JPH04311575A - マグネシウム合金への表面処理下地調整方法 - Google Patents
マグネシウム合金への表面処理下地調整方法Info
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- JPH04311575A JPH04311575A JP7511191A JP7511191A JPH04311575A JP H04311575 A JPH04311575 A JP H04311575A JP 7511191 A JP7511191 A JP 7511191A JP 7511191 A JP7511191 A JP 7511191A JP H04311575 A JPH04311575 A JP H04311575A
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- JP
- Japan
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- sodium
- plating
- cyanide
- copper
- magnesium alloy
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、マグネシウム合金上
に所要の金属の膜をコーティングする場合の表面処理下
地調整方法に関するものである。
に所要の金属の膜をコーティングする場合の表面処理下
地調整方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知の通り、マグネシウム合金は現在の
実用金属の中では比重が最も小さいことから軽量化が必
要な宇宙機器等への応用が中心に行われている。かかる
応用の中で宇宙機器搭載用電子機器の筺体に使用する場
合には、耐侯性及び電気伝導性を向上させる為に、その
表面に銅、又は、金のような金属をコーティングするこ
とが必要となる。かかるマグネシウム合金の表面処理方
法としては、従来、ＪＩＳ−Ｈ−８６５１によるクロム
酸を使用した化学被膜処理及び陽極処理が採用されてい
た。
実用金属の中では比重が最も小さいことから軽量化が必
要な宇宙機器等への応用が中心に行われている。かかる
応用の中で宇宙機器搭載用電子機器の筺体に使用する場
合には、耐侯性及び電気伝導性を向上させる為に、その
表面に銅、又は、金のような金属をコーティングするこ
とが必要となる。かかるマグネシウム合金の表面処理方
法としては、従来、ＪＩＳ−Ｈ−８６５１によるクロム
酸を使用した化学被膜処理及び陽極処理が採用されてい
た。
【０００３】しかし、化学被膜処理方法は得られる被膜
が数μｍ以下と薄いことから耐侯性が悪く、又、被膜の
電気伝導性が母材よりも劣るという欠点があった。又、
陽極処理方法により得られる被膜が酸化膜てあるため、
耐侯性は優れているものの母材表面の電気伝導性が失わ
れるという欠点があった。
が数μｍ以下と薄いことから耐侯性が悪く、又、被膜の
電気伝導性が母材よりも劣るという欠点があった。又、
陽極処理方法により得られる被膜が酸化膜てあるため、
耐侯性は優れているものの母材表面の電気伝導性が失わ
れるという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来は
マグネシウム合金上へ直接金属層をコーティングさせる
研究は少なかった。これはマグネシウム合金が化学的に
非常に活性であるため、例えば多少工夫した常法による
アルミニウム合金へのめっきの下地調整処理を行ってい
る間にも表面の酸化がすすみめっき被膜を形成はするが
、密着性、耐侯性の面で劣り信頼性が低いものであるた
めであった。
マグネシウム合金上へ直接金属層をコーティングさせる
研究は少なかった。これはマグネシウム合金が化学的に
非常に活性であるため、例えば多少工夫した常法による
アルミニウム合金へのめっきの下地調整処理を行ってい
る間にも表面の酸化がすすみめっき被膜を形成はするが
、密着性、耐侯性の面で劣り信頼性が低いものであるた
めであった。
【０００５】この発明は上記の問題点を解決するために
なされたものであり、マグネシウム合金上に密着性が良
く、電気伝導性が優れ、耐侯性が向上できる所要の金属
