JPH04308581A - 新規ピペラジン誘導体 - Google Patents
新規ピペラジン誘導体Info
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- JPH04308581A JPH04308581A JP3071608A JP7160891A JPH04308581A JP H04308581 A JPH04308581 A JP H04308581A JP 3071608 A JP3071608 A JP 3071608A JP 7160891 A JP7160891 A JP 7160891A JP H04308581 A JPH04308581 A JP H04308581A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、新規な構造のピペラジ
ン誘導体に関する。本発明の化合物は、ポリオレフィン
樹脂をはじめとする各種有機化合物の酸化防止剤として
有用である。 【0002】 【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂類、潤滑
油、作動油等の有機物質は、酸化を受けて有用性を減じ
るので、種々の酸化防止剤が工夫され、有機物質中に添
加されている。 【0003】例えば、ヒンダードフェノール、有機硫黄
化合物、有機リン化合物、芳香族アミン等を単独である
いは複数の組合せで用いると効果があることが知られて
いる。 【0004】フェノール系の樹脂添加剤は、数々の化合
物が提案および実用化されている(高分子添加剤、改質
剤の評価と市場(シーエムシー発行、1984年)、1
4頁表14等)。また、特公昭39−21140号公報
では、アルキル置換フェノールのノボラック型二量体を
安定剤として含有するポリプロピレン組成物が開示され
ており、一方、特開昭62−30134号公報には、合
成樹脂用安定剤として、ヒドロキシフェニルアルキル基
をNの置換基にもつピペラジン誘導体が開示されている
。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
酸化防止剤は、本発明者らの知る限りでは、非常に過酷
な酸化条件下では必ずしも充分には有効ではない。本発
明は、過酷な酸化条件下での酸化防止効果が大きいピペ
ラジン誘導体を提供しようとするものである。 【0006】〔発明の概要〕 【課題を解決するための手段】<要 旨>本発明は、
特定のピペラジン誘導体を提供することによってこの目
的を達成しようとするものであり、そしてこの新規ピペ
ラジン誘導体は下記の一般式(I)で示されるものであ
る。 【0007】 【化2】 【0008】〔式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル
基を、R2 は炭素数1〜3のアルキレン基を、R3
は水素原子またはメチル基を、表す。〕 【0009】<効 果>本発明による新規ピペラジン
誘導体は、種々の有機物質に対して優れた酸化防止能を
示し、特に従来のピペラジン誘導体と異なって過酷な酸
化条件下での酸化防止効果が大きい。 【0010】〔発明の具体的説明〕 <化合物> 本発明による新規ピペラジン誘導体は、前記の一般式(
I)で示される化合物である。 【0011】本発明の化合物の一般式(I)において、
R1 は炭素数1〜4のアルキル基であり、具体的には
メチル基、エチル基、ブチル基、およびプロピル基が挙
げられる。R2 は炭素数1〜3のアルキレン基であり
、具体的にはメチレン基、エチレン基、およびブチレン
基である。R3 は、水素原子またはメチル基である。 R1 〜R3 はそれぞれ複数個存在するが、それらは
同一でも異なってもよい。 【0012】本発明の一般式(I)で示される新規ピペ
ラジン誘導体の具体例としては、下記の化合物が挙げら
れる。 化合物1:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t‐ブチル‐4
‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボニルエチル
}ピペラジン 【0013】 【化3】 【0014】化合物2:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t
‐ブチル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t
‐ブチル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕オキシカル
ボニルエチル}ピペラジン 【0015】 【化4】 【0016】化合物3:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t
‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t
‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカル
ボニルエチル}‐2,5‐ジメチルピペラジン【001
7】 【化5】 【0018】化合物4:N,N′‐ビス{〔2‐t‐ブ
チル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブ
チル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボニ
ルメチル}ピペラジン 【0019】 【化6】 【0020】化合物5:N,N′‐ビス{1‐メチル‐
2‐〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロ
キシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル
〕オキシカルボニルエチル}ピペラジン【0021】 【化7】 【0022】本発明による新規ピペラジン誘導体は、ピ
ペラジンとしての塩基性を有するから、その酸付加塩が
存在する。 【0023】従って、本発明で「新規ピペラジン誘導体
」というときは(特許請求の範囲を解釈する場合を含む
)、その酸付加塩の形態に在るものを包含するものとす
る。その場合の酸としては、無機酸たとえばハロゲン化
水素酸、たとえば塩化水素酸、硫酸、リン酸、その他、
および有機酸たとえば低級アルカンモノないしジ酸、た
とえばギ酸、酢酸、シュウ酸、スルホン酸たとえばトル
エンスルホン酸、その他がある。 【0024】<化合物の製造>本発明のピペラジン誘導
体は、結合の形成および置換基の導入ないし形成に関し
て合目的的な任意の方法によって製造することができる
。 【0025】適当な製造方法の一つは、一般式(I)の
N−R2 結合をピペラジンまたは2,5‐ジメチルピ
ペラジン(R3 =CH3 )と、対応カルボキシレー
ト、すなわちアルコール部分が〔2‐t‐ブチル‐4‐
R1 ‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐
R1 ‐ベンジル)フェノールであるエステル、とを反
応させることからなるものである。 【0026】その場合の反応の一つは、カルボキシレー
トとしてエチレン性不飽和結合を持つものを使用して、
ピペラジン環中のNHとの付加反応によるものである。 N−R2 結合を形成させるカルボキシレートとの反応
の他の一つは、カルボキシレートとしてハロカルボン酸
