JPH08503948A - ２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィットのアルファ、結晶変態 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、結晶変態、前記変態の製造方法および酸化、熱もしくは光に銹発される崩壊に対して有機材料を安定化するための前記変態の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 明細書２，２’，２’’−ニトリロ「トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テ トラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット ］のアルファ、結晶変態 本発明は新規な２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３ ’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイ ル）ホスフィット］のアルファ、結晶変態、前記変態の製造方法および酸化、熱 もしくは光に誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するための前記変態の使 用に関する。 ２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’− テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィッ ト］は次式Ｉ で表される化合物である。 式Ｉの化合物は、米国特許発明明細書第４３１８８４５号および同第４３７４ ２１９号において教示されているような有機材料のための加工安定剤として有用 である。式Ｉの化合物は１２１ないし１３４℃の融点を有する白色粉末であると 開示されている。粉末状の生成物は、それ自体、取扱いおよび見かけ密度の点で 欠点を有し、貧弱な流動性、メテラビリティー（meterabillty）、貯蔵安定性お よび加水分解安定性を示す。 式Ｉの化合物は、操作性、見かけ密度、流動性、メテラビリティー、貯蔵安定 性および加水分解安定性に関して良好な特性を示す純粋な結晶粒子として異なる 結晶変態の形態において得られることが今見いだされた。 新規変態は、１４５ないし１６５℃の範囲で溶融し、示差走査熱量測定（ＤＳ Ｃ）により記録された吸熱のピーク温度；および以下の表１において与えられる 相対強度の回析角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋαを使用して得られたＸ線回折図を与 えるところの単斜晶系結晶体により特徴づけられる。 Ｘ線回折図は、５．２において非常に強い強度の回析角（２Θ）の回折線；１ ０．７、１６．６および１７．４において強い強度の回折線；５．８、８．０、 ８．９、１０．０、１０．１、１０．７、１５．７、１６．２および１８．２に おいて中位の強度の回折線；６．３、６．５、７．２、１１．６、１２．７、１ ３．６、１４．２、１４．９、１７．０、１８．７および１９．６において弱い 強度の回折線を示しており、また３つのジベンゾ［ｄ，ｆ］−［１．３．２］− ジオキサホスフェピン環のＲ^*、Ｒ^*、Ｒ^*という絶対立体配置を示している。 Ｒ^*は分子の絶対配置が未知であるときの、慣用法に従うものである。ここで 適用された命名法は、L.C.Cross and W.Kylne，Pure Appl.Chem.45，11-30（197 6）に 記載された最近のChemical Abstracts Service practiceに基づいた。 本発明はまた、芳香族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノー ルの混合物より；エタノール溶媒より；エステル溶媒より；もしくはハロゲン化 脂肪族炭化氷素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結 晶化もしくは再結晶させることよりなるところの２，２’，２’’−ニトリロ［ トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’ −ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィツト］のアルファ、単斜晶系結晶体 の製造方法にも関する。 本発明の製造方法において有用である芳香族炭化水素溶媒の例は、ベンゼン、 トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２，３−トリメチ ルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼ ン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、クメン、ｏ−シ メン、ｍ−シメン、ｐ−シメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼン、ｍ−ジイソプロ ピルベンゼン、ｐ−ジイソプロピルベンゼン、および該芳香族炭化水素溶媒の混 合物である。 炭素原子数１ないし３の低級アルカノールの例は、メタノール、エタノール、 １−プロパノール、イソプロパノールおよび該低級アルカノールの混合物である 。 エステル溶媒の例は、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸 メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチルおよび酢酸アミル等であ る。 エーテル溶媒の例は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル第 三−ブチルエーテル等である。 脂肪族ハロゲン化炭化水素の例は、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジ クロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等である。 好ましい新規アルファ結晶変態を製造する方法は、芳香族炭化水素溶媒および 炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物からの式Ｉの化合物を結晶化もし くは再結晶させることである。 好ましい新規アルファ単斜晶系変態を製造する方法は、ベンゼン、トルエン、 ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２，３−トリメチルベンゼン 、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，２ ，４，５−テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、クメン、ｏ−シメン、ｍ− シメン、ｐ−シメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼンもしくはｍ−ジイソプロピル ベンゼンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より；蟻酸メチル 、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチルもし くは酢酸アミルより；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルもしくはメチ ル第三−ブチルエーテルより；もしくは塩化メチレン、クロロホルム、１，２− ジクロロエタンもしくは１，１，２，２−テト ラクロロエタンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結晶化 もしくは再結晶させることよりなるところの製造方法である。 特に好ましい新規アルファ単斜晶系変態を製造する方法は、ベンゼン、トルエ ン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２，３−トリメチルベン ゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１ ，２，４，５−テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、クメン、ｏ−シメン、 ｍ−シメン、ｐ−シメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼンもしくはｍ−ジイソプロ ピルベンゼンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結晶化も しくは再結晶させることよりなるところの製造方法である。 また興味のあるものは、トルエンおよびメタノール；キシレンおよびメタノー ル；トルエンおよびイソプロパノール；もしくはキシレンおよびイソプロパノー ルの各混合物より結晶化もしくは再結晶させることよりなるところの製造方法で ある。 特に興味のあるものは、酢酸エチルもしくはジエチルエーテルよりもしくはイ ソプロパノールおよびジクロロメタンの混合物より結晶化もしくは再結晶させる ことよりなるところの製造方法である。 好ましい製造方法の態様には、単離された結晶質の塊は真空下高められた温度 において乾燥されるところの製造方法が含まれる。 本発明はまた、芳香族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノー ルの混合物より；エタノール溶媒より；エステル溶媒より；もしくはハロゲン化 脂肪族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結 晶化もしくは再結晶させることより得られる、１４５ないし１６５℃の範囲内の 融点および５．２における非常に強い強度の回折線；１０．７、１６．６および １７．４において強い強度の回折線；１０．７、１６．６および１７．４におい て強い強度の回折線；５．８、８．０、８．９、１０．０、１０．１、１０．７ 、１５．７、１６．２および１８．２において中位の強度の回折線；６．３、６ ．５、７．２、１１．６、１２．７、１３．６、１４．２、１４．９、１７．０ 、１８．７および１９．６において弱い強度の回折線を示すＸ線回折図、および ３つのジベンゾ［ｄ，ｆ］−［１．３．２］−ジオキサホスフェピン環のＲ^*、 Ｒ^*、Ｒ^*という相対配置に特徴づけられるところの２，２’，２’’−ニトリロ ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１ ’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶 体に関する。 本発明の式Ｉのアルファ、単斜晶系結晶体は、酸化、熱もしくは光により誘発 される崩壊に対して有機材料を安定化するのに非常に適している。 安定化され得る有機材料の例は以下のようなものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポ リイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポ リイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペ ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチ レン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ ＢＬＤＰＥ）。 ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリ マー、好ましくはボリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以下の 方法により製造できる： ａ）（通常、高圧かつ高められた温度においての）ラジカル重合 ｂ）通常１個または１個より多くの周期表のIVb、Ｖｂ、VIbまたはVIII族の金 属を含む触媒を使用する接触重合。これらの金属は通常、１個または１個より多 い配位子、典型的にはπ−配位またはσ−配位することができる、酸化物、ハロ ゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル および／またはアリールを有する。これら金属錯体は遊離形態にあるか支持体上 に典型的にば、活性化塩化マグネシウ ム、塩化チタン（III）、アルミナまたは酸化珪素上に固定されていてよい。こ れらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体だけで 重合において使用でき、または、別の活性剤、典型的には金属アルキル、金属水 素化物、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキ サンを使用することができ、前記金属は周期表のIa、IIaおよび／またはIIIa族 の元素である。活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくは シリルエーテル基により変性され得る。 これら触媒系は通常フィリップス（Phillips）、スタンダードオイルインディア ナ（Standard Oil Indiana）、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-（Natta）］、 ＴＮＺ［デュポン社（Dupont）］、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳ Ｃ）と称されるものである。 ２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブ チレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／Ｈ ＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば 、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンおよびジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコ ポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ボリエチレン（ ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレ ン／ブテ−１−エンコポリマー、プロ ピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチ レン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエン コポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリ レートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコボリマー、エチレン／ ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマー またはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）お よびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン またはエチリデンーノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記 コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリ プロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニル アセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コ ポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互 ポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混 合物、例えばポリアミド。 ４．それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデン プンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。 ５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、 ポリ−（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体と のコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、ス チレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレー ト、スチレン／ブタシエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン 酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと 他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはユチレン／プロ ピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およびスチレンのブロッ クコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン ／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレ ン／プロピレン／スチレン。 ７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブ タジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリ ロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロ ニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水 マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン 酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミ ド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレー ト、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニト リル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニ トリル、アクリレート／ブタシエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、Ｍ ＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化も しくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリ マー、ユピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化 合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化 ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化 ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸 ビニルコポリマー。 ９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポ リアクリレートおよびポリメククリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改 良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル 。 10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和 モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、ア クリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコ キシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマ ー、又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー 。 11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれら のアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸 ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエ ート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン ；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。 12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレング リコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビス グリシジルエーテルとのコポリマー。 13．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコ モノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート またはＭＢＳで変性させたポリアセタール。 14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキ シドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。 15．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルま たはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネート とから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。 