JPH0339963A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JPH0339963A JPH0339963A JP1228229A JP22822989A JPH0339963A JP H0339963 A JPH0339963 A JP H0339963A JP 1228229 A JP1228229 A JP 1228229A JP 22822989 A JP22822989 A JP 22822989A JP H0339963 A JPH0339963 A JP H0339963A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- pellicle
- transmittability
- main chain
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は特性の優れた新規なペリクルを提供するもので
あり、さらに詳しくいえば、特に、短波長のUV(紫外
線)透過性に優れたメンブレン膜を有することを特徴と
するペリクルに関する。
あり、さらに詳しくいえば、特に、短波長のUV(紫外
線)透過性に優れたメンブレン膜を有することを特徴と
するペリクルに関する。
(従来の技術)
ペリクルは、フォトリソグラフィープロセスにより高度
集積回路(LSI)を作製する際に、微細なゴミやホコ
リの付着に依り、回路パターンに不具合が生じることを
防ぐために多用されている。従来のペリクルとしては、
特開昭63−15250号、特開昭62−127801
号、特開昭61−106243号、特開昭63−640
48号、特開昭59−206406号、特開昭59−1
64356号などに開示されているものがある。
集積回路(LSI)を作製する際に、微細なゴミやホコ
リの付着に依り、回路パターンに不具合が生じることを
防ぐために多用されている。従来のペリクルとしては、
特開昭63−15250号、特開昭62−127801
号、特開昭61−106243号、特開昭63−640
48号、特開昭59−206406号、特開昭59−1
64356号などに開示されているものがある。
(発明が解決しようとする課題)
これら従来技術において、ペリクルの膜材料としては、
主に酢酸セルロース系材料が使用されている。しかし、
従来のセルロース系膜は、i線、g線およびh線のUV
光に対する透過性は比較的良好であるが、短波長とくに
300nmより短い波長域においては、その透過性は十
分ではなかった。例えば特開昭61−106243号に
明記されているように、この膜は200〜300nmの
UV短波長域における光透過性が不十分であった。その
ため、今後の一層の高集積化に対応する技術である、エ
キシマレーザ−露光において用いられる300nm以下
のUV光には使えないという重大な欠点があった。また
多数回使用時において、従来のセルロース系材料はUV
光により劣化するという実用面での難点があった0本発
明は、このような従来の膜材料の欠点を解消した高性能
の新規なメンブレン膜を有するペリクルを提供すること
を目的とする。
主に酢酸セルロース系材料が使用されている。しかし、
従来のセルロース系膜は、i線、g線およびh線のUV
光に対する透過性は比較的良好であるが、短波長とくに
300nmより短い波長域においては、その透過性は十
分ではなかった。例えば特開昭61−106243号に
明記されているように、この膜は200〜300nmの
UV短波長域における光透過性が不十分であった。その
ため、今後の一層の高集積化に対応する技術である、エ
キシマレーザ−露光において用いられる300nm以下
のUV光には使えないという重大な欠点があった。また
多数回使用時において、従来のセルロース系材料はUV
光により劣化するという実用面での難点があった0本発
明は、このような従来の膜材料の欠点を解消した高性能
の新規なメンブレン膜を有するペリクルを提供すること
を目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは上記の従来のペリクルの膜材料の難点を克
服するため種々検討を重ねた結果、光学透過性の主鎖に
環構造を有するフッ素樹脂を用いることによりその目的
を達成しうることを見出し、この知見に基づき本発明を
なすに至った。
服するため種々検討を重ねた結果、光学透過性の主鎖に
環構造を有するフッ素樹脂を用いることによりその目的
を達成しうることを見出し、この知見に基づき本発明を
なすに至った。
すなわち本発明は、(1)光学的透過性に優れるフッ素
樹脂の薄膜を有することを特徴とするペリクル、(2)
フッ素樹脂が主鎖に環構造を有することを特徴とする(
1)項記載のペリクル、及び(3)フッ素樹脂が主鎖に
環構造を有し非結晶質であることを特徴とする(1)項
記載のペリクルを提供するものである。
樹脂の薄膜を有することを特徴とするペリクル、(2)
フッ素樹脂が主鎖に環構造を有することを特徴とする(
1)項記載のペリクル、及び(3)フッ素樹脂が主鎖に
環構造を有し非結晶質であることを特徴とする(1)項
記載のペリクルを提供するものである。
本発明において、“光学的透過性に優れろ”とは、゛膜
厚が100μmのフィルムにて、波長200nmから3
00nmのUV光の全波長範囲において、透過率(Tr
ansmittance)が50%以上を示す”ことを
意味する。したがって、例えば、150μmの厚さのフ
ィルムで50%以上の透過率を示すものは、本発明にい
う“光学的透過性に優れる”フィルムであることば6ち
るんである。
厚が100μmのフィルムにて、波長200nmから3
00nmのUV光の全波長範囲において、透過率(Tr
ansmittance)が50%以上を示す”ことを
意味する。したがって、例えば、150μmの厚さのフ
ィルムで50%以上の透過率を示すものは、本発明にい
う“光学的透過性に優れる”フィルムであることば6ち
るんである。
このような光学的透過性は例えば主鎖に環構造を有する
フッ素樹脂の加工において劣化や分解をおこさない条件
のもとで、ピンホールのない表面平滑な薄膜とすること
により達成できる。
フッ素樹脂の加工において劣化や分解をおこさない条件
