JPH04308801A - プラスチック製光学材 - Google Patents
プラスチック製光学材Info
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- JPH04308801A JPH04308801A JP3099799A JP9979991A JPH04308801A JP H04308801 A JPH04308801 A JP H04308801A JP 3099799 A JP3099799 A JP 3099799A JP 9979991 A JP9979991 A JP 9979991A JP H04308801 A JPH04308801 A JP H04308801A
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- JP
- Japan
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- layer
- plastic
- sio2
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【発明の利用分野】本発明は、多層反射防止膜を有する
プラスチック製光学材に関し、特に可視、紫外域での光
線透過性が良く、耐久性に優れたプラスチック製光学材
に関する。
プラスチック製光学材に関し、特に可視、紫外域での光
線透過性が良く、耐久性に優れたプラスチック製光学材
に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようする課題】プラスチ
ックレンズ、プラスチックフィルター、プラスチック窓
材等のプラスチック光学材は、軽量性、耐衝撃性、量産
性に優れているため、高性能なものが実現出来れば従来
の無機ガラス製光学材を凌ぐ工業材料としての地位を占
めるものになると期待されている。
ックレンズ、プラスチックフィルター、プラスチック窓
材等のプラスチック光学材は、軽量性、耐衝撃性、量産
性に優れているため、高性能なものが実現出来れば従来
の無機ガラス製光学材を凌ぐ工業材料としての地位を占
めるものになると期待されている。
【０００３】高性能化の決め手は、光学的透過性であり
、一つはプラスチック材料の表面での光線の反射を低減
させて光線透過率を可及的に高くする役割をする反射防
止膜に掛かっている。この反射防止膜コーティング技術
における最も大きな問題点は、プラスチック材料表面上
にコートした反射防止膜にクラックが生じて所期の透過
率を実現出来ないことであった。この問題はプラスチッ
クが薄いフィルムの場合、またオレフィン系やフッ素系
樹脂の場合に、特に顕著であった。このクラックの発生
原因としては、プラスチック材料と反射防止膜を構成す
る材料との接着性の低さや熱膨張率の差の大きさ等が考
えられるが、基本的には界面の問題であるため、問題は
単純ではない。
、一つはプラスチック材料の表面での光線の反射を低減
させて光線透過率を可及的に高くする役割をする反射防
止膜に掛かっている。この反射防止膜コーティング技術
における最も大きな問題点は、プラスチック材料表面上
にコートした反射防止膜にクラックが生じて所期の透過
率を実現出来ないことであった。この問題はプラスチッ
クが薄いフィルムの場合、またオレフィン系やフッ素系
樹脂の場合に、特に顕著であった。このクラックの発生
原因としては、プラスチック材料と反射防止膜を構成す
る材料との接着性の低さや熱膨張率の差の大きさ等が考
えられるが、基本的には界面の問題であるため、問題は
単純ではない。
【０００４】特に、非晶質フッ素系樹脂材料に高性能の
反射防止膜を形成した例は従来皆無であった。それは、
ひとつには、フッ素系樹脂は他の材料との接着性が本質
的に悪いものであるから、反射防止膜を形成させること
自体が困難もしくは不可能と考えられていたことによる
。またさらには、非晶質フッ素系樹脂が極く最近世の中
に出現した新規材料であることにもよる。
反射防止膜を形成した例は従来皆無であった。それは、
ひとつには、フッ素系樹脂は他の材料との接着性が本質
的に悪いものであるから、反射防止膜を形成させること
自体が困難もしくは不可能と考えられていたことによる
。またさらには、非晶質フッ素系樹脂が極く最近世の中
に出現した新規材料であることにもよる。
【０００５】一般に、反射防止膜の構成（材料、膜厚）
は、理論計算によってシュミュレーションして候補構成
を選び出すことはできる。しかしこれは界面の問題など
現実的な多くの要因を無視しているので、あくまでも構
成選択の指針を与えてくれるにすぎない。プラスチック
と反射防止膜との界面の問題、多層反射防止膜の場合に
は各層間の界面の問題が大きく影響するので、現実には
実験的な試行錯誤の結果に基づいて選定して行くしかな
い。
は、理論計算によってシュミュレーションして候補構成
を選び出すことはできる。しかしこれは界面の問題など
現実的な多くの要因を無視しているので、あくまでも構
成選択の指針を与えてくれるにすぎない。プラスチック
と反射防止膜との界面の問題、多層反射防止膜の場合に
は各層間の界面の問題が大きく影響するので、現実には
実験的な試行錯誤の結果に基づいて選定して行くしかな
い。
【０００６】発明者らは、特願平２−２２８４３５で非
晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックに接する層をＳ
ｉＯ２ 、外気に接する層をＭｇＦ２ とする事により