の膜を形成する為の表面処理下地調整方法を提供するこ
とにある。
なされたものであり、マグネシウム合金上に密着性が良
く、電気伝導性が優れ、耐侯性が向上できる所要の金属
の膜を形成する為の表面処理下地調整方法を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係わるマグネ
シウム合金上への表面処理下地調整方法は、鋭意検討を
重ねた結果マグネシウム合金から成る物品を常法により
蒸気脱脂、アルカリ脱脂、酸洗い及び活性化処理を行い
、次いで硫酸亜鉛とピロリン酸ナトリウムとフッ化ナト
リウムと炭酸ナトリウムから成る亜鉛置換処理液中で所
要の温度、時間をかけて浸漬処理を行い、次いでシアン
化銅とシアン化ナトリウムと炭酸ナトリウムと酒石酸ナ
トリウムカリウムとから成るめっき浴を使用して所要の
温度、時間をかけて銅ストライクめっきを行い、次いで
シアン化銅とシアン化ナトリウムと酒石酸ナトリウムカ
リウムとから成るめっき浴を使用して所要の膜厚の銅め
っきを行うことにより、密着性が優れ、耐侯性及び電気
伝導性を向上することができる、マグネシウム合金上へ
の表面処理下地調整方法を見い出した。
シウム合金上への表面処理下地調整方法は、鋭意検討を
重ねた結果マグネシウム合金から成る物品を常法により
蒸気脱脂、アルカリ脱脂、酸洗い及び活性化処理を行い
、次いで硫酸亜鉛とピロリン酸ナトリウムとフッ化ナト
リウムと炭酸ナトリウムから成る亜鉛置換処理液中で所
要の温度、時間をかけて浸漬処理を行い、次いでシアン
化銅とシアン化ナトリウムと炭酸ナトリウムと酒石酸ナ
トリウムカリウムとから成るめっき浴を使用して所要の
温度、時間をかけて銅ストライクめっきを行い、次いで
シアン化銅とシアン化ナトリウムと酒石酸ナトリウムカ
リウムとから成るめっき浴を使用して所要の膜厚の銅め
っきを行うことにより、密着性が優れ、耐侯性及び電気
伝導性を向上することができる、マグネシウム合金上へ
の表面処理下地調整方法を見い出した。
【０００７】
【作用】この発明のマグネシウム合金上への表面処理下
地調整方法は、化学的に非常に活性なマグネシウム合金
と銅ストライクめっき層の双方に対して密着性が良好で
、かつ、銅ストライクめっきを行うまでの時間に安定し
た被膜を形成することを特徴とした亜鉛置換処理方法を
行い、次いで亜鉛置換被膜と密着性の良好な銅ストライ
クめっきを施し、次いで銅ストライクめっき層密着性が
良好で、耐侯性を確保するために必要な膜厚の銅めっき
を施すことにより密着性が優れ、耐侯性及び電気伝導性
を向上させる、マグネシウム合金上への表面処理下地調
整方法が可能となるものである。
地調整方法は、化学的に非常に活性なマグネシウム合金
と銅ストライクめっき層の双方に対して密着性が良好で
、かつ、銅ストライクめっきを行うまでの時間に安定し
た被膜を形成することを特徴とした亜鉛置換処理方法を
行い、次いで亜鉛置換被膜と密着性の良好な銅ストライ
クめっきを施し、次いで銅ストライクめっき層密着性が
良好で、耐侯性を確保するために必要な膜厚の銅めっき
を施すことにより密着性が優れ、耐侯性及び電気伝導性
を向上させる、マグネシウム合金上への表面処理下地調
整方法が可能となるものである。
【０００８】
【実施例】実施例１．以下において実施例を揚げ、この
発明を更に詳しく説明する。図１に示すめっき被膜の断
面図を利用して説明すると１はマグネシウム合金、２は
亜鉛置換被膜、３は銅ストライクめっき層、４は銅めっ
き層である。
発明を更に詳しく説明する。図１に示すめっき被膜の断
面図を利用して説明すると１はマグネシウム合金、２は
亜鉛置換被膜、３は銅ストライクめっき層、４は銅めっ
き層である。
【０００９】先ず、マグネシウム合金から成る物品を常
法により蒸気脱脂、アルカリ脱脂、酸洗い及び活性化処
理を行い、次いで硫酸亜鉛（７水塩）０．１０モル／１
、ピロリン酸ナトリウム（１０水塩）０．２６モル／１
、フッ化ナトリウム０．１２モル／１、炭酸ナトリウム
（１０水塩）０．０２モル／１から成る水溶液中で６５
〜７０℃の温度で５〜７分間浸漬処理を行いマグネシウ
ム合金上に亜鉛置換被膜２を形成させる。この場合、上
記、処理温度及び浸漬時間の範囲を外れた条件で亜鉛置
換処理を行うと亜鉛置換被膜２と銅ストライクめっき層
３の層間で密着不良が発生する。