のエステルを使用して、ピペラジン環中のNHとの脱ハ
ロゲン化水素反応によるものである。その場合には副成
ハロゲン化水素捕捉剤として塩基が存在することが望ま
しいが、格別の塩基を使用しなくても原料ピペラジン化
合物がハロゲン化水素捕捉剤として働く。 【0027】従って、具体的には、たとえば、各種アク
リレート、各種クロトネートまたはハロアセテートなど
のカルボン酸エステルと、ピペラジンまたは2,5‐ジ
メチルピペラジンとを、それぞれモル比で約2:1の割
合で、塩化メチレン、エタノール、トルエンなどを溶媒
とし、必要に応じてピリジン、トリメチルアミンのよう
な塩基を共存させ、室温〜100℃で反応させればよい
。 【0028】原料のカルボン酸エステルとしては、下記
のものを例示することができる。 (1) アクリレート、たとえば (イ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フ
ェニル〕=アクリレート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル
‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル
‐5‐エチルベンジル)フェニル〕=アクリレート、(
ハ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(
2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベ
ンジル)フェニル〕=アクリレート、(ニ) 〔2,
4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐
ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニル〕=アクリレート等
、【0029】(2) クロトネート、たとえば(イ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕=クロトネート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル‐4
‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐エチルベンジル)フェニル〕=クロトネート、(ハ)
〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベンジ
ル)フェニル〕=クロトネート、(ニ) 〔2,4‐
ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐ジ‐
t‐ブチルベンジル)フェニル〕=クロトネート等、【
0030】(3) メタクリレート、たとえば(イ)
〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロ
キシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル
〕=メタクリレート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル‐4
‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐エチルベンジル)フェニル〕=メタクリレート、(ハ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(2
‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベン
ジル)フェニル〕=メタクリレート、(ニ) 〔2,
4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐
ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニル〕=メタクリレート
等、 【0031】(4) ハロアセテート、たとえば(イ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕‐2‐ブロモアセテート、(ロ) 〔2‐t‐ブ
チル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブ
チル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモア
セテート、(ハ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロ
ピル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イ
ソプロピルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモアセテー
ト、(ニ) 〔2,4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3,5‐ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニ
ル〕‐2‐ブロモアセテート等。 【0032】<化合物の使用>一般式(I)で表される
本発明による化合物は、種々の有機物質の酸化防止に有
効であるが、特に成形加工時および製品使用時に苛酷な
酸化条件にさらされることが多い合成高分子に対して有
用である。たとえば、低密度ポリエチレン、中密度ポリ
エチレン、リニア‐低密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン‐1等のポリα‐オレフィン、エチレン
‐プロピレンランダムまたはブロック共重合体、エチレ
ン‐ブテン‐1ランダム共重合体などのポリα‐オレフ
ィン共重合体、無水マレイン酸変性ポリプロピレンなど
のポリα‐オレフィンとビニルモノマーの共重合体およ
びこれらの混合物などの酸化防止にこのピペラジン誘導
体は有効であって、この中でもポリプロピレンに対して
特に有効である。 【0033】本発明による新規ピペラジン誘導体は、上
記以外の合成高分子にも使用可能であり、これらの合成
高分子としては、ポリ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポ
リスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AE
S樹脂などのスチレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリ
エチレンオキシド、ポリフェニレンエーテル、ポリスル
フォン、ポリウレタン、および不飽和ポリエステル樹脂
などが挙げられる。 【0034】天然有機化合物も本発明化合物によって安
定化される対象であって、具体的には、セルロース、ゴ
ム、蛋白質、あるいは酢酸セルロース等のそれらの誘導
体などの天然重合体や鉱油、動植物油、ロウなどをあげ
ることができる。 【0035】本発明の化合物は、単独で使用しても効果
はあるが、硫黄系酸化防止剤と併用することによって、
著しい相乗効果を得ることができる。 【0036】これらの硫黄系酸化防止剤としては、ジラ
ウリルチオジプロピオネート、ジメリスチルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネートなどの
ジアルキルチオジプロピオネート類およびテトラキス{
