JPH04310542A - ガラス表面に凹凸を形成する方法 - Google Patents
ガラス表面に凹凸を形成する方法Info
- Publication number
- JPH04310542A JPH04310542A JP10395091A JP10395091A JPH04310542A JP H04310542 A JPH04310542 A JP H04310542A JP 10395091 A JP10395091 A JP 10395091A JP 10395091 A JP10395091 A JP 10395091A JP H04310542 A JPH04310542 A JP H04310542A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- aqueous solution
- glass
- monovalent
- cation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 6
- -1 cation nitrates Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 abstract 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910001422 barium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910001417 caesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 159000000011 group IA salts Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001427 strontium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板の表面に微
細な凹凸を形成する方法に関し、とりわけ磁気ディスク
の基板として使用するのに適したガラス基板を製造する
方法に関する。
細な凹凸を形成する方法に関し、とりわけ磁気ディスク
の基板として使用するのに適したガラス基板を製造する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスを磁気ディスク用基板として使用
すると、ガラス表面は平滑性に優れているので、高密度
の記録が出来るが、一方コンタクトスタートストップ（
略してＣＳＳと称している。）方式の磁気記録方式では
磁気記録媒体の回転と停止を繰り返す時、磁気ヘッドが
磁気記録媒体の表面に吸着し易く、また磁気記録媒体の
回転の開始時に大きな抵抗力が生じ、磁気ヘッドの損傷
を招くという問題がある。かかる問題を解決するため磁
気デイスク用の基板表面に微細な凹凸を形成することが
考えられている。例えば機械的手段で基板表面に凹凸を
形成する方法（特開昭３−１２３９０６号公報）、酸水
溶液によりガラス表面をエッチングして表面に凹凸を形
成する方法（特開昭６０−１３６０３５号公報）、さら
に両者を組み合わせた方法（特開昭６３−１６００１０
号公報）が開示されている。
すると、ガラス表面は平滑性に優れているので、高密度
の記録が出来るが、一方コンタクトスタートストップ（
略してＣＳＳと称している。）方式の磁気記録方式では
磁気記録媒体の回転と停止を繰り返す時、磁気ヘッドが
磁気記録媒体の表面に吸着し易く、また磁気記録媒体の
回転の開始時に大きな抵抗力が生じ、磁気ヘッドの損傷
を招くという問題がある。かかる問題を解決するため磁
気デイスク用の基板表面に微細な凹凸を形成することが
考えられている。例えば機械的手段で基板表面に凹凸を
形成する方法（特開昭３−１２３９０６号公報）、酸水
溶液によりガラス表面をエッチングして表面に凹凸を形
成する方法（特開昭６０−１３６０３５号公報）、さら
に両者を組み合わせた方法（特開昭６３−１６００１０
号公報）が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記機械的方法では、
微細な凹凸を形成するためには粒度の小さな砥粒で長時
間基板表面を研磨しなければならず、また上記の酸水溶
液を用いるエッチング方法では、あらかじめ金属層を形
成し熱処理する必要があり工程が複雑であるという欠点
があった。さらに両者を組み合わせた方法では、工程が
複雑になりフッ化水素酸濃度を厳密に管理しなければ基
板表面の凹凸を再現性よく形成することが困難であると
いう問題点があった。
微細な凹凸を形成するためには粒度の小さな砥粒で長時
間基板表面を研磨しなければならず、また上記の酸水溶
液を用いるエッチング方法では、あらかじめ金属層を形
成し熱処理する必要があり工程が複雑であるという欠点
があった。さらに両者を組み合わせた方法では、工程が
複雑になりフッ化水素酸濃度を厳密に管理しなければ基
板表面の凹凸を再現性よく形成することが困難であると
いう問題点があった。
【０００４】本発明の目的は、上記の従来の方法が有す
