェハ
のチッピングが多大に発生し前記と同様に半導体素子の
歩留りを低下させるという改善点を有する。
この発明は上記点に鑑みなされたもので、複数枚のウェ
ハのオリフラを所定の姿勢に整列させるとき、ウェハが
当接する回転ローラの位置を一定化して、保持部材内に
おけるウェハのチッピングを減少させ、またオリフラ合
わせと、ウェハ検出を同一装置で行ってもチッピングの
発生が少なく、もって半導体素子の歩留りを向上させる
ことを可能とするウェハ整列装置を提供するものである
。
ハのオリフラを所定の姿勢に整列させるとき、ウェハが
当接する回転ローラの位置を一定化して、保持部材内に
おけるウェハのチッピングを減少させ、またオリフラ合
わせと、ウェハ検出を同一装置で行ってもチッピングの
発生が少なく、もって半導体素子の歩留りを向上させる
ことを可能とするウェハ整列装置を提供するものである
。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段)
この発明は各ウェハを垂直面内で収納する保持部材と、
上記各ウェハの下部周縁に当接し上記ウェハを回転させ
て整列させるローラを設けてなるウェハ処理装置におい
て、上記ローラは上記ウェハの周縁が当接する位置に溝
部が設けられるようにしたものである。
上記各ウェハの下部周縁に当接し上記ウェハを回転させ
て整列させるローラを設けてなるウェハ処理装置におい
て、上記ローラは上記ウェハの周縁が当接する位置に溝
部が設けられるようにしたものである。
(作用)
本発明は保持部材に収納された各ウェハの下部周縁と当
接するローラに、このローラが回転しても常時上記ウェ
ハの周縁を収容可能な如き環状溝部を設けたため、上記
ウェハが保持部材内で回転したときウェハの下部はロー
ラの溝部内でありウェハの厚み方向に移動することはな
いので、保持部材に設けられた溝の上部だけしかウェハ
と接触しないし、またウェハの傾斜角度も少ない。
接するローラに、このローラが回転しても常時上記ウェ
ハの周縁を収容可能な如き環状溝部を設けたため、上記
ウェハが保持部材内で回転したときウェハの下部はロー
ラの溝部内でありウェハの厚み方向に移動することはな
いので、保持部材に設けられた溝の上部だけしかウェハ
と接触しないし、またウェハの傾斜角度も少ない。
従って、保持部材内でウェハが回転接触して発生スるウ
ェハのチッピングは大幅に減少する。
ェハのチッピングは大幅に減少する。
また、光検出器をウェハ間に挿入する如く移動させても
光検出器とウェハが接触することはないのでウェハのチ
ッピングも発生しない。
光検出器とウェハが接触することはないのでウェハのチ
ッピングも発生しない。
(実施例)
以下本発明のウェハ整列装置の一実施例について図面を
参照して具体的に説明する。
参照して具体的に説明する。
第1図において複数枚のウェハ1はウェハサイズ6イン
チで外径1501オリフラ部長さ60mmであり、軟質
の樹脂例えばフッ素樹脂からなるガイド2の中間部より
上方垂直方向にこのガイド2を上から見て断面がコ字形
に形成された溝部3に、上記ウェハ1の周縁部を嵌入し
このウェハ1を垂直面内で上下および回転可能に収納し
ており、上記ガイド2は開口部5を有する載置台4に載
置している。上記開口部5には複数枚の上記ウェハ1を
嵌合する如く設けられた溝部7を有し、図示しない昇降
機構により上記ウェハ1を収納して昇降可能な如く設け
られた突き上げ部6と、2本のローラ10とウェハ検出
器30を設けており、詳細は第2図を用いて説明する。
チで外径1501オリフラ部長さ60mmであり、軟質
の樹脂例えばフッ素樹脂からなるガイド2の中間部より
上方垂直方向にこのガイド2を上から見て断面がコ字形
に形成された溝部3に、上記ウェハ1の周縁部を嵌入し
このウェハ1を垂直面内で上下および回転可能に収納し
ており、上記ガイド2は開口部5を有する載置台4に載
置している。上記開口部5には複数枚の上記ウェハ1を
嵌合する如く設けられた溝部7を有し、図示しない昇降
機構により上記ウェハ1を収納して昇降可能な如く設け
られた突き上げ部6と、2本のローラ10とウェハ検出
器30を設けており、詳細は第2図を用いて説明する。
上記2本のローラ10は直径20mmで軟質の樹脂例え
ばフッ素樹脂からなり、上記ウェハ1の周縁を収容可能
な第3図の如き環状溝部13が設けられ中心軸11を中
心として回転可能に構成されており。