16．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当 するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド ４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリアミド６／９ 、ポリアミド６／１２、ポリアミド４／６およびポリアミド１２／１２、ポリア ミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およびアジピン酸の縮合に よって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸 および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから 製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン ）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フュニレンイソフタルアミド；さらに、前 記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたば化 学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのコポリマー；またはこれらとポ リエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたは ポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳ で変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド （ＲＩＭ−ポリアミド系）。 17．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよびポリベンズイミダゾー ル。 18．ジカルボン酸およびジオールから、および／またはヒドロキシカルボン酸 または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールーシク ロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル− エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエス テル。 19．ポリカーボネートおよびポリエステルーカーボネート。 20．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。 21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンか ら誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。 22．乾性もしくは非乾性アルキド樹脂。 23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニ ル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼 性の低いそれらのハロゲン含有変成物。 24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリ レートまたはポリエステルーアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋 させたアルキド樹脂、ボリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。 26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルから、または環状脂肪族 ジエボキシドから誘導された架橋エポキシ樹脂。 27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学 変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪 酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびに ロジンおよびそれらの誘導体。 28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ アミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／Ｍ ＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性Ｐ ＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／Ｐ Ａ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。 29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機 材料、例えば鉱油、動物または 植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジ ペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワ ックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または紡糸製剤油として用いられて いるいかなる重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の 水性エマルジョン。 30．天然または合成ゴムの水性エマルジヨン、例えば天然ラテックス、または カルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。 従って、本発明はまた光、熱もしくは酸化により誘発された崩壊を受けやすい 材料および２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５ ，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホ スフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体よりなる組成物に関する。 好ましくは、保護されるべき有機材料は、天然、反合成もしくは、好ましくは 合成有機材料である。熱可塑性プラスチック、特にＰＶＣもしくはポリオレフィ ン、特にポリエチレンおよびポリプロピレンが特に好ましくは与えられる。 特に、例えば熱可塑性プラスチックの加工中に生じるような熱応力下の、熱お よび酸化的崩壊に対する本発明の化合物の作用は特に注目すべきである。従って 、本発町の化合物は加工安定剤としての使用に非常に適してい る。 好ましくは、本発明の２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（ ３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’ −ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体は、安定化される有機材 料の重量に関して、０．０１ないし１０重量％、例えば０．０１ないし５重量％ 、好ましくは０．０５ないし３重量％、特に０．０５ないし１重量％の量で安定 化される有機材料に添加される。 本発明の組成物は、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３ ，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’− ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体に加えて、他の補助安定剤 、例えば以下のものを含有する。１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフュノール、 ２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 ２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、 ２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ チル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′− メチル−ヘプタデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１ ′−メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール、 例えば ２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オ クチルチオメチル−６−メチルフュノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル− ６−エチルフェノールおよび２，６−ジ−ドデシルチオメチル −４−ノニルフェノール。１．３．ハイドロキノンとアルキル化ハイドロキノン、 例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 ２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、 ２，５−ジ−第三−アミルーハイドロキノン、 ２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブ チル−ハイドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、 ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル −４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシフェニル）アジペート。１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、 例えば ２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チ オビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３ −メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフュ ノール）、４，４′−チオービス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４ ，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。１．５．