法により蒸気脱脂、アルカリ脱脂、酸洗い及び活性化処
理を行い、次いで硫酸亜鉛（７水塩）０．１０モル／１
、ピロリン酸ナトリウム（１０水塩）０．２６モル／１
、フッ化ナトリウム０．１２モル／１、炭酸ナトリウム
（１０水塩）０．０２モル／１から成る水溶液中で６５
〜７０℃の温度で５〜７分間浸漬処理を行いマグネシウ
ム合金上に亜鉛置換被膜２を形成させる。この場合、上
記、処理温度及び浸漬時間の範囲を外れた条件で亜鉛置
換処理を行うと亜鉛置換被膜２と銅ストライクめっき層
３の層間で密着不良が発生する。
【００１０】次いで、水洗後、シアン化銅０．４５モル
／１、シアン化ナトリウム０．９２モル／１、炭酸ナト
リウム０．１１モル／１、酒石酸ナトリウムカリウム０
．１９モル／１とから成る組成のめっき浴を使用して、
最初の３０秒間は陰極電流密度０．５Ａ／ｄｍ２ で、
次に陰極電流密度１．８Ａ／ｄｍ２ で５分間の間、銅
ストライクめっき３を行う。この場合、上記、組成のめ
っき浴以外、例えばピロリン酸浴、フッ化浴等を使用し
て銅ストライクめっき３を行うと亜鉛置換被膜２と銅ス
トライクめっき３の層間で密着不良が発生する。
／１、シアン化ナトリウム０．９２モル／１、炭酸ナト
リウム０．１１モル／１、酒石酸ナトリウムカリウム０
．１９モル／１とから成る組成のめっき浴を使用して、
最初の３０秒間は陰極電流密度０．５Ａ／ｄｍ２ で、
次に陰極電流密度１．８Ａ／ｄｍ２ で５分間の間、銅
ストライクめっき３を行う。この場合、上記、組成のめ
っき浴以外、例えばピロリン酸浴、フッ化浴等を使用し
て銅ストライクめっき３を行うと亜鉛置換被膜２と銅ス
トライクめっき３の層間で密着不良が発生する。
【００１１】次いで、水洗後、シアン化銅０．８０モル
／１、シアン化ナトリウム１．７０モル／１、酒石酸ナ
トリウムカリウム０．１３モル／１とから成る組成のめ
っき浴を使用して２５μｍ以上の膜厚の銅めっき４を行
う。この場合、上記、めっき浴以外、例えばピロリン酸
浴、硫酸浴、硼フッ化浴等を使用してめっき４を行うと
銅ストライクめっき３と銅めっき４の層間で密着不良が
発生する。更に、上記、めっき浴を使用した場合でも銅
めっき４の膜厚が２５μｍ未満であると耐侯性が悪くな
ることが確認された。
／１、シアン化ナトリウム１．７０モル／１、酒石酸ナ
トリウムカリウム０．１３モル／１とから成る組成のめ
っき浴を使用して２５μｍ以上の膜厚の銅めっき４を行
う。この場合、上記、めっき浴以外、例えばピロリン酸
浴、硫酸浴、硼フッ化浴等を使用してめっき４を行うと
銅ストライクめっき３と銅めっき４の層間で密着不良が
発生する。更に、上記、めっき浴を使用した場合でも銅
めっき４の膜厚が２５μｍ未満であると耐侯性が悪くな
ることが確認された。
【００１２】以上、述べてきたようにマグネシウム合金
から成る物品に本発明による表面処理下地調整方法を施
した後、常法により例えば２．５μｍ以上の金めっきを
施すことにより、目的とする密着性が良好で耐侯性が優
れているコーティング層をマグネシウム合金へ付与する
ことができる。
から成る物品に本発明による表面処理下地調整方法を施
した後、常法により例えば２．５μｍ以上の金めっきを
施すことにより、目的とする密着性が良好で耐侯性が優
れているコーティング層をマグネシウム合金へ付与する
ことができる。
【００１３】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明によれ
ば実用金属で最も軽量なマグネシウム合金上に高周波特
性を向上させる為の金、銀めっきコーティングを、又、
はんだ付性を向上させる為の金、錫めっきコーティング
を、更に、耐侯性を向上させる為のニッケル、錫めっき
コーティングを付与する為の下地調整方法として高い信
頼性を保証することが出来る。このことから、例えば宇
宙機器搭載用電子機器へのマグネシウム合金の採用が可
能となり、上記、機器の軽量化、小型化の要求に答えら
れるものである。
ば実用金属で最も軽量なマグネシウム合金上に高周波特
性を向上させる為の金、銀めっきコーティングを、又、
はんだ付性を向上させる為の金、錫めっきコーティング
を、更に、耐侯性を向上させる為のニッケル、錫めっき
コーティングを付与する為の下地調整方法として高い信