、クラックの発生しない光透過性の良いプラスチック光
学材を提供できることを開示した。しかし、外気に接す
る層であるＭｇＦ２ は作製条件により十分な耐久性を
示さないことがあった。
晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックに接する層をＳ
ｉＯ２ 、外気に接する層をＭｇＦ２ とする事により
、クラックの発生しない光透過性の良いプラスチック光
学材を提供できることを開示した。しかし、外気に接す
る層であるＭｇＦ２ は作製条件により十分な耐久性を
示さないことがあった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる問題点を解決する
ために、特願平２−２２８４３５で開示した蒸着物質の
組合せにさらに、外気に接する層を種々の物質を用いて
蒸着したサンプルを作製し、検討した。その結果、Ｓｉ
Ｏ２ を外気に接する層として用いたものが優れた光透
過性と耐久性を示すことを見いだした。本発明はこの知
見に基づきなされるに至ったものである。
ために、特願平２−２２８４３５で開示した蒸着物質の
組合せにさらに、外気に接する層を種々の物質を用いて
蒸着したサンプルを作製し、検討した。その結果、Ｓｉ
Ｏ２ を外気に接する層として用いたものが優れた光透
過性と耐久性を示すことを見いだした。本発明はこの知
見に基づきなされるに至ったものである。
【０００８】すなわち本発明は、
（１）非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックの表面
に多層反射防止膜を形成したプラスチック製光学材であ
って、該多層反射防止膜のプラスチックに接する層と外
気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳｉＯ２
層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したことを特徴と
するプラスチック製光学材 （２）非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックの表面
に５層からなる反射防止膜を形成したプラスチック製光
学材であって、該５層反射防止膜のプラスチックに接す
る層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳ
ｉＯ２ 層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したこと
を特徴とするプラスチック製光学材 （３）非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックの表面
に４層からなる反射防止膜を形成したプラスチック製光
学材であって、該４層反射防止膜のプラスチックに接す
る層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳ
ｉＯ２ 層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したこと
を特徴とするプラスチック製光学材、及び （４）ペリクル材である（１）項、（２）項又は（３）
項のプラスチック製光学材、を提供するものである。
に多層反射防止膜を形成したプラスチック製光学材であ
って、該多層反射防止膜のプラスチックに接する層と外
気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳｉＯ２
層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したことを特徴と
するプラスチック製光学材 （２）非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックの表面
に５層からなる反射防止膜を形成したプラスチック製光
学材であって、該５層反射防止膜のプラスチックに接す
る層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳ
ｉＯ２ 層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したこと
を特徴とするプラスチック製光学材 （３）非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチックの表面
に４層からなる反射防止膜を形成したプラスチック製光
学材であって、該４層反射防止膜のプラスチックに接す
る層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接するＳ
ｉＯ２ 層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したこと
を特徴とするプラスチック製光学材、及び （４）ペリクル材である（１）項、（２）項又は（３）
項のプラスチック製光学材、を提供するものである。
【０００９】本発明の第１の具体例として次の４種類の
層構成があげられる。なおＰｌ．は非晶質フッ素系樹脂
からなるプラスチックを示す。 ■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／Ｙ２ Ｏ３
／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／Ｙ２