る問題点を解決するためになされたもので、とりわけ磁
気デイスク用のガラス基板に適した表面凹凸をガラス表
面に形成する方法を提供するものである。
る問題点を解決するためになされたもので、とりわけ磁
気デイスク用のガラス基板に適した表面凹凸をガラス表
面に形成する方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板の
一部又は全部を１価の陽イオンの硝酸塩、２価の陽イオ
ンの硝酸塩、１価の陽イオンの硫酸塩、２価の陽イオン
の硫酸塩の少なくとも１種を含むアルカリ性の水溶液か
らなる塗布液で被覆し、その後前記塗布液で被覆された
ガラス基板を前記塗布液に含まれる塩の融点以上に加熱
することによりガラス基板表面に凹凸を形成する方法で
ある。
一部又は全部を１価の陽イオンの硝酸塩、２価の陽イオ
ンの硝酸塩、１価の陽イオンの硫酸塩、２価の陽イオン
の硫酸塩の少なくとも１種を含むアルカリ性の水溶液か
らなる塗布液で被覆し、その後前記塗布液で被覆された
ガラス基板を前記塗布液に含まれる塩の融点以上に加熱
することによりガラス基板表面に凹凸を形成する方法で
ある。
【０００６】１価の陽イオンとしては、Ｌｉイオン，Ｎ
ａイオン、Ｋイオン、Ｃｓイオン、Ｔｌイオンなどが例
示でき、２価陽イオンとしては，Ｍｇイオン、Ｃａイオ
ン、Ｂａイオン、Ｓｒイオン、Ｐｂイオン、Ｃｕイオン
などが例示できる。また本発明に用いられる塩の水溶液
はｐＨ１０以上に調製することが好ましく、さらにｐＨ
１１以上に調製することが好ましい。ｐＨを調整するた
めに本発明にかかる水溶液に含有させるアルカリ性物質
としては特に限定されないが、前記の１価または２価の
陽イオンの水酸化物、前記の１価または２価の陽イオン
の炭酸塩、前記の１価または２価の陽イオンの重炭酸塩
の群から選ばれた少なくとも１種が好ましく用いられ、
加熱後凹凸を形成すべきガラス表面に残りかすを生じさ
せないようにする上で、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウムが特に好ましい。
ａイオン、Ｋイオン、Ｃｓイオン、Ｔｌイオンなどが例
示でき、２価陽イオンとしては，Ｍｇイオン、Ｃａイオ
ン、Ｂａイオン、Ｓｒイオン、Ｐｂイオン、Ｃｕイオン
などが例示できる。また本発明に用いられる塩の水溶液
はｐＨ１０以上に調製することが好ましく、さらにｐＨ
１１以上に調製することが好ましい。ｐＨを調整するた
めに本発明にかかる水溶液に含有させるアルカリ性物質
としては特に限定されないが、前記の１価または２価の
陽イオンの水酸化物、前記の１価または２価の陽イオン
の炭酸塩、前記の１価または２価の陽イオンの重炭酸塩
の群から選ばれた少なくとも１種が好ましく用いられ、
加熱後凹凸を形成すべきガラス表面に残りかすを生じさ
せないようにする上で、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウムが特に好ましい。
【０００７】前記アルカリ性の塩の水溶液には、１価ま
たは多価アルコールを含有させることができ、１価アル
コールとしてはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、ブチルアルコールなどの低級アル
コールや高級アルコールが例示でき、多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ポリエチレングリコールなどのグリコール類やグリセリ
ンが例示できる。これら水溶性の有機物質を本発明にか
かる塩を含む水溶液に添加することは、塗布液のガラス
基板との濡れ性をよくする上で好ましい。また塩の水溶
液に界面活性剤を添加することは、前記塗布液のガラス
基板との濡れ性をよくする上で好ましい。また界面活性
剤の添加は塗布液の粘度を大きくするので、塗布量を大
きくしたいときはより多くを塗布液中に含有させる。本
発明に用いられる塩の水溶液に添加することができる界
面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ
のごときアニオン系界面活性剤やカチオン系界面活性剤
、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルのごときノニオン系界面活性剤の
いずれをも用いることができる。
たは多価アルコールを含有させることができ、１価アル
コールとしてはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、ブチルアルコールなどの低級アル
コールや高級アルコールが例示でき、多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ポリエチレングリコールなどのグリコール類やグリセリ
ンが例示できる。これら水溶性の有機物質を本発明にか
かる塩を含む水溶液に添加することは、塗布液のガラス
基板との濡れ性をよくする上で好ましい。また塩の水溶
液に界面活性剤を添加することは、前記塗布液のガラス
基板との濡れ性をよくする上で好ましい。また界面活性