頼性を保証することが出来る。このことから、例えば宇
宙機器搭載用電子機器へのマグネシウム合金の採用が可
能となり、上記、機器の軽量化、小型化の要求に答えら
れるものである。
【図１】この発明の実施例１を示す断面図である。
１ マグネシウム合金
２ 亜鉛置換被膜
３ 銅ストライクめっき
４ 銅めっき
Claims (1)
- 【請求項１】 マグネシウム合金から成る物品に、常
法により蒸気脱脂、アルカリ脱脂、酸洗い及び活性化処
理を実施し、次いで、硫酸亜鉛とピロリン酸ナトリウム
とフッ化ナトリウムと炭酸ナトリウムから成る溶液中で
６５〜７０℃の温度で、５〜７分間浸漬して亜鉛置換処
理を行い、次いで、シアン化銅とシアン化ナトリウムと
炭酸ナトリウムと酒石酸カリウムナトリウムとから成る
めっき浴を使用して、銅ストライクめっきを行い、次い
で、シアン化銅とシアン化ナトリウムと酒石酸カリウム
ナトリウムとから成るめっき浴を使用して、銅めっきを
２５μｍ以上行うことを特徴とするマグネシウム合金へ
の表面処理下地調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7511191A JPH04311575A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | マグネシウム合金への表面処理下地調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7511191A JPH04311575A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | マグネシウム合金への表面処理下地調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04311575A true JPH04311575A (ja) | 1992-11-04 |
Family
ID=13566741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7511191A Pending JPH04311575A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | マグネシウム合金への表面処理下地調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04311575A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009504923A (ja) * | 2005-08-17 | 2009-02-05 | マクダーミッド インコーポレーテッド | マグネシウム基板の電気めっき前処理 |
| CN102634805A (zh) * | 2012-05-04 | 2012-08-15 | 西南大学 | 一种表面具有超疏水膜层的镁合金的制备方法 |
| JP2013508553A (ja) * | 2009-10-22 | 2013-03-07 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 |
-
1991
- 1991-04-08 JP JP7511191A patent/JPH04311575A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009504923A (ja) * | 2005-08-17 | 2009-02-05 | マクダーミッド インコーポレーテッド | マグネシウム基板の電気めっき前処理 |
| JP2013508553A (ja) * | 2009-10-22 | 2013-03-07 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | マグネシウムおよびマグネシウム合金基材の改良されたジンケート処理のための組成物および方法 |
| CN102634805A (zh) * | 2012-05-04 | 2012-08-15 | 西南大学 | 一种表面具有超疏水膜层的镁合金的制备方法 |
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