のもとで、ピンホールのない表面平滑な薄膜とすること
により達成できる。
本発明において、好ましく用いられる主鎖に環構造を有
するフッ素樹脂としては、例えば次のようなものがある
。
するフッ素樹脂としては、例えば次のようなものがある
。
(d)上記(a)、(b)、(c)を構成する単量体の
一種もしくは二種以上と他の共重合性の含フツ素単量体
との共重合体。
一種もしくは二種以上と他の共重合性の含フツ素単量体
との共重合体。
これらのうち、
次のような主鎖に環構造を有す
るフッ素樹脂が代表的なものである。
本発明に用いられる、
主鎖に環構造を有する
フッ素樹脂は、例えば、−数式
CF 、= CF+ CF * +−0→CF汁−CF
”CF!(ただし、n=O〜5、m=0〜5でm+n=
1〜6である。)で表わされる末端二重結合を二つ有す
るパーフルオロエーテルやパーフルオロ−2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソールをラジカル重合せしめて得
られる。また共重合体は、上記のパーフルオロエーテル
又は、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオ
キソールとフルオロオレフィンやフルオロビニルエーテ
ルなどの含フツ素単量体との共重合により得られる。単
量体としては、例えば、テトラフルオロエチレン、パー
フルオロビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロト
リフルオロエチレンなどである。
”CF!(ただし、n=O〜5、m=0〜5でm+n=
1〜6である。)で表わされる末端二重結合を二つ有す
るパーフルオロエーテルやパーフルオロ−2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソールをラジカル重合せしめて得
られる。また共重合体は、上記のパーフルオロエーテル
又は、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオ
キソールとフルオロオレフィンやフルオロビニルエーテ
ルなどの含フツ素単量体との共重合により得られる。単
量体としては、例えば、テトラフルオロエチレン、パー
フルオロビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロト
リフルオロエチレンなどである。
さらに、本発明にて用いる樹脂は、結晶を持たないいわ
ゆる非晶質のものが好ましい、それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。
ゆる非晶質のものが好ましい、それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。
本発明において特に好ましい主鎖に環構造を有するフッ
素樹脂としては、例えばDu Pont社の製造になる
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂rFPXJ又は「テフ
ロンAFJ (商品名)や旭硝子■の製造になる主鎖
に環構造を有するフッ素樹脂rcYTOPJ (商品
名)等を例示することができる。
素樹脂としては、例えばDu Pont社の製造になる
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂rFPXJ又は「テフ
ロンAFJ (商品名)や旭硝子■の製造になる主鎖
に環構造を有するフッ素樹脂rcYTOPJ (商品
名)等を例示することができる。
本発明に用いられるフッ素樹脂のメンブレン膜の厚さは
特に制限はなく、その要求特性に応じて比較的自由に選
定できる。好ましくはおおよそ0.11Lmから100
μmの範囲にある。より好ましくは、0.5〜20um
である。本発明のペリクルは従来のものより厚くても、
優れた光学的透過性を有する特徴がある。
特に制限はなく、その要求特性に応じて比較的自由に選
定できる。好ましくはおおよそ0.11Lmから100
μmの範囲にある。より好ましくは、0.5〜20um
である。本発明のペリクルは従来のものより厚くても、
優れた光学的透過性を有する特徴がある。
本発明のペリクルでは、膜の透過性が高いので、通常必
須とされる膜表面の反射防止膜のコーティングはなくて
もよい。もちろん、反射防止膜を形成することは何ら構
わないが、不可欠ではない。
須とされる膜表面の反射防止膜のコーティングはなくて
もよい。もちろん、反射防止膜を形成することは何ら構
わないが、不可欠ではない。
また、本発明のペリクルは、まだその理由は定かではな
いが、光学的干渉現象がおこりにくいためか、300n
mより長い波長域にては、透過率がフラットである特徴
を有する。そのため従来のセルロース系膜で行われてい
た、glil用とi線用とでペリクルを使い分けるとい
う煩雑な処理、管理が全く不要になる。
いが、光学的干渉現象がおこりにくいためか、300n
mより長い波長域にては、透過率がフラットである特徴
を有する。そのため従来のセルロース系膜で行われてい
た、glil用とi線用とでペリクルを使い分けるとい
う煩雑な処理、管理が全く不要になる。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂であるrcYTOPJ
(非結晶質性、厚さ200umの膜におけるU■光
の透過率は、波長200nmから300nmの全範囲に
おいて50%以上の透過率である)を用いペリクル用に
厚さ2.8μmのメンブレン膜を作製した。膜の作製は
、この樹脂の特殊フッ素系溶剤を用い、キャスト製膜し
た。
(非結晶質性、厚さ200umの膜におけるU■光
の透過率は、波長200nmから300nmの全範囲に
おいて50%以上の透過率である)を用いペリクル用に
厚さ2.8μmのメンブレン膜を作製した。膜の作製は
、この樹脂の特殊フッ素系溶剤を用い、キャスト製膜し
た。
この膜の上に、反射防止のために、フッ化マグネシウム
の膜(厚さ;300nm)を蒸着したのち、アルミ合金
製のフレームの片面に張りつけた。そして、フレームの
他の片面上に、粘着剤を塗布して、ペリクルを作った。