剤の添加は塗布液の粘度を大きくするので、塗布量を大
きくしたいときはより多くを塗布液中に含有させる。本
発明に用いられる塩の水溶液に添加することができる界
面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ
のごときアニオン系界面活性剤やカチオン系界面活性剤
、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルのごときノニオン系界面活性剤の
いずれをも用いることができる。
【０００８】本発明にかかる塩の水溶液のアルカリ性の
強さは、ガラス表面に形成される凹凸の大きさに関係し
、より大きな凹凸を得たいときにはｐＨの値を大きくな
るように調整する。
強さは、ガラス表面に形成される凹凸の大きさに関係し
、より大きな凹凸を得たいときにはｐＨの値を大きくな
るように調整する。
【０００９】本発明にかかる塗布液をガラス基板上に被
覆する方法としては、ガラス基板上に水溶液を適下する
方法、刷毛等で塗る方法、水溶液を噴霧する方法などの
公知の方法を用いることができる。また本発明の塩の水
溶液中に凹凸を表面に形成すべきガラス基板を漬けてそ
の後水溶液よりガラス基板を取り出すデイッピング法、
水溶液をガラス基板上に噴霧する方法も用いられる。水
溶液をガラス基板上に被覆するに際して、あらかじめガ
ラス表面の一部をマスキング材で被覆することによりガ
ラス表面の所定形状部分にのみ凹凸を形成することがで
きる。
覆する方法としては、ガラス基板上に水溶液を適下する
方法、刷毛等で塗る方法、水溶液を噴霧する方法などの
公知の方法を用いることができる。また本発明の塩の水
溶液中に凹凸を表面に形成すべきガラス基板を漬けてそ
の後水溶液よりガラス基板を取り出すデイッピング法、
水溶液をガラス基板上に噴霧する方法も用いられる。水
溶液をガラス基板上に被覆するに際して、あらかじめガ
ラス表面の一部をマスキング材で被覆することによりガ
ラス表面の所定形状部分にのみ凹凸を形成することがで
きる。
【００１０】本発明にかかる塩の水溶液で被覆されたガ
ラス基板を加熱するときの温度は、水溶液中に含まれる
塩の融点以上とすることが必要である。前記融点は、水
溶液中に含まれる塩が１種であるときはその塩の種類に
より定まるが、２種以上の塩が含有されている場合は、
混合塩の融点である。加熱により水、アルコール、界面
活性剤等は蒸発、分解により逸散し、さらに塩はガラス
表面上で融解してガラス表面をエッチングする。
ラス基板を加熱するときの温度は、水溶液中に含まれる
塩の融点以上とすることが必要である。前記融点は、水
溶液中に含まれる塩が１種であるときはその塩の種類に
より定まるが、２種以上の塩が含有されている場合は、
混合塩の融点である。加熱により水、アルコール、界面
活性剤等は蒸発、分解により逸散し、さらに塩はガラス
表面上で融解してガラス表面をエッチングする。
【００１１】ガラス基板上により大きな凹凸を形成する
ときは基板上の塗布液の量を多くし、加熱温度を高くす
る。塗布および加熱を窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気
中で行うことは、空気中の炭酸ガスが塗布液と接触して
塗布液のｐＨが低下するのを防止し凹凸の形成を安定し
て行う上で好ましい。
ときは基板上の塗布液の量を多くし、加熱温度を高くす
る。塗布および加熱を窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気
中で行うことは、空気中の炭酸ガスが塗布液と接触して
塗布液のｐＨが低下するのを防止し凹凸の形成を安定し
て行う上で好ましい。
【００１２】本発明の方法を用いて、ＣＳＳ方式の磁気
ディスク用ガラス基板に要求される凹凸を形成するとき
は、塩として硝酸カリウム、アルカリ性物質として水酸
化カリウムを用いるのが好ましい。
ディスク用ガラス基板に要求される凹凸を形成するとき
は、塩として硝酸カリウム、アルカリ性物質として水酸
化カリウムを用いるのが好ましい。
【００１３】本発明に用いられるガラス基板としては、
とくにその組成が限定されないが、ソーダライム組成の
フロートガラスや低膨張組成のガラス基板が例示できる
。本発明の方法は、太陽電池用のガラス基板表面の微細
な凹凸の形成や、ガラス表面の反射率を低下させる無反
射処理を行う方法としても用いることが出来る。
とくにその組成が限定されないが、ソーダライム組成の
フロートガラスや低膨張組成のガラス基板が例示できる
。本発明の方法は、太陽電池用のガラス基板表面の微細
な凹凸の形成や、ガラス表面の反射率を低下させる無反
射処理を行う方法としても用いることが出来る。
【００１４】
【作用】本発明にかかる塗布液中の塩は、アルカリ性物
質の存在下の溶融状態でガラス表面と接触することによ
りガラスをエッチングする。
質の存在下の溶融状態でガラス表面と接触することによ
りガラスをエッチングする。
【００１５】
【実施例】以下に実施例に基づいて本発明を説明する。
図１は本発明の方法を用いて形成されたガラス基板の凹
凸を説明するための図で、図１（ａ）はガラス基板の平