ばフッ素樹脂からなり、上記ウェハ1の周縁を収容可能
な第3図の如き環状溝部13が設けられ中心軸11を中
心として回転可能に構成されており。
上記2本のローラ10の下部に設けられたモータ20の
回転軸にはプーリー21が結合され、このプーリー21
および2つのローラ10間にはベルト22が張設され、
モータ20の回転により2本のローラ10が同一方向に
回転可能の如く構成している。また、上記2本のローラ
10とモータ20からなるローラ機構12は図示しない
昇降機構により昇降可能に構成されている。
回転軸にはプーリー21が結合され、このプーリー21
および2つのローラ10間にはベルト22が張設され、
モータ20の回転により2本のローラ10が同一方向に
回転可能の如く構成している。また、上記2本のローラ
10とモータ20からなるローラ機構12は図示しない
昇降機構により昇降可能に構成されている。
また、上記2本のローラ10の間隔はウェハ1の大きさ
やオリフラ長さによって調整可能な如く構成されている
。
やオリフラ長さによって調整可能な如く構成されている
。
次に、上記2本のローラ10の間に位置しローラ10と
平行してウェハ検出器30が設けられている。
平行してウェハ検出器30が設けられている。
このウェハ検出器30はセラミックや樹脂例えばデルリ
ン(商品名)をモールド成型して作られ、上記ローラ1
0の各溝部13に対応した位置には複数の溝部32が設
けられこの各溝部32の内側対向面には夫々第4図の如
き投光素子34と受光素子36からなる検知素子対38
を設け、この検知素子対38はウェハの有無を検出する
ためのセンサユニットで。
ン(商品名)をモールド成型して作られ、上記ローラ1
0の各溝部13に対応した位置には複数の溝部32が設
けられこの各溝部32の内側対向面には夫々第4図の如
き投光素子34と受光素子36からなる検知素子対38
を設け、この検知素子対38はウェハの有無を検出する
ためのセンサユニットで。
電気信号出力を信号処理部40に電気的に接続しである
。
。
上記ウェハ検出器30の溝部32のピッチはウェハが収
納されるウェハキャリアの溝ピッチである3716イン
チで約4 、7mmとしてあり、溝部32の幅Aは約2
.7mmで凸部31の厚さBは2mmとしである。
納されるウェハキャリアの溝ピッチである3716イン
チで約4 、7mmとしてあり、溝部32の幅Aは約2
.7mmで凸部31の厚さBは2mmとしである。
この凸部31の厚さBの2mm内に1発光素子34と受
光素子36を複数個同軸的に配置することはできないた
め、第5図に示すように検知素子対38を交互しこ配置
している。
光素子36を複数個同軸的に配置することはできないた
め、第5図に示すように検知素子対38を交互しこ配置
している。
また、ウェハ検出器30は2本のローラ10間に設ける
ためウェハ検出器30の幅Wは15mmであり、凸部3
1の厚さBは2mm1と薄いため溝部32の深さCは、
デルリンで作られた凸部31の機械的強度およびデルリ
ンのモールド成型後の変形やその他経時変形を考慮する
と、51m11以上とすることは困難であり、本実施例
においては溝部32の深さCは上記限度である5WIl
とした。
ためウェハ検出器30の幅Wは15mmであり、凸部3
1の厚さBは2mm1と薄いため溝部32の深さCは、
デルリンで作られた凸部31の機械的強度およびデルリ
ンのモールド成型後の変形やその他経時変形を考慮する
と、51m11以上とすることは困難であり、本実施例
においては溝部32の深さCは上記限度である5WIl
とした。
このためウェハ検′出器30は複数枚のウェハ1で整列
された状態のオリフラ位置に嵌合させることが、正確な
ウェハ検知を行うために望ましい。
された状態のオリフラ位置に嵌合させることが、正確な
ウェハ検知を行うために望ましい。
次に上記実施例装置による複数枚のウェハ1のオリフラ
合せと、複数枚のウェハ1の有無および位置検知するウ
ェハカウント方法について説明する。
合せと、複数枚のウェハ1の有無および位置検知するウ
ェハカウント方法について説明する。
上記ガイド2に収納された複数枚のウェハ1の下部周縁
部に2本のローラ10を当接するように、ローラ機構1
2を図示しない昇降機構により上昇させる。
部に2本のローラ10を当接するように、ローラ機構1
2を図示しない昇降機構により上昇させる。
そしてモータ20を回転させプーリー21ベルト22を