アルキリデンビスフェノール 、例えば ２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチ ルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェ ノール）、２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘ キシル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘ キシルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェ ノール）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフュノール）、 ２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′ −エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′ −メチレン−ビス［６−（ａ−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２ ，２’−メチレン−ビス［６−（ａ，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ ノール］、４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１ −ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２， ６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチ ルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ チルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２− メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビ ス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート ］、ビス（３− 第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビ ス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６ −第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５− ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三 ブチル−４−ヒドロキシフュニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ ェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ ルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、および１，１，５，５−テ トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。１．６．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、 例えば ３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジル エーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカ プトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル ）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ ル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ一第三ブチル−４−ヒドロキシ ベンジル）−スルフィドおよびイソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンジル−メルカプトアセテート。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えば ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチ ル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第 三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシル メルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ ンジル）−マロネート、およびビス−［４−（１．１，３，３−テトラメチルブ チル）−フエニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ ベンジル）−マロネート。１．８．ヒドロキシベンジル芳香族化合物、 例えば １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２ ，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼンおよび２，４， ６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール 。１．９．トリアジン化合物、 例えば、 ２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド ロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６ −ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−ト リアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル− ４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフュノキシ）− １，２，３−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イ ソシアヌレート、 １，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン ジル）−イソシアヌレ−ト、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル ）−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピ オニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）− イソシアヌレート。１．１０．ベンジルホスホネート、 例えば、 ２，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸＝ジメチル、３ ，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸＝ジエチル、３， ５−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン酸＝ジオクタ デシル、５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン 酸ジオクタデシル、３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ ン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。１．１１． アシルアミノフェノール 、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチ ルエステル。１． １２． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ ロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１． １３． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル ）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メクノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリユ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノー ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ チル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン 。１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル） プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１． １５． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記 の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリト ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロ キシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカ ノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキ シメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オク タン。１． １６． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ ピオン酸のアミド 、 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ ピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル −４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビ ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ ン。