面図、図１（ｂ）は断面図である。ガラス基板１の表面
にくぼんだ凹凸形成部２が多数形成されている。
凸を説明するための図で、図１（ａ）はガラス基板の平
面図、図１（ｂ）は断面図である。ガラス基板１の表面
にくぼんだ凹凸形成部２が多数形成されている。
【００１６】実施例
ソーダライム組成のフロートガラス板を研磨し、酸化セ
リウム粉末を用いてその表面を平滑にポリッシュした。 このガラスのポリッシュした片面に、硝酸カリウム
２０重量％、水酸化カリウム０．１重量％およびエチル
アルコール１０重量％の水溶液からなる塗布液を薄く塗
布した。このガラス板を窒素ガスを流しながら４２０℃
に加熱した電気炉内の入口にいれ３分間で水およびアル
コールを気化して乾燥した後、つぎに電気炉内の中心部
にガラス板を移動させ４２０℃で５分間加熱した。ガラ
ス板を取り出して冷却し、洗浄し乾燥した。このガラス
板表面を走査型電子顕微鏡で観察した結果、図１に示す
ように表面には直径０．１μｍ程度の凹部が多数ほぼ均
一に形成されていることが認められた。形成された凹凸
の平均粗さＲａを走査型電子顕微鏡により測定した結果
、約４ｎｍであった。図１に示すような表面の凹凸が凹
部と平坦部から形成され突起部がないことは、磁気ディ
スク基板として使用するときに良いＣＳＳ特性が得られ
る。また平均粗さが約４ｎｍであることは良いＣＳＳ特
性が得られる大きさである。
リウム粉末を用いてその表面を平滑にポリッシュした。 このガラスのポリッシュした片面に、硝酸カリウム
２０重量％、水酸化カリウム０．１重量％およびエチル
アルコール１０重量％の水溶液からなる塗布液を薄く塗
布した。このガラス板を窒素ガスを流しながら４２０℃
に加熱した電気炉内の入口にいれ３分間で水およびアル
コールを気化して乾燥した後、つぎに電気炉内の中心部
にガラス板を移動させ４２０℃で５分間加熱した。ガラ
ス板を取り出して冷却し、洗浄し乾燥した。このガラス
板表面を走査型電子顕微鏡で観察した結果、図１に示す
ように表面には直径０．１μｍ程度の凹部が多数ほぼ均
一に形成されていることが認められた。形成された凹凸
の平均粗さＲａを走査型電子顕微鏡により測定した結果
、約４ｎｍであった。図１に示すような表面の凹凸が凹
部と平坦部から形成され突起部がないことは、磁気ディ
スク基板として使用するときに良いＣＳＳ特性が得られ
る。また平均粗さが約４ｎｍであることは良いＣＳＳ特
性が得られる大きさである。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば磁気記録媒体用のガラス
基板に適した表面凹凸を短時間でガラス基板表面に形成
することが出来る。
基板に適した表面凹凸を短時間でガラス基板表面に形成
することが出来る。
【００１８】
【図１】本発明の方法を用いて形成されたガラス基板の
凹凸を説明するための図。
凹凸を説明するための図。
Claims (3)
- 【請求項１】ガラス基板の一部又は全部を１価の陽イオ
ンの硝酸塩、２価の陽イオンの硝酸塩、１価の陽イオン
の硫酸塩、２価の陽イオンの硫酸塩の少なくとも１種を
含むアルカリ性水溶液からなる塗布液で被覆し、その後
前記塗布液で被覆されているガラス基板を前記塗布液に
含まれる塩の融点以上に加熱することによりガラス基板
表面に凹凸を形成する方法。 - 【請求項２】前記水溶液が、１価または２価の陽イオン
の水酸化物、１価または２価の陽イオンの炭酸塩、１価
または２価の陽イオンの重炭酸塩の群から選ばれた少な
くとも１種が添加されてアルカリ性に調製されているこ
とを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】前記水溶液がｐＨ１０以上に調整されてい
ることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10395091A JPH04310542A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | ガラス表面に凹凸を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10395091A JPH04310542A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | ガラス表面に凹凸を形成する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04310542A true JPH04310542A (ja) | 1992-11-02 |
Family
ID=14367701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10395091A Pending JPH04310542A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | ガラス表面に凹凸を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04310542A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010139722A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | Agc Glass Europe | Dry method for surface treatment |