Ｏ３ ／ＭｇＯ／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．■ＳｉＯ２ ／
ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／ＭｇＯ／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．
■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／ＰｂＦ２ ／
ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．この中では、前３者がより好ましい
。
層構成があげられる。なおＰｌ．は非晶質フッ素系樹脂
からなるプラスチックを示す。 ■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／Ｙ２ Ｏ３
／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／Ｙ２
Ｏ３ ／ＭｇＯ／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．■ＳｉＯ２ ／
ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／ＭｇＯ／ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．
■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＺｒＯ２ ／ＰｂＦ２ ／
ＳｉＯ２ ／Ｐｌ．この中では、前３者がより好ましい
。
【００１０】本発明において多層反射防止膜中のプラス
チックに接するＳｉＯ２ 層は、非晶質フッ素樹脂と上
層との密着性を向上させ、クラックが生じるのを防止す
る作用を有し、外気に接するＳｉＯ２ 層は、耐摩耗性
、耐湿性を向上させる作用を有していると考えられる。
チックに接するＳｉＯ２ 層は、非晶質フッ素樹脂と上
層との密着性を向上させ、クラックが生じるのを防止す
る作用を有し、外気に接するＳｉＯ２ 層は、耐摩耗性
、耐湿性を向上させる作用を有していると考えられる。
【００１１】図１は本発明によるプラスチック製光学材
の一実施態様を示す断面図であって、図中１は可視、紫
外域での透過率の良い非晶質フッ素系樹脂、２はフッ素
系樹脂１上に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜
第１層、３は反射防止膜第１層２上に被着されたＹ２
Ｏ３ よりなる反射防止膜第２層、４は反射防止膜第２
層３上に被着されたＺｒＯ２ よりなる反射防止膜第３
層、５は反射防止膜第３層４上に被着されたＭｇＦ２
よりなる反射防止膜第４層、６は反射防止膜第４層５上
に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜第５層であ
る。
の一実施態様を示す断面図であって、図中１は可視、紫
外域での透過率の良い非晶質フッ素系樹脂、２はフッ素
系樹脂１上に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜
第１層、３は反射防止膜第１層２上に被着されたＹ２
Ｏ３ よりなる反射防止膜第２層、４は反射防止膜第２
層３上に被着されたＺｒＯ２ よりなる反射防止膜第３
層、５は反射防止膜第３層４上に被着されたＭｇＦ２
よりなる反射防止膜第４層、６は反射防止膜第４層５上
に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜第５層であ
る。
【００１２】このような反射防止膜をプラスチック材料
の表面に形成させるには、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などのいずれで
も良いが、好ましくは、電子ビームを用いる真空蒸着法
が良い。このような気相析出法では、装置の真空度を高
くしたり、析出速度を適度に制御すること等が適宜行わ
れる。多くの場合、原料としては、所望の反射防止膜を
構成する物質とおなじものを用い、これを蒸着やスパッ
タリングによりプラスチック上に析出させる。場合によ
り、反射防止膜の構成物質とは異なる原料を用いて、反
応析出させることもある。
の表面に形成させるには、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などのいずれで
も良いが、好ましくは、電子ビームを用いる真空蒸着法
が良い。このような気相析出法では、装置の真空度を高
くしたり、析出速度を適度に制御すること等が適宜行わ
れる。多くの場合、原料としては、所望の反射防止膜を
構成する物質とおなじものを用い、これを蒸着やスパッ
タリングによりプラスチック上に析出させる。場合によ
り、反射防止膜の構成物質とは異なる原料を用いて、反
応析出させることもある。
【００１３】本発明では、ＺｒＯ２ とは、ＺｒＯ２
そのものとさらに数 ｍｏｌ％のＹ２ Ｏ３ を含むい
わゆる安定化ジルコニアをも意味するものとする。本発
明では、多くの場合Ｙ２ Ｏ３ を含むＺｒＯ２ を用
いることが好ましい。反射防止膜によって特に透過をよ
くしたい波長は、蒸着物質の膜厚を設定することにより
任意に選択できる。前出■の層構成の場合、プラスチッ
クに接するＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１００ｎｍ、Ｙ２