の膜(厚さ;300nm)を蒸着したのち、アルミ合金
製のフレームの片面に張りつけた。そして、フレームの
他の片面上に、粘着剤を塗布して、ペリクルを作った。
このペリクルをホトマスクに張りつけ、その性能を確認
した。このペリクルのスペクトル透過特性を第1図に示
した。
した。このペリクルのスペクトル透過特性を第1図に示
した。
また、このペリクルをA r F (193nm)およ
びK r F (249nm)のエキシマレーザ−光を
用いて露光テストしたところ、10万回の露光に対して
ペリクルに要求される役割を果たし、何ら不具合が生じ
なかった。
びK r F (249nm)のエキシマレーザ−光を
用いて露光テストしたところ、10万回の露光に対して
ペリクルに要求される役割を果たし、何ら不具合が生じ
なかった。
実施例2
パーフルオロアクリルビニルエーテル
(CF、=CF−0−CFt−CF=CF、)を原料と
して、常法による主鎖に環構造を有するフッ素樹脂(屈
折率1.34)を得た。このフッ素樹脂をフロリナート
FC−75 (商品名、3M社製のフッ素系溶媒)に溶
かし、スピンコーターを用いて、厚さ7μmの平滑膜を
作成した。この膜に反射防止膜として、デュポン社製の
テフロンAF2400 (屈折率1.29)の薄膜を形
成せしめた。膜厚は365nmの透過が最大値(99,
5%以上)となるよう実験的に決定した。この膜を用い
て実施例1と同様にペリクルを作成し、365nmの光
源に対する寿命テストをし、10万回以上の露光に十分
耐えるものであった。
して、常法による主鎖に環構造を有するフッ素樹脂(屈
折率1.34)を得た。このフッ素樹脂をフロリナート
FC−75 (商品名、3M社製のフッ素系溶媒)に溶
かし、スピンコーターを用いて、厚さ7μmの平滑膜を
作成した。この膜に反射防止膜として、デュポン社製の
テフロンAF2400 (屈折率1.29)の薄膜を形
成せしめた。膜厚は365nmの透過が最大値(99,
5%以上)となるよう実験的に決定した。この膜を用い
て実施例1と同様にペリクルを作成し、365nmの光
源に対する寿命テストをし、10万回以上の露光に十分
耐えるものであった。
このように、本発明のペリクルは、今後−層進展する高
集積化LSIに対応して要求されるエキシマレーザ−露
光に使用されるのに好適な性能を有する。
集積化LSIに対応して要求されるエキシマレーザ−露
光に使用されるのに好適な性能を有する。
(発明の効果)
本発明のペリクルは300nmより短い波長域における
透過性が高く、膜表面の反射防止膜のコーティングは不
要となる。また、300nmより長い波長域においても
フラットな透過率を示しg線用とi線用でペリクルを使
い分ける、という煩雑な処理、管理が全く不要である。
透過性が高く、膜表面の反射防止膜のコーティングは不
要となる。また、300nmより長い波長域においても
フラットな透過率を示しg線用とi線用でペリクルを使
い分ける、という煩雑な処理、管理が全く不要である。
さらに本発明のペリクルは膜強度に優れエキシマレーザ
−光による多数回使用においても劣化することがない。
−光による多数回使用においても劣化することがない。
4、
第1図は本発明のペリクルのスペクトル透過特性を示す
。
。
Claims (3)
- (1)光学的透過性の優れるフッ素樹脂膜を有してなる
ことを特徴とするペリクル。 - (2)フッ素樹脂が主鎖に環構造を有することを特徴と
する請求項(1)に記載のペリクル。 - (3)フッ素樹脂が主鎖に環構造を有し非結晶質である
ことを特徴とする請求項(1)に記載のペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22822989A JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-95186 | 1989-04-17 | ||
| JP9518689 | 1989-04-17 | ||
| JP22822989A JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339963A true JPH0339963A (ja) | 1991-02-20 |
| JP2951337B2 JP2951337B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=26436457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22822989A Ceased JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2951337B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05507763A (ja) * | 1991-05-20 | 1993-11-04 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 反射防止層を有するペリクルフィルム |
| US6342292B1 (en) | 1997-12-16 | 2002-01-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organic thin film and process for producing the same |
| WO2004018443A1 (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-04 | Asahi Glass Company, Limited | 紫外光透過性含フッ素重合体および該重合体からなるペリクル |
| WO2004088422A1 (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-14 | Asahi Glass Company, Limited | 含フッ素化合物および含フッ素重合体 |