| WO2010139721A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | Agc Glass Europe | Glass treating method |
-
1991
- 1991-04-09 JP JP10395091A patent/JPH04310542A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010139722A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | Agc Glass Europe | Dry method for surface treatment |
| WO2010139721A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | Agc Glass Europe | Glass treating method |
| CN102459107A (zh) * | 2009-06-03 | 2012-05-16 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 玻璃处理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6550278B2 (en) | Method of manufacturing glass substrate for use as information recording medium | |
| JP2003036528A (ja) | 情報記録媒体用基板及びその製造方法、並びに情報記録媒体 | |
| US5902665A (en) | Glass substrate for magnetic disks | |
| US4218230A (en) | Method of glass strengthening by ion exchange | |
| JP5564744B2 (ja) | 表面処理ガラス板の製造方法 | |
| JPH04310542A (ja) | ガラス表面に凹凸を形成する方法 | |
| US4762736A (en) | Process for forming a coating | |
| US7415841B2 (en) | Method for producing chemically strengthened glass substrate for information recording medium | |
| JPS60131851A (ja) | リン酸塩レ−ザガラスの耐熱衝撃強度を増加させる方法 | |
| JP2917480B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 | |
| JPH0158135B2 (ja) | ||
| KR100532159B1 (ko) | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 | |
| JPH02285508A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP4008219B2 (ja) | 研磨材 | |
| JPH04275950A (ja) | 基板面への微細凹凸形成法 | |
| WO2006106627A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2617490B2 (ja) | 焼入剤 | |
| JPS639004B2 (ja) | ||
| JP2998953B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP3737322B2 (ja) | ガラス器の模様形成方法 | |
| JPH03113823A (ja) | 記録ディスク基板及びその製造方法 | |
| JP4059285B2 (ja) | 非晶質材料の加工方法 | |
| CN115028185B (zh) | 一种玉米棒状氧化铈及其制备方法和应用 | |
| JP2001084578A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| WO1999032414A1 (en) | Process for producing glass substrate for information recording medium and information recording medium containing glass substrate produced by the process |