Ｏ３ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、ＺｒＯ２の膜厚を４
０〜８０ｎｍ、ＭｇＦ２ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外
気に接するＳｉＯ２ の膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の
中から、また、■の層構成の場合、プラスチックに接す
るＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１００ｎｍ、ＭｇＯの膜厚
を４０〜８０ｎｍ、Ｙ２ Ｏ３ の膜厚を４０〜８０ｎ
ｍ、ＭｇＦ２ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外気に接する
ＳｉＯ２ の膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の中から適当
に選択することによって、今後使用が増加すると思われ
る、通称ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）での
透過率を９５％以上、好ましくは、９９％以上にするこ
とができる。
そのものとさらに数 ｍｏｌ％のＹ２ Ｏ３ を含むい
わゆる安定化ジルコニアをも意味するものとする。本発
明では、多くの場合Ｙ２ Ｏ３ を含むＺｒＯ２ を用
いることが好ましい。反射防止膜によって特に透過をよ
くしたい波長は、蒸着物質の膜厚を設定することにより
任意に選択できる。前出■の層構成の場合、プラスチッ
クに接するＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１００ｎｍ、Ｙ２
Ｏ３ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、ＺｒＯ２の膜厚を４
０〜８０ｎｍ、ＭｇＦ２ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外
気に接するＳｉＯ２ の膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の
中から、また、■の層構成の場合、プラスチックに接す
るＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１００ｎｍ、ＭｇＯの膜厚
を４０〜８０ｎｍ、Ｙ２ Ｏ３ の膜厚を４０〜８０ｎ
ｍ、ＭｇＦ２ の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外気に接する
ＳｉＯ２ の膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の中から適当
に選択することによって、今後使用が増加すると思われ
る、通称ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）での
透過率を９５％以上、好ましくは、９９％以上にするこ
とができる。
【００１４】本発明の他の具体例としてさらに次の層構
成が挙げられる。 ■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＰｂＦ２ ／ＳｉＯ２ ／
Ｐｌ．この場合も前記の具体例■〜■と同様多層反射防
止膜中のプラスチックに接するＳｉＯ２ 層は、非晶質
フッ素樹脂と上層との密着性を向上させ、クラックが生
じるのを防止する作用を有し、外気に接するＳｉＯ２
層は、耐摩耗、耐湿性を向上させる作用を有していると
考えられる。一方、ＭｇＦ２ 層、ＰｂＦ２ 層の作用
は■〜■の場合と同様である。また、反射防止膜の形成
方法は前記の具体例■〜■の場合と同様である。
成が挙げられる。 ■ＳｉＯ２ ／ＭｇＦ２ ／ＰｂＦ２ ／ＳｉＯ２ ／
Ｐｌ．この場合も前記の具体例■〜■と同様多層反射防
止膜中のプラスチックに接するＳｉＯ２ 層は、非晶質
フッ素樹脂と上層との密着性を向上させ、クラックが生
じるのを防止する作用を有し、外気に接するＳｉＯ２
層は、耐摩耗、耐湿性を向上させる作用を有していると
考えられる。一方、ＭｇＦ２ 層、ＰｂＦ２ 層の作用
は■〜■の場合と同様である。また、反射防止膜の形成
方法は前記の具体例■〜■の場合と同様である。
【００１５】図２は本発明によるプラスチック製光学材
の他の実施態様を示す断面図であって、図中１１は可視
、紫外域で透過率のよい非晶質フッ素系樹脂、１２はフ
ッ素系樹脂１１上に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射
防止膜第１層、１３は反射防止膜第１層１２上に被着さ
れたＰｂＦ２ よりなる反射防止膜第２層、１４は反射
防止膜第２層１３上に被着されたＭｇＦ２よりなる反射
防止膜第３層、１５は反射防止膜第３層１４上に被着さ
れたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜第４層である。
の他の実施態様を示す断面図であって、図中１１は可視
、紫外域で透過率のよい非晶質フッ素系樹脂、１２はフ
ッ素系樹脂１１上に被着されたＳｉＯ２ よりなる反射
防止膜第１層、１３は反射防止膜第１層１２上に被着さ
れたＰｂＦ２ よりなる反射防止膜第２層、１４は反射
防止膜第２層１３上に被着されたＭｇＦ２よりなる反射
防止膜第３層、１５は反射防止膜第３層１４上に被着さ
れたＳｉＯ２ よりなる反射防止膜第４層である。