２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２． １ ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、例えば、 ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（ ３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、 ２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２ −（２’−ヒドロキシ−５’（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル ）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシ フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’− ヒドロキシ−５’−メチルフュニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（ ３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ アゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２ −（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ ール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキ シフェニル）ベンゾトリアゾール； −（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカ ルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第 三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２ ’−ヒドロキシフェニル）−５−クロ ロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（ ２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド ロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾ ール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３ −ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、 および ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシ カルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン −ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾー ル−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカ ルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチ レングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ（Ｃ Ｈ₂）₃−］₂−（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ −ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニルである。）。２．２．２−ヒドロキシーベンゾフェノン 、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、 ４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキ シ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル 、例えば ４−第三ブチルフェニル＝サリチート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェ ニル＝サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベン ゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、 ２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ ンゾエ−ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ ート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、 ２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンゾエート。２．４． アクリレート 、例えば エチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、イソオクチルα−シア ノーβ，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシ−シンナメ ート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα −シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキ シ−ｐ− メトキシシンナメート、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。２．５． ニッケル化合物 ，例えば ２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノ ール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ −ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタ ノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメ ート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキ ルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例え ば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯 体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体 であって，所望により他の配位子を伴うもの。２．６．立体障害性アミン 、例えば ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２， ６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６− ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ ルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル マロネート、１−（２−ヒドロキシユチル）−２，２，６，６− テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’ −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア ミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジ ンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ ペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１′−（１ ，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、 ４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン、４−ステアリルオ キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６− ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５− ジ−第三ブチルーベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９− テトラメチル−１，３．８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン 、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバ ケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル ）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ ジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３ ，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルア ミノ−２，２，６，６ −テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア ミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−シ（４−ｎ− ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５− トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物 、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８− トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２， ２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３ −ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピ ロリシン−２，５−ジオン。２． ７． オキサミド 、例えば ４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、 ２，２’−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’− ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２′− エトキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２ −エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ −およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エト キシ−二置換オキサニリドの混合物。２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン 、例えば ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３ ，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４ ，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２ ，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシ フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２ −（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチ ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル オキシフュニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５− トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ ープロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３− オクチルオキシープロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチ ルフェニル）−１，３，５−トリアジン。