メチレン(ラウリルチオジプロピオネート)}メタン、
テトラキス{メチレン(ステアリルチオジプロピオネー
ト)}メタン等のアルキルチオジプロピオン酸と多価ア
ルコールとのエステルが挙げられる。 【0037】有機化合物の安定化に際しては、他の添加
剤、たとえば、紫外線吸収剤、光安定剤、燐系安定剤、
フェノール系酸化防止剤、金属不活性剤、金属石鹸類、
造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、顔料分散剤
および充填剤などを併用してもよい。 【0038】とりわけ、紫外線吸収剤およびヒンダード
アミン系光安定剤、たとえば、2‐ヒドロキシ‐4‐メ
トキシベンゾフェノン、2‐ヒドロキシ‐4‐n‐オク
トキシベンゾフェノン、2(2′‐ヒドロキシ‐5′‐
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2′‐ヒド
ロキシ‐3′‐t‐ブチル‐5′‐メチルフェニル)‐
5‐クロロ‐ベンゾトリアゾール、2(2‐ヒドロキシ
‐3′,5′‐ジ‐t‐ブチルフェニル)‐5‐クロロ
‐ベンゾトリアゾール、2(2′‐ヒドロキシ‐3′,
5′‐ジ‐アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、〔2
,2′‐チオビス(4‐t‐オクチルフェノラート)〕
ブチルアミンNi塩、2,2,6,6‐テトラメチル‐
4‐ピペリジニルベンゾエート、ビス(2,2,6,6
‐テトラメチル‐4‐ピペリジニル)セバケート、2‐
(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシベンジル)
‐2‐n‐ブチル‐マロン酸ビス(1,2,2,6,6
‐ペンタメチル‐4‐ピペリジル)、1‐〔2‐{3‐
(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ}エチル〕‐4‐〔3‐(3,5‐
ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン
、トリス(1,2,2,6,6‐ペンタメチル‐4‐ピ
ペリジル)ホスファイト、ポリ〔{6‐(1,1,3,
3,‐テトラメチルブチルイミノ)‐1,3,5‐トリ
アジン‐2,4‐ジイル}{(2,2,6,6‐テトラ
メチル‐4‐ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(
2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジル)イミ
ノ}〕、ポリ〔{6‐モノホリノ‐2,4‐ジイル}{
(2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジル)イ
ミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6‐テトラメチ
ル‐4‐ピペリジル)イミノ}〕などの併用は、対象有
機化合物の耐光性を改善するのに有用である。 【0039】また、燐系酸化防止剤を併用することによ
って、有機化合物の色相、耐熱老化性、および耐候性を
改善することができる。これら燐系酸化防止剤としては
、たとえば、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリス(2,4‐ジ‐t‐ブチルフェニル)
ホスファイト、トリス(2‐t‐ブチル‐4‐メチルフ
ェニル)ホスファイト、ビス(2,4‐ジ‐t‐ブチル
フェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テト
ラキス(2,4‐ジ‐t‐ブチルフェニル)‐4,4‐
ビフェニレンジホスファイトなどが挙げられる。 【0040】併用できる安定剤の他の具体例であるフェ
ノール系酸化防止剤としては、一般に水酸基のオルト位
の少なくとも片方がアルキル基、アラルキル基またはシ
クロアルキル基で置換されている1価ないし多価フェノ
ール化合物が挙げられる。この場合の置換基としては、
炭素数3〜10程度の物が好ましい。なお、ここで「ア
ルキル基」(アラルキル、シクロアルキル基中のそれを
含む)は不飽和であっても良いものとする。このフェノ
ール化合物は、上記の置換基の他に置換基を有していて
もよく、またフェノール核をアルキレン基などの連結基
で連結したビスフェノールなどの構造でもよい。このよ
うなフェノール系酸化防止剤の具体例としては、たとえ
ば、2,6‐ジ‐t‐ブチル‐p‐クレゾール、2,6
‐ジイソノルボニル‐p‐クレゾール、2,6‐ビス(
2‐フェニルイソプロピル)‐p‐クレゾール、n‐オ
クタデシル‐β‐(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒド
ロキシ‐フェニル)プロピオネート、2,2′‐メチレ
ンビス(4‐エチル‐6‐t‐ブチルフェノール)、2
,2′‐メチレンビス(4‐メチル‐6‐α‐メチルシ
クロヘキシルフェノール)、4,4′‐メチレンビス(
2,6‐ジ‐t‐ブチルフェノール)、4,4′‐ブチ
リデンビス(2‐t‐ブチル‐5‐メチルフェノール)
、4,4′‐ブチリデンビス(2‐t‐ブチル‐5‐メ
チルフェノール)、4,4′‐ブチリデンビス(2‐イ
ソプロピル‐5‐メチルフェノール)、トリス(4‐t
‐ブチル‐2,6‐ジ‐メチル‐3‐ヒドロキシルベン
ジル)イソシアヌレート、1,3,5‐トリス(3,5
‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシベンジル)‐2,4
,6‐トリメチルベンゼン、3,9‐〔ビス‐1,1‐
ジ‐メチル‐2‐{β‐(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロ
キシ‐5‐メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチ
ル〕‐2,4,8,10‐テトラオキサスピロ〔5,5
〕ウンデカン、エチレングリコール‐ビス〔3,3‐ビ
ス(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート〕、1,1,3‐トリス(5‐t‐ブチル‐4‐ヒ
ドロキシ‐2‐メチルフェニル)ブタン、テトラキス〔
3‐(3′,5′‐ジ‐t‐ブチル‐4′‐ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシメチル〕メタン、等が挙
げられる。 【0041】前記ピペラジン誘導体および必要に応じて
併用される他の添加剤の使用量は、安定化すべき対象有
機化合物、および使用目的などによって決定される。一
般的には、対象有機化合物の重量に対して約0.001
〜約10重量%の範囲の量で使用されるが、ほとんどの
用途においては約0.01〜約5重量%の範囲で充分あ
る。たとえば、通常ポリオレフィンに対しては、0.0
1〜2.0重量%程度で充分である。 【0042】<化合物の有用性>本発明による新規ピペ
ラジン誘導体が各種有機化合物の酸化防止に有用である
ことは、〔発明の概要〕の<効果>の項において前記し
たところである。 【0043】 【実施例】下記の実施例および応用例は、本発明をさら
に具体的に説明するためのものである。 【0044】<実施例1>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}ピペラジン(化合物1)の製造〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕アクリレ
ート7.90g(0.02モル)を、塩化メチレン40
mlに溶解し、そこにピペラジン0.86g(0.01
モル)を塩化メチレン20mlに溶解した溶液を、室温
下、攪拌しながらゆっくりと加え、その後、1時間攪拌
下反応させた。反応終了後、希塩酸、水でそれぞれ3回
洗浄し、乾燥後、減圧下で溶媒を除去して、目的物(化
合物1)の無色粉末8.6gを得た。粗収率は、98%
であった。生成物は、アセトンで精製した。 融点 :196〜197℃ 赤外分光分析(KBr法) νC=O :1750c
m−1NMR(CDCl3 ,ppm ) :1.3〜1.4(m,36H)、2.1〜2.3(t
,12H)、 2.3〜2.4(s,4H)、2.5〜2.7(t,4
H)、 3.5〜4.0(t,8H)、5.3〜5.4(s,2
H)、 6.6〜7.1(s,8H) 【0045】<実施例2>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}ピペラジン(化合物2)の製造実施例
1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2
‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)
フェニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐ブチル
‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル
‐5‐エチルベンジル)フェニル〕アクリレート8.4
6g(0.02モル)を用いて、実施例1と同様に反応
および後処理を行い、目的物(化合物2)を粗収率95
%で得た。 【0046】<実施例3>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}‐2,5‐ジメチルピペラジン(化合
物3)の製造 実施例1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6
‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベン
ジル)フェニル〕アクリレートをトルエン40mlに溶
解し、ピペリジンの代わりに2,5‐ジメチルピペリジ
ン1.14g(0.01モル)を用い、それをエタノー
ル20mlに溶解した以外は、実施例1と同様に反応お
よび後処理を行い、目的物(化合物3)を粗収率97%
で得た。 【0047】<実施例4>N,N′‐ビス{〔2‐t‐
ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐
ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボ
ニルエチル}ピペラジン(化合物4)の製造実施例1に
おいて、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒ
ドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェ
ニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐ブチル‐4
‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐メチルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモアセテート
9.22g(0.02モル)を用い、塩化メチレン
の代わりにトルエンを用いて、実施例1と同様に反応お
よび後処理を行い、目的物(化合物4)を粗収率85%
で得た。 【0048】<実施例5>N,N′‐ビス{1‐メチル
‐2‐〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕オキシカルボニルエチル}ピペラジン(化合物5)
の製造 実施例1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6
‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベン
ジル)フェニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐
ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐
ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕クロトネート
8.44g(0.02モル)を用い、それをメタノ
ール40mlに溶解し、ピペリジンをエタノール20m
lに溶解した以外は、実施例1と同様に反応および後処
理を行い、目的物(化合物5)を粗収率68%で得た。 【0049】<応用例>135℃テトラリン中で測定し
た極限粘度が1.9でアイソタクチックなものが98%
のポリプロピレン粉末100重量部に表−1に示す各添
加剤を配合して、ミキサーで充分混合した。そして、シ
リンダー温度=260℃、L/D=20、および20m
m径の押出機によって溶融混練して造粒した。こうして
得られたペレットを、230℃で厚さ0.5mmのシー
トに圧縮成形して、試験片とした。 【0050】MFRは、JIS K7210に基づき
230℃で測定した。耐候性は、アトラス社製65/X
W−WR型キセノンウェザオメーターを用い、ブラック
パネル温度80℃で試験片に光照射し、試験片を180
度折り曲げたとき、試験片が脆化してクラックを発生す
るまでの所要時間を測定した。結果は、第1表に示す通
りであった。 【0051】なお、表中の略号は次の通りである。 (イ) 硫黄系酸化防止剤 DMTDP ジメリスチルチオジプロピオネート(ロ
) フェノール系酸化防止剤 F−1 テトラキス〔3‐(3,5‐ジ‐t
‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキ
シメチル〕メタン(商品名:Irganox 1010
)F−2 トリス(3,5‐ジ‐t‐ブチル
‐4‐ハイドロキシベンジル)イソシアヌレート(商品
名:MARK AO−20) F−3 3,9‐〔ビス1,1‐ジ‐メチル
‐2‐{β‐(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシ‐5‐
メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕‐2,
4,8,10‐テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン(商品名:MAR
K AO−80)(ハ) HALS系光安定剤 LS770 ビス(2,2,6,6‐テトラメチル‐
4‐ピペリジル)セバケート(商品名:Sanol L
S 770)【0052】
表−1
応 比 フェノール系
その他の添加剤 MFR
耐候性 用 較 酸化防止剤 例 例 (添加濃度 (添加濃
度 重量%)
重量%) (g/10分)
(時間) 1 −
−
9.3 40 2
F−1 (0.1)
− 3.2
180 3 F−2 (0.1)
−
4.6 300 4
F−3 (0.1)
− 2.5
220 1 化合物1(0.1)
− 2.