介して2本のローラ10を同一方向に回転させる。
介して2本のローラ10を同一方向に回転させる。
この回転するローラ10に設けられた環状溝部13との
接触により複数枚のウェハ1は上記環状溝部13内で回
転させられオリフラ部が下側になるまで回転が続けられ
る。そしてウェハ1のオリフラ部が下側になったとき、
オリフラ部とローラ10が離間しウェハ1の回転は自動
的に停止する。全てのウェハ1のオリフラが整列終了後
、モータ20の回転を止め、ローラ20の回転を停止す
る。ウェハ1の下端部は環状溝部13のピッチで配列さ
せられており、ウェハ検出器30を図示しない昇降機構
で上昇させると、整列された複数枚のウェハ1のオリフ
ラ部と接触することなくウェハ検出器30の溝部32が
嵌合させられる。
接触により複数枚のウェハ1は上記環状溝部13内で回
転させられオリフラ部が下側になるまで回転が続けられ
る。そしてウェハ1のオリフラ部が下側になったとき、
オリフラ部とローラ10が離間しウェハ1の回転は自動
的に停止する。全てのウェハ1のオリフラが整列終了後
、モータ20の回転を止め、ローラ20の回転を停止す
る。ウェハ1の下端部は環状溝部13のピッチで配列さ
せられており、ウェハ検出器30を図示しない昇降機構
で上昇させると、整列された複数枚のウェハ1のオリフ
ラ部と接触することなくウェハ検出器30の溝部32が
嵌合させられる。
そしてウェハ検出器30に設けられた投光素子34から
赤外光を発光すると、ウェハ1が嵌合された溝部32の
上記投光素子34と対向する受光素子36には上記赤外
光が入らず、上記受光素子36が受ける光量に比例した
電気信号が信号処理部40へ伝達されウェハ1の有無と
位置が検知される。
赤外光を発光すると、ウェハ1が嵌合された溝部32の
上記投光素子34と対向する受光素子36には上記赤外
光が入らず、上記受光素子36が受ける光量に比例した
電気信号が信号処理部40へ伝達されウェハ1の有無と
位置が検知される。
上記と同様にして全ての溝部32における複数枚のウェ
ハ1の有無および位置が瞬時に検知され。
ハ1の有無および位置が瞬時に検知され。
図示しない次工程装置へ信号伝達し、さらに図示しない
モーター装置に表示を行う。
モーター装置に表示を行う。
次に上記2本のローラ10の両側に配置された突き上げ
部6の溝部7にウェハ1の周縁部が嵌合するように図示
しない昇降機構しこより突き上げ部6を上昇させ、複数
枚のウェハ1のオリフラが整列した状態で一度にガイド
2の上方にウェハ1を突き上げ、図示しないウェハチエ
ツクで次工程ヘウェハ搬送を行う。
部6の溝部7にウェハ1の周縁部が嵌合するように図示
しない昇降機構しこより突き上げ部6を上昇させ、複数
枚のウェハ1のオリフラが整列した状態で一度にガイド
2の上方にウェハ1を突き上げ、図示しないウェハチエ
ツクで次工程ヘウェハ搬送を行う。
以上説明した如くオリフラ合わせを行う時、ウェハ1は
ガイド2と接触する部分が少なく、ウェハ1の傾斜角度
も小さくなるのでウェハのチッピング発生は大幅に少な
くなる。
ガイド2と接触する部分が少なく、ウェハ1の傾斜角度
も小さくなるのでウェハのチッピング発生は大幅に少な
くなる。
また複数枚のウェハ1の下端部はローラlOの環状溝部
13のピッチで配列させられており、ウェハ検出器30
を上記ウェハ1間に挿入移動してもウェハ1とウェハ検
出器30は接触することはなく、ウェハのチッピングも
発生しない。
13のピッチで配列させられており、ウェハ検出器30
を上記ウェハ1間に挿入移動してもウェハ1とウェハ検
出器30は接触することはなく、ウェハのチッピングも
発生しない。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々変形実施が可能である。
発明の要旨の範囲内で種々変形実施が可能である。
上記実施例では複数枚のウェハ1を収納するガイド2を
用いたが、このガイド2の代りに25枚のウェハを収納
する樹脂例えばフッ素樹脂からなるウェハキャリアを用
いてもよい。この場合オリフラ合せとウェハカウント終
了後、ローラ機構12とウェハ検出器30を図示しない
昇降機構で下降させ、複数枚のウェハ1が収納された状
態で上記キャリアを、例えばキャリア搬送装置で次工程
へ搬送してもよい。また、ウェハ搬送器30の溝部32
のピッチは3ノ16インチに限らず174インチやその