３． 金属不活性化剤 ，例えば Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイル ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（ サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２ ，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリ ド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ， Ｎ’−ジアセタール−アジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル −シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジ ヒドラジド。４． ホスフィットおよびホスホナイト 、例えば トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアル キルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトール ジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジ イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチ ルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三 ブチル−４−メチルフュニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス− イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ− 第三ブチル−６−メチルフエニル）−ペンタエリトリトールジホスフィットビス （２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジ ホスフィット、トリステアリルソ ルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル） ４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８ ，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオ キサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２ −メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２， ４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４ −ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。５． 過酸化物スカベンジャー 、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル またはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカ プトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタ デシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプ ト）プロピオネート。６． ポリアミド安定剤 、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。７． 塩基性補助安定剤 、例えば メラミン、ボリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート 、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂 肪酸の アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステア リン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およ びパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。８． 核剤 、例えば ４−第三ブチル安息香「アジピン酸、ジフェニル酢酸。９． 充填剤および強化剤 、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母 、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト 。１０．その他の添加剤 、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。１１．ベンゾフラノンまたはインドリノン 、例えば 米国特許発明明細書４３２５８６３号、同第４３３８２４４号または同第５１ ７５３１２号に記載されているものまたは３−［４−（２−アセトキシエトキシ ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ −第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン ゾフラノ−２−オン、３．３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［ ２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ− 第三ブチル−３−（ ４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３， ５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、 ３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三 ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。 項１１において記載されたベンゾフラノンを除いた、補助安定剤は例えば安定 化されるべき材料の全重量に対して、０．０１ないし１０％の濃度において添加 される。 他の好ましい組成物は、成分（ａ）および（ｂ）他の安定剤の他に、特にフェ ノール性抗酸仕剤、光安定剤もしくは加工安定剤を含む。 特に好ましい添加剤は、フェノール性抗酸化剤（表の項１）、立体障害アミン （表の項２．６）、ホスフィットおよびホスホナイト（表の項４）および過酸化 物分解化合物（表の項５）である。 また特に好ましい付加的な添加剤（安定剤）は、ベンゾフラン−２−オン、例 えば米国特許発明明細書第４３２５８６３号、同第４３３８２４４号もしくは同 第５１７５３１２号において記載されている。 ベンゾフラン−２−オンの例は次式 ［式中、Ｒ₁₁はフェニル基もしくは一緒になって多くとも１８個の炭素原子を有 する１ないし３個のアルキル基、１ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシ 基、２ないし１８個の炭素原子もしくは塩素原子を有するアルコキシカルボニル 基により置換されたフェニル基を表し； Ｒ₁₂は木素原子を表し； Ｒ₁₄は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基もしくは塩素原子を表し； Ｒ₁₃はＲ₁₂もしくはＲ₁₄の意味を有するかもしくは次式 で表される基を表し； Ｒ₁₆は水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、酸素原子もし くは硫黄原子により中断された２ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、 全部で３ないし１６個の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル基、シクロ ペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基もしくは一緒になって最多１８個の 炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換されたフェニル基を表し ； ｎは０、１もしくは２を表し； 置換基Ｒ₁₇は互いに独立して水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアル キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、一緒になって最高 １６個の炭素原子を有する１もしくは２個のアルキル基により置換されたフュニ ル基、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＨ、−Ｃ₂Ｈ₄−Ｏ−Ｃ_mＨ_2m+1もしくは次式 で表される基またはそれらが結合する窒素原子と一緒になってピペリジンもしく はモルホリン基を形成し； ｍは１ないし１８を表し； Ｒ₂₀は水素原子、１ないし２２個の炭素原子を有するアルキル基もしくは５ない し１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表し； Ａは窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子により中断された２ないし２２個の炭 素原子を有するアルキレン基を表し； Ｒ₁₈は木素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基、フェニル基、一緒になって多くとも１６個の炭素原子 を有する１もしくは２個のアルキル基により置換されたフェニル基、もしくはベ ンジル基を表し； Ｒ₁₉は１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基を表し； Ｄは−０−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−もしくは−Ｃ（Ｒ₂₁）₂−を表し； 置換基Ｒ₂₁は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし１６のアルキル基 を表すかまたは２個のＲ₂₁が一緒になって１ないし１６個の炭素原子を含有し、 Ｒ₂₁はさらにフェニル基もしくは次式 （式中、ｎ、Ｒ₁₆およびＲ₁₇は前記の意味を表す。）で表される基を表し、 Ｅは次式 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂およびＲ₁₄は前記の意味を表す。）