1 320 5 F−1
(0.1) DMTDP (0.2)
3.0 180
6 F−2 (0.1)
DMTDP (0.2) 3
.5 280 7 F−3
(0.1) DMTDP (0.2
) 2.3 28
0 2 化合物1(0.1) D
MTDP (0.2) 1.8
320 8 F−2 (0
.1) LS770 (0.2)
3.6 1200 3
化合物1(0.1) LS770
(0.2) 1.7
1600
【0053】 【発明の効果】本発明による新規ピペラジン誘導体は、
種々の有機物質に対して優れた酸化防止能を示し、特に
従来のピペラジン誘導体と異なって過酷な酸化条件下で
の酸化防止効果が大きいものであることは、「課題を解
決するための手段」の項においても前記したところであ
る。
ン誘導体に関する。本発明の化合物は、ポリオレフィン
樹脂をはじめとする各種有機化合物の酸化防止剤として
有用である。 【0002】 【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂類、潤滑
油、作動油等の有機物質は、酸化を受けて有用性を減じ
るので、種々の酸化防止剤が工夫され、有機物質中に添
加されている。 【0003】例えば、ヒンダードフェノール、有機硫黄
化合物、有機リン化合物、芳香族アミン等を単独である
いは複数の組合せで用いると効果があることが知られて
いる。 【0004】フェノール系の樹脂添加剤は、数々の化合
物が提案および実用化されている(高分子添加剤、改質
剤の評価と市場(シーエムシー発行、1984年)、1
4頁表14等)。また、特公昭39−21140号公報
では、アルキル置換フェノールのノボラック型二量体を
安定剤として含有するポリプロピレン組成物が開示され
ており、一方、特開昭62−30134号公報には、合
成樹脂用安定剤として、ヒドロキシフェニルアルキル基
をNの置換基にもつピペラジン誘導体が開示されている
。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
酸化防止剤は、本発明者らの知る限りでは、非常に過酷
な酸化条件下では必ずしも充分には有効ではない。本発
明は、過酷な酸化条件下での酸化防止効果が大きいピペ
ラジン誘導体を提供しようとするものである。 【0006】〔発明の概要〕 【課題を解決するための手段】<要 旨>本発明は、
特定のピペラジン誘導体を提供することによってこの目
的を達成しようとするものであり、そしてこの新規ピペ
ラジン誘導体は下記の一般式(I)で示されるものであ
る。 【0007】 【化2】 【0008】〔式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル
基を、R2 は炭素数1〜3のアルキレン基を、R3
は水素原子またはメチル基を、表す。〕 【0009】<効 果>本発明による新規ピペラジン
誘導体は、種々の有機物質に対して優れた酸化防止能を
示し、特に従来のピペラジン誘導体と異なって過酷な酸
化条件下での酸化防止効果が大きい。 【0010】〔発明の具体的説明〕 <化合物> 本発明による新規ピペラジン誘導体は、前記の一般式(
I)で示される化合物である。 【0011】本発明の化合物の一般式(I)において、
R1 は炭素数1〜4のアルキル基であり、具体的には
メチル基、エチル基、ブチル基、およびプロピル基が挙
げられる。R2 は炭素数1〜3のアルキレン基であり
、具体的にはメチレン基、エチレン基、およびブチレン
基である。R3 は、水素原子またはメチル基である。 R1 〜R3 はそれぞれ複数個存在するが、それらは
同一でも異なってもよい。 【0012】本発明の一般式(I)で示される新規ピペ
ラジン誘導体の具体例としては、下記の化合物が挙げら
れる。 化合物1:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t‐ブチル‐4
‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボニルエチル
}ピペラジン 【0013】 【化3】 【0014】化合物2:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t
‐ブチル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t
‐ブチル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕オキシカル
ボニルエチル}ピペラジン 【0015】 【化4】 【0016】化合物3:N,N′‐ビス{2‐〔2‐t
‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t
‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカル
ボニルエチル}‐2,5‐ジメチルピペラジン【001
7】 【化5】 【0018】化合物4:N,N′‐ビス{〔2‐t‐ブ
チル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブ
チル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボニ
ルメチル}ピペラジン 【0019】 【化6】 【0020】化合物5:N,N′‐ビス{1‐メチル‐
2‐〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロ
キシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル
〕オキシカルボニルエチル}ピペラジン【0021】 【化7】 【0022】本発明による新規ピペラジン誘導体は、ピ
ペラジンとしての塩基性を有するから、その酸付加塩が
存在する。 【0023】従って、本発明で「新規ピペラジン誘導体
」というときは(特許請求の範囲を解釈する場合を含む
)、その酸付加塩の形態に在るものを包含するものとす
る。その場合の酸としては、無機酸たとえばハロゲン化
水素酸、たとえば塩化水素酸、硫酸、リン酸、その他、
および有機酸たとえば低級アルカンモノないしジ酸、た
とえばギ酸、酢酸、シュウ酸、スルホン酸たとえばトル
エンスルホン酸、その他がある。 【0024】<化合物の製造>本発明のピペラジン誘導
体は、結合の形成および置換基の導入ないし形成に関し
て合目的的な任意の方法によって製造することができる
。 【0025】適当な製造方法の一つは、一般式(I)の
N−R2 結合をピペラジンまたは2,5‐ジメチルピ
ペラジン(R3 =CH3 )と、対応カルボキシレー
ト、すなわちアルコール部分が〔2‐t‐ブチル‐4‐
R1 ‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐
R1 ‐ベンジル)フェノールであるエステル、とを反
応させることからなるものである。 【0026】その場合の反応の一つは、カルボキシレー
トとしてエチレン性不飽和結合を持つものを使用して、
ピペラジン環中のNHとの付加反応によるものである。 N−R2 結合を形成させるカルボキシレートとの反応
の他の一つは、カルボキシレートとしてハロカルボン酸
のエステルを使用して、ピペラジン環中のNHとの脱ハ
ロゲン化水素反応によるものである。その場合には副成
ハロゲン化水素捕捉剤として塩基が存在することが望ま
しいが、格別の塩基を使用しなくても原料ピペラジン化
合物がハロゲン化水素捕捉剤として働く。 【0027】従って、具体的には、たとえば、各種アク
リレート、各種クロトネートまたはハロアセテートなど
のカルボン酸エステルと、ピペラジンまたは2,5‐ジ
メチルピペラジンとを、それぞれモル比で約2:1の割
合で、塩化メチレン、エタノール、トルエンなどを溶媒
とし、必要に応じてピリジン、トリメチルアミンのよう
な塩基を共存させ、室温〜100℃で反応させればよい
。 【0028】原料のカルボン酸エステルとしては、下記
のものを例示することができる。 (1) アクリレート、たとえば (イ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フ
ェニル〕=アクリレート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル
‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル
‐5‐エチルベンジル)フェニル〕=アクリレート、(
ハ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(
2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベ
ンジル)フェニル〕=アクリレート、(ニ) 〔2,
4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐
ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニル〕=アクリレート等
、【0029】(2) クロトネート、たとえば(イ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕=クロトネート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル‐4
‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐エチルベンジル)フェニル〕=クロトネート、(ハ)
〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベンジ
ル)フェニル〕=クロトネート、(ニ) 〔2,4‐
ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐ジ‐
t‐ブチルベンジル)フェニル〕=クロトネート等、【
0030】(3) メタクリレート、たとえば(イ)
〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロ
キシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル
〕=メタクリレート、(ロ) 〔2‐t‐ブチル‐4
‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐エチルベンジル)フェニル〕=メタクリレート、(ハ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロピル‐6‐(2
‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イソプロピルベン
ジル)フェニル〕=メタクリレート、(ニ) 〔2,
4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3,5‐
ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニル〕=メタクリレート
等、 【0031】(4) ハロアセテート、たとえば(イ
) 〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕‐2‐ブロモアセテート、(ロ) 〔2‐t‐ブ
チル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブ
チル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモア
セテート、(ハ) 〔2‐t‐ブチル‐4‐イソプロ
ピル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐イ
ソプロピルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモアセテー
ト、(ニ) 〔2,4‐ジ‐t‐ブチル‐6‐(2‐
ヒドロキシ‐3,5‐ジ‐t‐ブチルベンジル)フェニ
ル〕‐2‐ブロモアセテート等。 【0032】<化合物の使用>一般式(I)で表される
本発明による化合物は、種々の有機物質の酸化防止に有
効であるが、特に成形加工時および製品使用時に苛酷な
酸化条件にさらされることが多い合成高分子に対して有
用である。たとえば、低密度ポリエチレン、中密度ポリ
エチレン、リニア‐低密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン‐1等のポリα‐オレフィン、エチレン
‐プロピレンランダムまたはブロック共重合体、エチレ
ン‐ブテン‐1ランダム共重合体などのポリα‐オレフ
ィン共重合体、無水マレイン酸変性ポリプロピレンなど
のポリα‐オレフィンとビニルモノマーの共重合体およ
びこれらの混合物などの酸化防止にこのピペラジン誘導
体は有効であって、この中でもポリプロピレンに対して
特に有効である。 【0033】本発明による新規ピペラジン誘導体は、上
記以外の合成高分子にも使用可能であり、これらの合成
高分子としては、ポリ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポ
リスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AE
S樹脂などのスチレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリ
エチレンオキシド、ポリフェニレンエーテル、ポリスル
フォン、ポリウレタン、および不飽和ポリエステル樹脂
などが挙げられる。 【0034】天然有機化合物も本発明化合物によって安
定化される対象であって、具体的には、セルロース、ゴ
ム、蛋白質、あるいは酢酸セルロース等のそれらの誘導
体などの天然重合体や鉱油、動植物油、ロウなどをあげ
ることができる。 【0035】本発明の化合物は、単独で使用しても効果
はあるが、硫黄系酸化防止剤と併用することによって、
著しい相乗効果を得ることができる。 【0036】これらの硫黄系酸化防止剤としては、ジラ
ウリルチオジプロピオネート、ジメリスチルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネートなどの
ジアルキルチオジプロピオネート類およびテトラキス{
メチレン(ラウリルチオジプロピオネート)}メタン、
テトラキス{メチレン(ステアリルチオジプロピオネー
ト)}メタン等のアルキルチオジプロピオン酸と多価ア
ルコールとのエステルが挙げられる。 【0037】有機化合物の安定化に際しては、他の添加
剤、たとえば、紫外線吸収剤、光安定剤、燐系安定剤、
フェノール系酸化防止剤、金属不活性剤、金属石鹸類、
造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、顔料分散剤
および充填剤などを併用してもよい。 【0038】とりわけ、紫外線吸収剤およびヒンダード
アミン系光安定剤、たとえば、2‐ヒドロキシ‐4‐メ
トキシベンゾフェノン、2‐ヒドロキシ‐4‐n‐オク
トキシベンゾフェノン、2(2′‐ヒドロキシ‐5′‐
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2′‐ヒド
ロキシ‐3′‐t‐ブチル‐5′‐メチルフェニル)‐
5‐クロロ‐ベンゾトリアゾール、2(2‐ヒドロキシ
‐3′,5′‐ジ‐t‐ブチルフェニル)‐5‐クロロ
‐ベンゾトリアゾール、2(2′‐ヒドロキシ‐3′,
5′‐ジ‐アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、〔2
,2′‐チオビス(4‐t‐オクチルフェノラート)〕
ブチルアミンNi塩、2,2,6,6‐テトラメチル‐
4‐ピペリジニルベンゾエート、ビス(2,2,6,6
‐テトラメチル‐4‐ピペリジニル)セバケート、2‐
(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシベンジル)
‐2‐n‐ブチル‐マロン酸ビス(1,2,2,6,6
‐ペンタメチル‐4‐ピペリジル)、1‐〔2‐{3‐
(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ}エチル〕‐4‐〔3‐(3,5‐
ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン
、トリス(1,2,2,6,6‐ペンタメチル‐4‐ピ
ペリジル)ホスファイト、ポリ〔{6‐(1,1,3,
3,‐テトラメチルブチルイミノ)‐1,3,5‐トリ
アジン‐2,4‐ジイル}{(2,2,6,6‐テトラ