他任意の寸法でよい。
用いたが、このガイド2の代りに25枚のウェハを収納
する樹脂例えばフッ素樹脂からなるウェハキャリアを用
いてもよい。この場合オリフラ合せとウェハカウント終
了後、ローラ機構12とウェハ検出器30を図示しない
昇降機構で下降させ、複数枚のウェハ1が収納された状
態で上記キャリアを、例えばキャリア搬送装置で次工程
へ搬送してもよい。また、ウェハ搬送器30の溝部32
のピッチは3ノ16インチに限らず174インチやその
他任意の寸法でよい。
さらに整列したオリフラ位置を例えば上方にする場合に
は、2本のローラ10のうち1本のローラ10をウェハ
1の周縁部に当接せしめ、上記オリフラ合せを行った位
置より所定高さローラ10を上昇させ、ローラ10を所
定回転行うことによりオリフラ位置を上方に移動させる
ことができる。
は、2本のローラ10のうち1本のローラ10をウェハ
1の周縁部に当接せしめ、上記オリフラ合せを行った位
置より所定高さローラ10を上昇させ、ローラ10を所
定回転行うことによりオリフラ位置を上方に移動させる
ことができる。
また本実施例においてウェハ検知素子対38は透過型を
用いて説明を行ったが反射型の検知素子対を用いてもよ
いことは当然である。
用いて説明を行ったが反射型の検知素子対を用いてもよ
いことは当然である。
発光素子として発光ダイオード、受光素子としてはフォ
トダイオード、フォトトランジスタ、太陽電池型の薄肉
光検出器等を用いることができる。
トダイオード、フォトトランジスタ、太陽電池型の薄肉
光検出器等を用いることができる。
またオリフラ合せを行う回転ローラ10は2本に限らず
、1本もしくは3本以上としてもよい。
、1本もしくは3本以上としてもよい。
ウェハ検出部30は突き上げ部6の少なくとも片側に設
けてもよい。
けてもよい。
さらに上記したウェハ整列装置の応用例は半導体装置の
各工程において有効に活用出来るものであり、熱処理装
置、エツチング装置、イオン注入装置、検査装置、レジ
スト塗布装置、キャリアストッカー装置等へ利用できる
。
各工程において有効に活用出来るものであり、熱処理装
置、エツチング装置、イオン注入装置、検査装置、レジ
スト塗布装置、キャリアストッカー装置等へ利用できる
。
例えば横型熱処理装置や縦型熱処理装置において複数の
キャリアから熱処理用ボートに複数枚のウェハを移換え
る工程に本発明を利用することができる。
キャリアから熱処理用ボートに複数枚のウェハを移換え
る工程に本発明を利用することができる。
以上説明したように、本発明によれば複数枚のウェハの
オリフラを所定の姿勢に整列させるときウェハのチッピ
ングが少なく、上記整列後のウェハ間にウェハ検出器を
非接触で挿入することができ半導体素子の歩留りを向上
させることができる。
オリフラを所定の姿勢に整列させるときウェハのチッピ
ングが少なく、上記整列後のウェハ間にウェハ検出器を
非接触で挿入することができ半導体素子の歩留りを向上
させることができる。
第1図は本発明に係るウェハ整列装置の一実施例のウェ
ハ収納部説明図、第2図、第3図は第1図の部分説明図
、第4図、第5図は第2図のウェハ検呂器説明図である
。 1・・・ウェハ 6・・・突き上げ部 20・・・モータ 40・・・信号処理部 2・・・ガイド 10・・・ローラ 30・・・ウェハ検出器 第 図 第 図 第 図 手 続 補 正 書 1゜ 事件の表示 平成2年特許願第138020号 2゜ 発明の名称 ウェハ整列装置 3゜ 補正をする者 事件との関係
ハ収納部説明図、第2図、第3図は第1図の部分説明図
、第4図、第5図は第2図のウェハ検呂器説明図である
。 1・・・ウェハ 6・・・突き上げ部 20・・・モータ 40・・・信号処理部 2・・・ガイド 10・・・ローラ 30・・・ウェハ検出器 第 図 第 図 第 図 手 続 補 正 書 1゜ 事件の表示 平成2年特許願第138020号 2゜ 発明の名称 ウェハ整列装置 3゜ 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 各ウェハを垂直面内で収納する保持部材と、上記各ウ
ェハの下部周縁に当接し上記ウェハを回転させて整列さ
せるローラを設けてなるウェハ整列装置において、 上記ローラは上記ウェハの周縁が当接する位置に溝部が