| US6875819B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-04-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Fluorinated cycloolefin polymers, processes for preparation of fluorinated cycloofefin monomers and polymers thereof, and use of the same |
| JP2008506565A (ja) * | 2004-07-19 | 2008-03-06 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 医薬品包装のための接着性プラスチックフィルムラミネートにおける防犯タガント(追跡用添加物) |
| US7790811B2 (en) | 2003-12-03 | 2010-09-07 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle and novel fluoropolymer |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548129B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle |
Citations (6)
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| JPS6325658A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | フイルム供給装置 |
| JPS6416873A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Mitsui Petrochemical Ind | Reflection preventing type vehicle film and production thereof |
| JPH01191852A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ペリクル膜 |
| JPH02272551A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ペリクル用薄膜 |
| JPH0367262A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-03-22 | Asahi Glass Co Ltd | 汚染防止保護器具 |
-
1989
- 1989-09-05 JP JP22822989A patent/JP2951337B2/ja not_active Ceased
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| US6342292B1 (en) | 1997-12-16 | 2002-01-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organic thin film and process for producing the same |
| US6797207B2 (en) | 1997-12-16 | 2004-09-28 | Asahi Kasei Emd Corporation | Process for producing organic thin film |
| US6875819B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-04-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Fluorinated cycloolefin polymers, processes for preparation of fluorinated cycloofefin monomers and polymers thereof, and use of the same |
| WO2004018443A1 (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-04 | Asahi Glass Company, Limited | 紫外光透過性含フッ素重合体および該重合体からなるペリクル |
| CN1315817C (zh) * | 2002-08-21 | 2007-05-16 | 旭硝子株式会社 | 紫外光透过性含氟聚合物及由该聚合物制成的表膜 |
| US7442815B2 (en) | 2002-08-21 | 2008-10-28 | Asahi Glass Company, Limited | Ultraviolet transmitting fluoropolymer and pellicle comprising said polymer |
| WO2004088422A1 (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-14 | Asahi Glass Company, Limited | 含フッ素化合物および含フッ素重合体 |
| US7790811B2 (en) | 2003-12-03 | 2010-09-07 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle and novel fluoropolymer |
| JP2008506565A (ja) * | 2004-07-19 | 2008-03-06 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 医薬品包装のための接着性プラスチックフィルムラミネートにおける防犯タガント(追跡用添加物) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2951337B2 (ja) | 1999-09-20 |
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