メチル‐4‐ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(
2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジル)イミ
ノ}〕、ポリ〔{6‐モノホリノ‐2,4‐ジイル}{
(2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジル)イ
ミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6‐テトラメチ
ル‐4‐ピペリジル)イミノ}〕などの併用は、対象有
機化合物の耐光性を改善するのに有用である。 【0039】また、燐系酸化防止剤を併用することによ
って、有機化合物の色相、耐熱老化性、および耐候性を
改善することができる。これら燐系酸化防止剤としては
、たとえば、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリス(2,4‐ジ‐t‐ブチルフェニル)
ホスファイト、トリス(2‐t‐ブチル‐4‐メチルフ
ェニル)ホスファイト、ビス(2,4‐ジ‐t‐ブチル
フェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テト
ラキス(2,4‐ジ‐t‐ブチルフェニル)‐4,4‐
ビフェニレンジホスファイトなどが挙げられる。 【0040】併用できる安定剤の他の具体例であるフェ
ノール系酸化防止剤としては、一般に水酸基のオルト位
の少なくとも片方がアルキル基、アラルキル基またはシ
クロアルキル基で置換されている1価ないし多価フェノ
ール化合物が挙げられる。この場合の置換基としては、
炭素数3〜10程度の物が好ましい。なお、ここで「ア
ルキル基」(アラルキル、シクロアルキル基中のそれを
含む)は不飽和であっても良いものとする。このフェノ
ール化合物は、上記の置換基の他に置換基を有していて
もよく、またフェノール核をアルキレン基などの連結基
で連結したビスフェノールなどの構造でもよい。このよ
うなフェノール系酸化防止剤の具体例としては、たとえ
ば、2,6‐ジ‐t‐ブチル‐p‐クレゾール、2,6
‐ジイソノルボニル‐p‐クレゾール、2,6‐ビス(
2‐フェニルイソプロピル)‐p‐クレゾール、n‐オ
クタデシル‐β‐(3,5‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒド
ロキシ‐フェニル)プロピオネート、2,2′‐メチレ
ンビス(4‐エチル‐6‐t‐ブチルフェノール)、2
,2′‐メチレンビス(4‐メチル‐6‐α‐メチルシ
クロヘキシルフェノール)、4,4′‐メチレンビス(
2,6‐ジ‐t‐ブチルフェノール)、4,4′‐ブチ
リデンビス(2‐t‐ブチル‐5‐メチルフェノール)
、4,4′‐ブチリデンビス(2‐t‐ブチル‐5‐メ
チルフェノール)、4,4′‐ブチリデンビス(2‐イ
ソプロピル‐5‐メチルフェノール)、トリス(4‐t
‐ブチル‐2,6‐ジ‐メチル‐3‐ヒドロキシルベン
ジル)イソシアヌレート、1,3,5‐トリス(3,5
‐ジ‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシベンジル)‐2,4
,6‐トリメチルベンゼン、3,9‐〔ビス‐1,1‐
ジ‐メチル‐2‐{β‐(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロ
キシ‐5‐メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチ
ル〕‐2,4,8,10‐テトラオキサスピロ〔5,5
〕ウンデカン、エチレングリコール‐ビス〔3,3‐ビ
ス(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート〕、1,1,3‐トリス(5‐t‐ブチル‐4‐ヒ
ドロキシ‐2‐メチルフェニル)ブタン、テトラキス〔
3‐(3′,5′‐ジ‐t‐ブチル‐4′‐ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシメチル〕メタン、等が挙
げられる。 【0041】前記ピペラジン誘導体および必要に応じて
併用される他の添加剤の使用量は、安定化すべき対象有
機化合物、および使用目的などによって決定される。一
般的には、対象有機化合物の重量に対して約0.001
〜約10重量%の範囲の量で使用されるが、ほとんどの
用途においては約0.01〜約5重量%の範囲で充分あ
る。たとえば、通常ポリオレフィンに対しては、0.0
1〜2.0重量%程度で充分である。 【0042】<化合物の有用性>本発明による新規ピペ
ラジン誘導体が各種有機化合物の酸化防止に有用である
ことは、〔発明の概要〕の<効果>の項において前記し
たところである。 【0043】 【実施例】下記の実施例および応用例は、本発明をさら
に具体的に説明するためのものである。 【0044】<実施例1>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}ピペラジン(化合物1)の製造〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕アクリレ
ート7.90g(0.02モル)を、塩化メチレン40
mlに溶解し、そこにピペラジン0.86g(0.01
モル)を塩化メチレン20mlに溶解した溶液を、室温
下、攪拌しながらゆっくりと加え、その後、1時間攪拌
下反応させた。反応終了後、希塩酸、水でそれぞれ3回
洗浄し、乾燥後、減圧下で溶媒を除去して、目的物(化
合物1)の無色粉末8.6gを得た。粗収率は、98%
であった。生成物は、アセトンで精製した。 融点 :196〜197℃ 赤外分光分析(KBr法) νC=O :1750c
m−1NMR(CDCl3 ,ppm ) :1.3〜1.4(m,36H)、2.1〜2.3(t
,12H)、 2.3〜2.4(s,4H)、2.5〜2.7(t,4
H)、 3.5〜4.0(t,8H)、5.3〜5.4(s,2
H)、 6.6〜7.1(s,8H) 【0045】<実施例2>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐エチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}ピペラジン(化合物2)の製造実施例
1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2
‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)
フェニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐ブチル
‐4‐エチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル
‐5‐エチルベンジル)フェニル〕アクリレート8.4
6g(0.02モル)を用いて、実施例1と同様に反応
および後処理を行い、目的物(化合物2)を粗収率95
%で得た。 【0046】<実施例3>N,N′‐ビス{2‐〔2‐
t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐
t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカ
ルボニルエチル}‐2,5‐ジメチルピペラジン(化合
物3)の製造 実施例1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6
‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベン
ジル)フェニル〕アクリレートをトルエン40mlに溶
解し、ピペリジンの代わりに2,5‐ジメチルピペリジ
ン1.14g(0.01モル)を用い、それをエタノー
ル20mlに溶解した以外は、実施例1と同様に反応お
よび後処理を行い、目的物(化合物3)を粗収率97%
で得た。 【0047】<実施例4>N,N′‐ビス{〔2‐t‐
ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐
ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕オキシカルボ
ニルエチル}ピペラジン(化合物4)の製造実施例1に