で表される基を表し；お よび Ｒ₁₅は水素原子、１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基、塩素原子もしくは次式 （式中、Ｒ₁₆およびＲ₁₇は前記の意味を表す。）で表される基を表し、もしくば Ｒ₁₅はＲ₁₄と一緒になってテトラメチレン基を形成する。］で表される化合物で ある。 好ましいものは、Ｒ₁₃は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキ ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原子もしくは次式 もしくは−Ｄ−Ｅ（式中、ｎ、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｄおよび Ｅは前記の意味を表す。）で表される基を表し、Ｒ₁₆は特に水素原子、１ないし １８個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシ ル基を表すところのベンゾフラン−２−オンにより与えられる。 Ｒ₁₁はフェニル基もしくは一緒になって多くとも１２個の炭素原子を有する１ もしくは２個のアルキル基により置換されたフェニル基を表し；Ｒ₁₂は水素原子 を表し； Ｒ₁₄は水素原子もしくは１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基を表し； Ｒ₁₃は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、次式 もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₅は水素原子もしくは１ないし２０個の炭素原子を 有するアルキル基、次式 を表し、もしくはＲ₁₅はＲ₁₄と一緒になってテトラメチレン基を表し、ｎ、Ｒ₁₆ 、Ｒ₁₇、ＤおよびＥは前記の意味を表すところのベンゾフラン−２−オンが好ま しく は与えられる。 Ｒ₁₁はフェニル基を表し；Ｒ₁₃は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有す るアルキル基もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₂およびＲ₁₄は互いに独立して、水素 原子もしくは１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基を表し；およびＲ₁₅は １ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基を表し；ＤおよびＥは前記の意味 を表すところのベンゾフラン−２−オンが特に輿味がある。 最終的に、Ｒ₁₁はフェニル基を表し；Ｒ₁₃は１ないし４個の炭素原子を有する アルキル基もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₂およびＲ₁₄は水素原子を表し；および Ｒ₁₅は１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチル基もしくは シクロヘキシル基を表し；Ｄは−Ｃ（Ｒ₂₁）₂−で表される基を表し、およびＥ は次式 で表される基を表し、置換基Ｒ₂₁は互いに同一もしくは異なりかつ各々１ないし ４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、およびＲ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄およびＲ₁₅ は前記の意味を表すところのベンゾフラン−２−オンがまた特に興味がある。 付加的な添加剤、特に安定剤、例えば前記のベンゾフラン−２−オンの量は、 幅広く変化し得る。例えば、その０．０００５ないし１０、好ましくは０．００ １ないし５、特に０．０１ないし２重量％が本発明の組成物中に存在する。 ２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル一トリス−（３，３’，５，５’− テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィッ ト］のアルファ、単斜晶系結晶体および所望により、他の添加剤の有機ポリマー 化合物への混和は、例えば成形前もしくは成形中に知られている方法により行わ れるかまたは溶解もしくは分散した化合物をポリマー有機材料に塗布し、適当に は続いて溶媒をゆっくりと蒸発することにより行われ得る。本発明からのアルフ ァ、単結晶体はまたそれらを例えば２．５ないし２５重量％含有するマスターバ ッチの形態において、安定化されるべき材料にもまた添加され得る。 本発明のアルファ、単斜晶系結晶変態はポリマー材料の重合または架橋の前、 最中もしくは後に添加できる。 本発明のアルファ、単斜晶系結晶変態は純粋な形態またはワックス、油もしく はポリマー封入の形態で安定化されるべき材料中に混和できる。 本発明のアルファ、単斜晶系結晶変態はまた安定化されるべきポリマーに噴霧 され得る。それらは他の添加剤（例えば、上記の慣用の添加剤）もしくは溶融体 を希釈 し得るので、結果として安定化されるべきポリマー上にこれらの添加剤と共に噴 霧され得る。重合触媒の失活中においで噴霧により添加することが特に有利であ り、例えば失活のために使用された蒸気を噴霧に使用することも可能である。 ビーズ重合化ポリオレフィンの場合において、本発明のアルファ、単斜晶系変 態と、所望により他の添加剤を一緒に噴霧により塗布することが都合良い。従っ て安定化された材料は広範囲の形態において、例えばフィルムとして、繊維とし て、テープとして、成形品組成物、形材もしくはペイント、接着剤もしくはセメ ントの結合剤として使用される。 すでに前記したように、保護されるべき有機材料は好ましくは有機、特に合成 ポリマーである。これらの中で、保護される材料は特に都合良くは熱硬化性材料 、特にポリオレフィンである。加工安定剤（熱安定剤）としての２，２’，２’ ’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブ チル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、 単斜晶系結晶体の良好な効果は特に注目されるべきである。このために、その加 工前もしくは最中にポリマーに添加することが都合良い。しかしながら他のポリ マー（例えば、エラストマー）もしくは滑剤もしくは作動液を崩壊、例えば光に 誘発されるかもしくは熱−酸化崩壊に対して安定化することも可能である。エラ ストマーのために、上記の可能な有機材料を参照されたい。 適当な滑剤および作動液ば、例えば鉱油もしくは合成油もしくはそれらの混合 物をベースとしている。滑剤は当業者に公知でありそして関連する技術文献、例 えばDleter klamann，”Schmierstoffe und verwandte Produke”（Verlag Chem le，Weinheim 1982）、Schewe-Kobek，”Das Schmier-mittel-Taschenbuch”（D r．Alfred Huthig-Verlag，Heidelberg，1974）および”Ulmanns Fnzyklopapdie der technischen Chemie”vol．13．pages 85-94（Verlag Chemie，Weinheim， 1977）中において記載されている。 従って、本発明の好ましい態様は２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル− トリス−（３，３’，５， ５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニ ル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体の酸化、熱 もしくは光により誘発される崩壊に対する有機材料の安定化のための使用である 。 本発明のアルファ、単斜晶系結晶休は、好ましくは熱可塑性プラスチックポリ マーの加工安定剤（熱安定剤）として使用される。 本発明はまた、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３ ’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイ ル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体を有機材料に 混和するかもしくは塗布するすることよりなる酸化、熱もしくは光により誘発さ れる崩壊に対して有機材料を安定化する方法を提供する。 示差走査熱量測定（ＤＳＣ）の測定値は、TA Instrument Inc.，910示差走査 熱量計において、１００ｍｌ／分で窒素パージし、アルミニウム皿をとりつけ、 ５℃／分で２３０℃まで温度走査することにより得られた。 Ｘ線回折図は、Ｃｕ−Ｋα照射、ニッケルフィルターを使用するPhilips Nore lco X - 線回折計装置上で記録した。 以下の実施例は本発明をさらに説明する。与えられる部および百分率は重量当 たりを示す。実施例１ ： 式Ｉの化合物、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル） ホスフィット］は、米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の手順に従って 製造された。得られた生成物は以下の溶媒系より再結晶されて、本発明の新規ア ルファ、結晶変態を得た。結果は表２にまとめられる。 ａ）融点は示差走査熱量測定により測定しそして吸熱のピーク温度を融点として 記録した。 Ｘ線分析に適する結晶を酢酸エチル中で成長させた。横造決定のために、厚い ６角形のプレートを選択しそして粉砕して、最も大きい寸法が１ｍｍに満たない ものとなるように小さくした。強度（intensity）データを以下の表３に示され るようにシーメンズＲ３ＭＶフォーサー クル回析計（Siemens R3MV four circlediffractometer）にて測定した。構造は シーメンズSHELXTL PLUS（VMS）を使用して直接法により解析した。フルマトリ ックス最小二乗改良法（Full-matrix least-square refinements）を実施した。 相対的絶対立体配置（relative absolute configuration）はＲ^*、Ｒ^*、Ｒ^*であ ると決定した。 実施例２：流動性特性 この実施例は、米国特許発明明細書第４３１８８４５号の実施例４の手順に従 って製造された式Ｉの化合物の流動特性と比較した、実施例１において製造され た新規な式Ｉの化合物のアルファ結晶変態の優れた流動性特性を示している。 静止（repose）の角度はG．Gold et al．in J．Pharm．Sci.，55，1291（1966 ）に報告されている操作に従って測定された。静止の角度が小さいほど優れた流 動性ソリッド製品であることを示す。結果は表４においてまとめられる。 実施例３：２７４℃におけるポリプロピレンの安定化方法 ベース配合物は、ステアリン酸カルシウム０．０７５重量％を含有する、安定 化されていない、高収量／高選択性の触媒化されたポリプロピレン（Himontによ り製造された商標名PROFAX 6501，Batch No．BD 07155）よりなる。試験添加物 はポリプロピレンにドライブレンドするか、もしくは添加剤が液体である場合に 、少量の塩化メチレン溶媒を使用して混和される。