設けられていることを特徴とするウェハ整列装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13802090A JP2856843B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | ウェハ整列装置およびウェハ整列方法 |
| KR1019910004375A KR0139785B1 (ko) | 1990-03-20 | 1991-03-20 | 웨이퍼 정렬 기능을 가진 웨이퍼 카운트 장치 |
| US07/672,852 US5183378A (en) | 1990-03-20 | 1991-03-20 | Wafer counter having device for aligning wafers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13802090A JP2856843B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | ウェハ整列装置およびウェハ整列方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0430554A true JPH0430554A (ja) | 1992-02-03 |
| JP2856843B2 JP2856843B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=15212181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13802090A Expired - Lifetime JP2856843B2 (ja) | 1990-03-20 | 1990-05-28 | ウェハ整列装置およびウェハ整列方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2856843B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04162447A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-05 | Nec Corp | ウェハー整列装置 |
| US5533243A (en) * | 1993-12-28 | 1996-07-09 | Tokyo Electron Limited | Notch position aligning apparatus and process for using the apparatus to independently align individual wafers in a wafer cassette |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100541809B1 (ko) * | 2003-05-22 | 2006-01-11 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼의 플랫존 얼라인먼트 장치 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13802090A patent/JP2856843B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04162447A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-05 | Nec Corp | ウェハー整列装置 |
| US5533243A (en) * | 1993-12-28 | 1996-07-09 | Tokyo Electron Limited | Notch position aligning apparatus and process for using the apparatus to independently align individual wafers in a wafer cassette |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2856843B2 (ja) | 1999-02-10 |
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