【００１６】この実施態様においても反射防止膜によっ
てとくに透過をよくしたい波長は、蒸着物質の膜厚を設
定することにより任意に選択できる。■の層構成の場合
、プラスチックに接するＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１０
０ｎｍ、ＰｂＦ２ の膜厚を３０〜６０ｎｍ、ＭｇＦ２
の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外気に接するＳｉＯ２ の
膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の中から適当に選択するこ
とによって、通称ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎ
ｍ）での透過率を９５％以上、好ましくは９９％以上に
することができる。
てとくに透過をよくしたい波長は、蒸着物質の膜厚を設
定することにより任意に選択できる。■の層構成の場合
、プラスチックに接するＳｉＯ２ の膜厚を６０〜１０
０ｎｍ、ＰｂＦ２ の膜厚を３０〜６０ｎｍ、ＭｇＦ２
の膜厚を４０〜８０ｎｍ、外気に接するＳｉＯ２ の
膜厚を１０〜４０ｎｍの範囲の中から適当に選択するこ
とによって、通称ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎ
ｍ）での透過率を９５％以上、好ましくは９９％以上に
することができる。
【００１７】本発明において、上述の多層構成反射防止
膜は非晶質フッ素系樹脂の表面に形成されている。この
樹脂は、例えば、フィルム状、シート状、板状、線条体
、レンズ状等の異形断面形状等などの成形体である。 反射防止膜はこのような成形体の表面の一部または全部
に形成されている。フィルム、シート、板、レンズ等の
ように、明らかに２つの表面がある場合には、多くの場
合、２つの表面を共に反射防止膜で被着する。要は、光
学部材の使用法に係わっており、光線が通過する経路に
ある樹脂成形体の界面は全て上記の反射防止膜を形成さ
せる。
膜は非晶質フッ素系樹脂の表面に形成されている。この
樹脂は、例えば、フィルム状、シート状、板状、線条体
、レンズ状等の異形断面形状等などの成形体である。 反射防止膜はこのような成形体の表面の一部または全部
に形成されている。フィルム、シート、板、レンズ等の
ように、明らかに２つの表面がある場合には、多くの場
合、２つの表面を共に反射防止膜で被着する。要は、光
学部材の使用法に係わっており、光線が通過する経路に
ある樹脂成形体の界面は全て上記の反射防止膜を形成さ
せる。
【００１８】本発明において、用いられるフッ素系樹脂
としては、例えば次のようなものがある。
としては、例えば次のようなものがある。
【００１９】
【化１】
【００２０】（ｄ）上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を構成
する単量体の一種もしくは二種以上と他の共重合性の含
フッ素単量体との共重合体。
する単量体の一種もしくは二種以上と他の共重合性の含
フッ素単量体との共重合体。
【００２１】これらのうち、次のような主鎖に環構造を
有するフッ素樹脂が代表的なものである。
有するフッ素樹脂が代表的なものである。
【００２２】
【化２】
【００２３】本発明に用いられる、フッ素系樹脂は、例
えば、一般式
えば、一般式
【化３】
（ただし、ｎ＝０〜５、ｍ＝０〜５、ｍ＋ｎ＝１〜６で
ある。）で表わされる末端二重結合を二つ有するパーフ
ルオロエーテルやパーフルオロ−２，２−ジメチル−１
，３−ジオキソールをラジカル重合せしめて得られる。 また共重合体は、上記のパーフルオロエーテル又は、パ
ーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール
とフルオロオレフィンやフルオロビニルエーテルなどの
含フッ素単量体との共重合により得られる。単量体とし
ては、例えば、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ
ビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオ
ロエチレンなどである。
ある。）で表わされる末端二重結合を二つ有するパーフ
ルオロエーテルやパーフルオロ−２，２−ジメチル−１
，３−ジオキソールをラジカル重合せしめて得られる。 また共重合体は、上記のパーフルオロエーテル又は、パ
ーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール
とフルオロオレフィンやフルオロビニルエーテルなどの
含フッ素単量体との共重合により得られる。単量体とし
ては、例えば、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ
ビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオ
ロエチレンなどである。
【００２４】本発明にて用いる樹脂は、結晶を持たない
いわゆる非晶質のものである。それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。本発明において特に
好ましいフッ素系樹脂としては、例えば Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「Ｆ
ＰＸ」または「テフロンＡＦ」（商品名）や旭硝子（株