溶媒はその後減圧下蒸発によ り取り除かれる。安定化された樹脂配合物は９０ｒｐｍにて２７４℃の２．５４ ｃｍ直径の押出し機より９０秒間の残留時間で以て押し出した。各一回目、三回 目および五回目の押出しの後に、押出し機より得られたペレットについてのメル トフローインデックス（ｇ／１０分）をＡＳＴＭ法Ｄ１２３８に従って測定した 。メルトフローインデックスはポリマーの分子量の尺 度でありまた熱崩壊が押出しによる溶融加工中において生じているか否かを示す ものである。メルトフローインデックスの最小変化が有利でありまた良好な溶融 加工安定性を示す。メルトフローインデックスの実質的な増加は著しい鎖の崩壊 、即ち、貧弱な安定化を示す。結果は以下の表３において示される。 ＡＯ Ａはネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ−第三−ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート）を表す。実施例４ ： 本発明（化合物Ａ）の式Ｉの化合物のアルファ、単斜晶系結晶体と米国特許発明 明細書第４３１８８４５号の実施例４の操作に従って製造された化合物（化合物 Ｂ）とのＸ線回折データの比較 ２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル一トリス−（３，３’，５，５’− テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット ］のアルファ、単斜晶系結晶体は、本発明の実施例１に従って製造された。生成 物は酢酸エチルより再結晶された（化合物Ａ）。最新枝術による式Ｉの変態は、 米国特許発明明細書第４３１８８４５号の実施例４の操作に従って製造され、そ してアセトニトリルおよびトルエンの混合物より再結晶された（化合物Ｂ）。結 果は表６にまとめられる。 行われたＸ線分析のための操作は本発明の実施例において提供されたものと同一 である。データの比鮫より本発明のアルファ、結晶体（化合物Ａ）と最新技術に よる化合物（化合物Ｂ）との間の構造の違いを容易に示す。 化合物Ｂの単位セルは捕捉されたトルエンの分子を含有している。このことは 米国特許発明明細書第４３１８８４５号の発明者により認識されていないかもし くはかれらが注目し損なったものである。対照的に、本発明の化合物Ａの結晶セ ルは請求の範囲に記載されている再結晶溶媒系のいずれの溶媒の分子をも含有し ていない。 上記の事実は明確に、アルファ結晶体（化合物Ａ）と 従来技術の材料（化合物Ｂ）との間の、融点における大きな違いとなって現れて いる。さらに、この事実は、セル寸法、体積および密度間の違いを比較すること によってもわかる。特に、大きな違いはアルファ、単斜晶系体の体積（９６７４ ．５ų）と従来技術材料の体積（９９６６ų）を比較することによりわかり得 る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＺ，ＦＩ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，Ｌ Ｖ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＫ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 オドリスト ポール エー. アメリカ合衆国，07605ニュージャージー 州 レオニア ムーア アベニュー 319

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．１４５ないし１６５℃の範囲内の融点および５．２において非常に強い強度 の回折線；１０．７、１６．６および１７．４において強い強度の回折線；５． ８、８．０、８．９、１０．０、１０．１、１０．７、１５．７、１６．２およ び１８．２において中位の強度の回折線；６．３、６．５、７．２、１１．６、 １２．７、１３．６、１４．２、１４．９、１７．０、１８．７および１９．６ において弱い強度の回折線を示すＸ線回析図、および３つのジベンゾ［ｄ，ｆ］ −［１．３．２］−ジオキサホスフェピン環のＲ^*、Ｒ^*、Ｒ^*という相対配置に 特徴づけられるところの２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（ ３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’ −ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体。 ２．化合物２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５ ，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホ スフィット］を芳香族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノール の混合物より；エーテル溶媒より；エステル溶媒より；もしくはハロゲン化脂肪 族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結晶化 もしくは再結晶させることよりなる、前記化合物のアルファ、単斜晶系結晶体の 製造方法。 ３．芳香族炭化水素溶媒および炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物よ り結晶化もしくは再結晶させるところの請求項２記載の製造方法。 ４．ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２ ，３−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４−ト リメチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、 クメン、ｏ−シメン、ｍ−シメン、ｐ−シメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼンも しくはｍ−ジイソプロピルベンゼンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノール の混合物より；蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブ チル、酢酸イソブチルもしくは酢酸アミルより；ジエチルエーテル、ジイソプロ ピルエーテルもしくはメチル第三−ブチルエーテルより；もしくは塩化メチレン 、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンもしくは１，１，２，２−テトラクロ ロエタンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合物より結晶化もしく は再結晶させることよりなるところの請求項２記載の製造方法。 ５．ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２ ，３−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４−ト リメチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、 クメン、ｏ−シメン、ｍ−シメン、ｐ−シメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼンも しくは ｍ−ジイソプロピルベンゼンおよび炭素原子数１ないし３のアルカノールの混合 物より結晶化もしくは再結晶させることよりなるところの請求項２記載の製造方 法。 ６．トルエンおよびメタノール；キシレンおよびメタノール；トルエンおよびイ ソプロパノール；もしくはキシレンおよびイソプロパノールの各混合物より結晶 化もしくは再結晶させることよりなるところの請求項５記載の製造方法。 ７．酢酸エチルもしくはジエチルエーテルよりもしくはイソプロパノールおよび ジクロロメタンの混合物より結晶化もしくは再結晶させることよりなるところの 請求項２記載の製造方法。 ８．単離された結晶質の塊は真空下高められた温度において乾燥されるところの 請求項２記載の製造方法。 ９．請求項２記載の方法により得られるところの２，２’，２’’−ニトリロ［ トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’ −ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体 。 １０．ａ）酸化、熱もしくは光により誘発される崩壊を受けやすい有機材料、お よび ｂ）請求項１および９記載の２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス −（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２， ２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体よ りなる組成物。 １１．成分（ａ）および（ｂ）の他に他の添加剤を付加的に含むところの請求項 １０記載の組成物。 １２．他の添加剤としてフェノール性抗酸化剤、光安定剤もしくは加工安定剤を 含むところの請求項１１記載の組成物。 １３．他の添加剤として少なくとも１つのベンゾフラン−２−オン型の化合物を 含むところの請求項１１記載の組成物。 １４．成分（ａ）として、天然ポリマー、半合成ポリマーもしくは合成ポリマー よりなるところの請求項１０記載の組成物。 １５．成分（ａ）として、熱可塑性ポリマーよりなるところの請求項１０記載の 組成物。 １６．成分（ａ）として、ポリオレフィンよりなるところの請求項１０記載の組 成物。 １７．成分（ａ）として、ポリエチレンもしくはポリプロピレンよりなるところ の請求項１０記載の組成物。 １８．酸化、熱もしくは光により誘発される崩壊に対する有磯材料の安定剤とし て、請求項１および９記載の２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス −（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２， ２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体を使用する方法。 １９．請求項１および９記載の２，２’，２’’−ニト リロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１ ，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系 結晶体が、熱可塑性ポリマーにおける加工安定剤（熱安定剤）として使用される ところの請求項１８記載の使用方法。 ２０．酸化、熱もしくは光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化する ための方法であって、請求項１および９記載の２，２’，２’’−ニトリロ［ト リエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’− ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のアルファ、単斜晶系結晶体を 前記有機材料中に混和することもしくは該有機材料に塗布することよりなる有機 材料の安定化方法。