おいて、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒ
ドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェ
ニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐ブチル‐4
‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5
‐メチルベンジル)フェニル〕‐2‐ブロモアセテート
9.22g(0.02モル)を用い、塩化メチレン
の代わりにトルエンを用いて、実施例1と同様に反応お
よび後処理を行い、目的物(化合物4)を粗収率85%
で得た。 【0048】<実施例5>N,N′‐ビス{1‐メチル
‐2‐〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒド
ロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニ
ル〕オキシカルボニルエチル}ピペラジン(化合物5)
の製造 実施例1において、〔2‐t‐ブチル‐4‐メチル‐6
‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐ブチル‐5‐メチルベン
ジル)フェニル〕アクリレートの代わりに、〔2‐t‐
ブチル‐4‐メチル‐6‐(2‐ヒドロキシ‐3‐t‐
ブチル‐5‐メチルベンジル)フェニル〕クロトネート
8.44g(0.02モル)を用い、それをメタノ
ール40mlに溶解し、ピペリジンをエタノール20m
lに溶解した以外は、実施例1と同様に反応および後処
理を行い、目的物(化合物5)を粗収率68%で得た。 【0049】<応用例>135℃テトラリン中で測定し
た極限粘度が1.9でアイソタクチックなものが98%
のポリプロピレン粉末100重量部に表−1に示す各添
加剤を配合して、ミキサーで充分混合した。そして、シ
リンダー温度=260℃、L/D=20、および20m
m径の押出機によって溶融混練して造粒した。こうして
得られたペレットを、230℃で厚さ0.5mmのシー
トに圧縮成形して、試験片とした。 【0050】MFRは、JIS K7210に基づき
230℃で測定した。耐候性は、アトラス社製65/X
W−WR型キセノンウェザオメーターを用い、ブラック
パネル温度80℃で試験片に光照射し、試験片を180
度折り曲げたとき、試験片が脆化してクラックを発生す
るまでの所要時間を測定した。結果は、第1表に示す通
りであった。 【0051】なお、表中の略号は次の通りである。 (イ) 硫黄系酸化防止剤 DMTDP ジメリスチルチオジプロピオネート(ロ
) フェノール系酸化防止剤 F−1 テトラキス〔3‐(3,5‐ジ‐t
‐ブチル‐4‐ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキ
シメチル〕メタン(商品名:Irganox 1010
)F−2 トリス(3,5‐ジ‐t‐ブチル
‐4‐ハイドロキシベンジル)イソシアヌレート(商品
名:MARK AO−20) F−3 3,9‐〔ビス1,1‐ジ‐メチル
‐2‐{β‐(3‐t‐ブチル‐4‐ヒドロキシ‐5‐
メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕‐2,
4,8,10‐テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン(商品名:MAR
K AO−80)(ハ) HALS系光安定剤 LS770 ビス(2,2,6,6‐テトラメチル‐
4‐ピペリジル)セバケート(商品名:Sanol L
S 770)【0052】
表−1
応 比 フェノール系
その他の添加剤 MFR
耐候性 用 較 酸化防止剤 例 例 (添加濃度 (添加濃
度 重量%)
重量%) (g/10分)
(時間) 1 −
−
9.3 40 2
F−1 (0.1)
− 3.2
180 3 F−2 (0.1)
−
4.6 300 4
F−3 (0.1)
− 2.5
220 1 化合物1(0.1)
− 2.
1 320 5 F−1
(0.1) DMTDP (0.2)
3.0 180
6 F−2 (0.1)
DMTDP (0.2) 3
.5 280 7 F−3
(0.1) DMTDP (0.2
) 2.3 28
0 2 化合物1(0.1) D
MTDP (0.2) 1.8
320 8 F−2 (0
.1) LS770 (0.2)
3.6 1200 3
化合物1(0.1) LS770
(0.2) 1.7
1600
【0053】 【発明の効果】本発明による新規ピペラジン誘導体は、
種々の有機物質に対して優れた酸化防止能を示し、特に
従来のピペラジン誘導体と異なって過酷な酸化条件下で
の酸化防止効果が大きいものであることは、「課題を解
決するための手段」の項においても前記したところであ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】下記の一般式(I)で示される新規ピペラ
ジン誘導体。 【化1】 〔式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を、R2
は炭素数1〜3のアルキレン基を、R3 は水素原子ま
たはメチル基を、表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3071608A JPH04308581A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 新規ピペラジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3071608A JPH04308581A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 新規ピペラジン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04308581A true JPH04308581A (ja) | 1992-10-30 |
Family
ID=13465536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3071608A Pending JPH04308581A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | 新規ピペラジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04308581A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0716076A2 (de) | 1994-12-05 | 1996-06-12 | Ciba-Geigy Ag | Bisphenolesterderivate |
| US5616780A (en) * | 1995-02-08 | 1997-04-01 | Ciba-Geigy Corporation | Bisphenol ester derivatives |
-
1991
- 1991-04-04 JP JP3071608A patent/JPH04308581A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0716076A2 (de) | 1994-12-05 | 1996-06-12 | Ciba-Geigy Ag | Bisphenolesterderivate |
| EP0716076A3 (ja) * | 1994-12-05 | 1996-07-24 | Ciba Geigy Ag | |
| US5602196A (en) * | 1994-12-05 | 1997-02-11 | Ciba-Geigy Corporation | Bisphenol ester derivatives |
| US5616780A (en) * | 1995-02-08 | 1997-04-01 | Ciba-Geigy Corporation | Bisphenol ester derivatives |
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