）の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「ＣＹ
ＴＯＰ」（商品名）等を例示することができる。
いわゆる非晶質のものである。それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。本発明において特に
好ましいフッ素系樹脂としては、例えば Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「Ｆ
ＰＸ」または「テフロンＡＦ」（商品名）や旭硝子（株
）の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「ＣＹ
ＴＯＰ」（商品名）等を例示することができる。
【００２５】本発明の光学材は、例えば、次のようなも
のである。異形断面成形体のものとしては、例えば光学
用レンズがある。可視域から紫外域の光線を集散させる
ために有用である。シート状部材の一例は、紫外線照射
装置の透過窓材等がある。無機ガラス部材に比べ軽量で
耐衝撃性があり、工業的価値がたかい。フィルム状部材
の一例はペリクルである。ペリクルは、超高密度集積回
路いわゆるＬＳＩを製造する際、そのフォトリソグラフ
ィー工程において使用するフォトマスク又はレチクルの
防塵用保護カバー体である。従来のペリクルは、厚さ数
ミクロンのセルロース系フィルムに反射防止膜を形成さ
せ、これを金属製の所定寸法の枠に弛み無く張りつけた
ものであった。セルロース系のペリクルはｉ線（３６５
ｎｍ）以下の短波長紫外線域の透過性が十分でなく、実
用上の問題があった。本発明の部材からなるペリクルは
従来のペリクルにおきかわるものである。
のである。異形断面成形体のものとしては、例えば光学
用レンズがある。可視域から紫外域の光線を集散させる
ために有用である。シート状部材の一例は、紫外線照射
装置の透過窓材等がある。無機ガラス部材に比べ軽量で
耐衝撃性があり、工業的価値がたかい。フィルム状部材
の一例はペリクルである。ペリクルは、超高密度集積回
路いわゆるＬＳＩを製造する際、そのフォトリソグラフ
ィー工程において使用するフォトマスク又はレチクルの
防塵用保護カバー体である。従来のペリクルは、厚さ数
ミクロンのセルロース系フィルムに反射防止膜を形成さ
せ、これを金属製の所定寸法の枠に弛み無く張りつけた
ものであった。セルロース系のペリクルはｉ線（３６５
ｎｍ）以下の短波長紫外線域の透過性が十分でなく、実
用上の問題があった。本発明の部材からなるペリクルは
従来のペリクルにおきかわるものである。
【００２６】本発明のプラスチック光学材は、４５０ｎ
ｍ以下の短波長域の光線透過性にすぐれている。特に、
ｉ線（３６５ｎｍ）とｇ線（４３６ｎｍ）の両波長にお
いて同時に９９％以上の高い光線透過性を有することが
でき、これが大きな特徴である。
ｍ以下の短波長域の光線透過性にすぐれている。特に、
ｉ線（３６５ｎｍ）とｇ線（４３６ｎｍ）の両波長にお
いて同時に９９％以上の高い光線透過性を有することが
でき、これが大きな特徴である。
【００２７】
【実施例】次に、本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明する。
説明する。
【００２８】実施例１
非晶質フッ素系樹脂フィルムとして、旭硝子社製「サイ
トップ」（屈折率ｎ＝１．３４）を用い、スピンコート
法により１０μｍ厚のフィルムを作製した。このフィル
ムの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１層としてＳ
ｉＯ２ の膜厚を７０ｎｍ、第２層としてＹ２ Ｏ３
の膜厚を５５ｎｍ、第３層として２ ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３
入りＺｒＯ２ の膜厚を５０ｎｍ、第４層としてＭｇ
Ｆ２ の膜厚を５５ｎｍ、第５層としてＳｉＯ２ の膜
厚を１５ｎｍ、としてそれぞれ蒸着した。
トップ」（屈折率ｎ＝１．３４）を用い、スピンコート
法により１０μｍ厚のフィルムを作製した。このフィル
ムの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１層としてＳ
ｉＯ２ の膜厚を７０ｎｍ、第２層としてＹ２ Ｏ３
の膜厚を５５ｎｍ、第３層として２ ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３
入りＺｒＯ２ の膜厚を５０ｎｍ、第４層としてＭｇ
Ｆ２ の膜厚を５５ｎｍ、第５層としてＳｉＯ２ の膜
厚を１５ｎｍ、としてそれぞれ蒸着した。
【００２９】図３にこのプラスチック製光学材の垂直入
射光に対する透過率特性を示す。３６５ｎｍでの透過率
は９９．４％、４３６ｎｍでの透過率は９９．４％であ
った。また、このプラスチック製光学材を８０℃、８０
％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過特性に
何等の変化もなかった。
射光に対する透過率特性を示す。３６５ｎｍでの透過率
は９９．４％、４３６ｎｍでの透過率は９９．４％であ
った。また、このプラスチック製光学材を８０℃、８０
％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過特性に
何等の変化もなかった。
【００３０】実施例２
非晶質フッ素系樹脂フィルムとして、 Ｄｕ Ｐｏｎｔ
社製「テフロンＡＦ１６００」（屈折率ｎ＝１．３１）
を用い、押出成形法により１ｍｍ厚のシートを作製した
。このシートの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１
層としてＳｉＯ２ の膜厚を９０ｎｍ、第２層としてＭ
ｇＯの膜厚を６５ｎｍ、第３層としてＹ２ Ｏ３ の膜
厚を６５ｎｍ、第４層としてＭｇＦ２ の膜厚を５０ｎ
ｍ、第５層としてＳｉＯ２の膜厚を２０ｎｍ、としてそ
れぞれ蒸着した。
社製「テフロンＡＦ１６００」（屈折率ｎ＝１．３１）
を用い、押出成形法により１ｍｍ厚のシートを作製した
。このシートの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１
層としてＳｉＯ２ の膜厚を９０ｎｍ、第２層としてＭ
ｇＯの膜厚を６５ｎｍ、第３層としてＹ２ Ｏ３ の膜
厚を６５ｎｍ、第４層としてＭｇＦ２ の膜厚を５０ｎ
ｍ、第５層としてＳｉＯ２の膜厚を２０ｎｍ、としてそ
れぞれ蒸着した。
【００３１】図４にこのプラスチック製光学材の垂直入
射光に対する透過率特性を示す。３６５ｎｍでの透過率
は９９．６％、４３６ｎｍでの透過率は９９．６％であ
った。また、このプラスチック製光学材を８０℃、８０
％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過特性に
何等の変化もなかった。また、このプラスチック製光学
材の表面に３Ｍ社製スコッチテープを接着させ、素早く
引くというピールテストを行ったが、蒸着膜の剥離はな
かった。
射光に対する透過率特性を示す。３６５ｎｍでの透過率
は９９．６％、４３６ｎｍでの透過率は９９．６％であ
った。また、このプラスチック製光学材を８０℃、８０
％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過特性に
何等の変化もなかった。また、このプラスチック製光学
材の表面に３Ｍ社製スコッチテープを接着させ、素早く
引くというピールテストを行ったが、蒸着膜の剥離はな
かった。
【００３２】実施例３
非晶質フッ素系樹脂フィルムとして、Ｄｕ Ｐｏｎｔ
社製「テフロンＡＦ１６００」（屈折率ｎ＝１．３１）
を用い、押出成形法により１ｍｍ厚のシートを作製した
。このシートの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１
層としてＳｉＯ２ の膜厚を７５ｎｍ、第２層としてＰ
ｂＦ２ の膜厚を４５ｎｍ、第３層としてＭｇＦ２ の
膜厚を５５ｎｍ、第４層としてＳｉＯ２ を膜厚２０ｎ
ｍ、としてそれぞれ蒸着した。図５にこのプラスチック
製光学材の垂直入射光に対する透過率特性を示す。３６
５ｎｍでの透過率は９９．４％、４３６ｎｍでの透過率
は９９．５％であった。
社製「テフロンＡＦ１６００」（屈折率ｎ＝１．３１）
を用い、押出成形法により１ｍｍ厚のシートを作製した
。このシートの両面上に電子線蒸着装置を用いて、第１
層としてＳｉＯ２ の膜厚を７５ｎｍ、第２層としてＰ
ｂＦ２ の膜厚を４５ｎｍ、第３層としてＭｇＦ２ の
膜厚を５５ｎｍ、第４層としてＳｉＯ２ を膜厚２０ｎ
ｍ、としてそれぞれ蒸着した。図５にこのプラスチック
製光学材の垂直入射光に対する透過率特性を示す。３６
５ｎｍでの透過率は９９．４％、４３６ｎｍでの透過率
は９９．５％であった。
【００３３】また、このプラスチック製光学材を８０℃
、８０％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過
特性に何らの変化もなかった。また、このプラスチック
製光学材の表面に３Ｍ社製スコッチテープを接着させ、
素早く引くというピールテストを行ったが、蒸着膜の剥
離はなかった。
、８０％ＲＨの環境下で２４時間放置していたが、透過
特性に何らの変化もなかった。また、このプラスチック
製光学材の表面に３Ｍ社製スコッチテープを接着させ、
素早く引くというピールテストを行ったが、蒸着膜の剥
離はなかった。
【００３４】＜比較例＞非晶質フッ素系樹脂フィルムと
して、旭硝子社製「サイトップ」（屈折率ｎ＝１．３４
）を用い、スピンコート法により１０μｍ厚のフィルム
を作製した。このフィルムの両面上に電子線蒸着装置を
用いて、第１層としてＳｉＯ２ の膜厚を７５ｎｍ、第
２層としてＹ２ Ｏ３ の膜厚を５５ｎｍ、第３層とし
て２ ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３ 入りＺｒＯ２ の膜厚を５０
ｎｍ、第４層としてＭｇＦ２ の膜厚を７０ｎｍ、とし
てそれぞれ蒸着した。
して、旭硝子社製「サイトップ」（屈折率ｎ＝１．３４
）を用い、スピンコート法により１０μｍ厚のフィルム
を作製した。このフィルムの両面上に電子線蒸着装置を
用いて、第１層としてＳｉＯ２ の膜厚を７５ｎｍ、第
２層としてＹ２ Ｏ３ の膜厚を５５ｎｍ、第３層とし
て２ ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３ 入りＺｒＯ２ の膜厚を５０
ｎｍ、第４層としてＭｇＦ２ の膜厚を７０ｎｍ、とし
てそれぞれ蒸着した。
【００３５】このプラスチック製光学材の垂直入射光に
対する透過率特性を測定したところ、３６５ｎｍでの透
過率は９９．５％、４３６ｎｍでの透過率は９９．４％
であったが、８０℃、８０％ＲＨの環境下で２４時間放
置し、透過特性を再測定したところ、３６５ｎｍでの透
過率は９４．３％、４３６ｎｍでの透過率は９３．８％
と悪化していた。
対する透過率特性を測定したところ、３６５ｎｍでの透
過率は９９．５％、４３６ｎｍでの透過率は９９．４％
であったが、８０℃、８０％ＲＨの環境下で２４時間放
置し、透過特性を再測定したところ、３６５ｎｍでの透
過率は９４．３％、４３６ｎｍでの透過率は９３．８％
と悪化していた。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラスチ
ック製光学材は、可視、紫外域での透過性の良い非晶質
透明フッ素系樹脂に相性の良い反射防止膜を有し、透過
特性、密着性、及び耐久性に優れる。
ック製光学材は、可視、紫外域での透過性の良い非晶質
透明フッ素系樹脂に相性の良い反射防止膜を有し、透過
特性、密着性、及び耐久性に優れる。
【図１】本発明によるプラスチック製光学材の一実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】プラスチック製光学材の他例の側面図である。
【図３】実施例１の垂直入射光に対する透過率特性を示
すグラフである。
すグラフである。
【図４】実施例２の垂直入射光に対する透過率特性を示
すグラフである。
すグラフである。
【図５】実施例３の垂直入射光に対する透過率特性を示
すグラフである。
すグラフである。
１、１１ 可視、紫外域での透過率の良い非晶質
フッ素系樹脂フィルム ２、１２ ＳｉＯ２ 層 ３ Ｙ２ Ｏ３ 層４
ＺｒＯ２ 層 ５、１４ ＭｇＦ２ 層 ６、１５ ＳｉＯ２ 層 １３ ＰｂＦ２ 層
フッ素系樹脂フィルム ２、１２ ＳｉＯ２ 層 ３ Ｙ２ Ｏ３ 層４
ＺｒＯ２ 層 ５、１４ ＭｇＦ２ 層 ６、１５ ＳｉＯ２ 層 １３ ＰｂＦ２ 層
Claims (4)
- 【請求項１】 非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチ
ックの表面に多層反射防止膜を形成したプラスチック製
光学材であって、該多層反射防止膜のプラスチックに接
する層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気に接する
ＳｉＯ２ 層の直下の層をＭｇＦ２ により構成したこ
とを特徴とするプラスチック製光学材。 - 【請求項２】 非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチ
ックの表面に５層からなる反射防止膜を形成したプラス
チック製光学材であって、該５層反射防止膜のプラスチ
ックに接する層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気
に接するＳｉＯ２層の直下の層をＭｇＦ２ により構成
したことを特徴とするプラスチック製光学材。 - 【請求項３】 非晶質フッ素系樹脂からなるプラスチ
ックの表面に４層からなる反射防止膜を形成したプラス
チック製光学材であって、該４層反射防止膜のプラスチ
ックに接する層と外気に接する層をＳｉＯ２ 、該外気
に接するＳｉＯ２層の直下の層をＭｇＦ２ により構成
したことを特徴とするプラスチック製光学材。 - 【請求項４】 ペリクル材である請求項（１）、（２
）又は（３）記載のプラスチック製光学材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3099799A JPH04308801A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | プラスチック製光学材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3099799A JPH04308801A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | プラスチック製光学材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04308801A true JPH04308801A (ja) | 1992-10-30 |
Family
ID=14256948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3099799A Pending JPH04308801A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | プラスチック製光学材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04308801A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011427A3 (en) * | 1999-08-11 | 2001-10-11 | Dupont Photomasks Inc | Dust cover/pellicle for a photomask |
-
1991
- 1991-04-05 JP JP3099799A patent/JPH04308801A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011427A3 (en) * | 1999-08-11 | 2001-10-11 | Dupont Photomasks Inc | Dust cover/pellicle for a photomask |
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