JPH04313212A - 半導体ウエハの搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハの搬送
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図４は、従来のクリーンルーム内に設置
された半導体ウエハの搬送装置を示す概略構成図である
。

【０００３】図において、２はクリーンルーム、４は複
数枚の半導体ウエハ６をウエハカセット８に装填した状
態で搬送するためのウエハ搬送装置、１０は生産装置、
１２はウエハ搬送装置４と生産装置１０との間でウエハ
カセット８をやりとりするトラバース装置である。ウエ
ハ搬送装置４、生産装置１０、トラバース装置１２はク
リーンルーム２内に設置されている。

【０００４】次に動作について説明する。例えば、前工
程で処理された半導体ウエハ６が装填されたウエハカセ
ット８は、ウエハ搬送装置４によって搬送されてきて、
トラバース装置１２によりウエハ搬送装置４から生産装
置１０に向けて送り込まれる。生産装置１０で所定の処
理を受けた半導体ウエハ６を装填したウエハカセット８
は、トラバース装置１２により生産装置１０からウエハ
搬送装置４に向けて送り出され、ウエハ搬送装置４によ
って次の工程へと搬送される。

【０００５】ウエハ搬送装置４から生産装置１０への搬
送、あるいはその逆方向の搬送を作業者１４が行う場合
もある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来のウエハ搬送装置
４は、上記のようにクリーンルーム２内に設けられてい
るが、クリーンルーム２自体に対しては露出しているた
め、もしも、クリーンルーム２に設けられたフィルタ（
図示せず）でのリークや、作業者１４による発塵等によ
ってクリーンルーム２内が汚染されると、半導体ウエハ
６の表面に汚染物質が付着してしまい、半導体ウエハ６
の生産において歩留まりが低下するという問題があった
。

【０００７】この発明は、上記のような問題点を解消す
るために創案されたものであって、歩留まりの向上を図
ることができる半導体ウエハの搬送装置を得ることを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体ウ
エハの搬送装置は、クリーンルーム内に設置されており
、かつ、そのウエハ搬送経路をダクトで覆ってあるとと
もに、そのダクト内を不活性雰囲気にしてあることを特
徴とするものである。

【０００９】

【作用】ウエハ搬送経路をダクトで覆い、内部を不活性
雰囲気にしてあるので、たとえクリーンルームが汚染さ
れたとしても、その塵が直接ウエハ搬送経路に侵入する
のを防止することはもちろん、ダクトの隙間から侵入す
るのも内外圧力差によって防止する。

【００１０】

【実施例】以下、この発明の一実施例を図面に基づいて
説明する。

【００１１】図１は、クリーンルーム内におけるウエハ
搬送装置を示す概略構成図である。

【００１２】図１において、２０は半導体ウエハ、２２
は複数枚の半導体ウエハ２０を装填しているウエハカセ
ット、２４はウエハカセット２２のステーション、２６
は生産装置、２８はステーション２４と生産装置２６と
の間を結ぶウエハ搬送経路、３０はウエハ搬送経路２８
を覆うダクト、３２は生産装置２６およびその周辺各装
置を設置しているクリーンルームである。

【００１３】図２は、ダクト３０の内部の構造を示す断
面図である。ダクト３０の内部には、半導体ウエハ２０
を装填したウエハカセット２２を搬送するためのベルト
コンベア３４が配設されている。ダクト３０の内部は不
活性雰囲気となるよう、ダクト３０に対して窒素ガスな
どの不活性ガスが供給されるようになっている（図３で
説明する）。３６ａはダクト３０に連通接続された排気
枝管、５２ａは同様に接続された供給枝管である。

【００１４】図３は、ダクト３０に対する不活性ガスの
吸排気経路を示す流れ図である。図３において、３８は
不活性ガスボンベ、４０は温度調整用コイル、４２はフ
ィルタ、４４は循環用ファン、４６は逆止弁であり、４
８は循環系、５０は不活性ガス供給のバックアップ系を
示す。

【００１５】不活性ガスボンベ３８から温度調整用コイ
ル４０、フィルタ４２および逆止弁４６ａを介して不活
性ガス供給管５２に不活性ガスを注入供給する。不活性
ガス供給管５２からは、複数の供給枝管５２ａおよび逆
止弁４６ｂを介してダクト３０に不活性ガスを供給する
。この不活性ガスは、温度調整用コイル４０によって所
定の一定温度に維持されるとともに、フィルタ４２によ
って極微細な塵が除去された高清浄度を保っている。

【００１６】ダクト３０内において不活性ガスは流動し
、一部が複数の排気枝管３６ａおよび逆止弁４６ｃを介
して排気管３６に至り、さらに、循環用ファン４４へと
吸引される。

【００１７】半導体ウエハ２０を装填したウエハカセッ
ト２２はウエハ搬送経路２８を形成しているベルトコン
ベア３４によってステーション２４から次工程の生産装
置２６へと搬入される。ウエハ搬送経路２８はダクト３
０によって覆われ、そのダクト３０内は一定温度で高清
浄度を保った不活性雰囲気となっている。

【００１８】したがって、たとえ、ダクト３０の外部で
あるクリーンルーム３２内で汚染が発生したとしても、
その汚染物質がウエハ搬送経路２８に侵入することはダ
クト３０によって防止される。ダクト３０に隙間があっ
たとしても、ダクト３０の内部圧力は外部圧力（クリー
ンルーム３２内の圧力）よりも高いため、ダクト３０か
らクリーンルーム３２側への漏れはあっても、クリーン
ルーム３２からダクト３０内へのエアの侵入はない。そ
のため、高清浄な不活性雰囲気下で半導体ウエハ２０を
搬送することができ、クリーンルーム３２での汚染発生
にもかかわらず半導体ウエハ２０に汚染物質が付着する
ことを確実に防止する。

【００１９】ダクト３０の内部では主にベルトコンベア
３４の駆動部において発塵の可能性がある。しかし、循
環用ファン４４を常時的に駆動してベルトコンベア３４
の下方の排気枝管３６ａから排気管３６を介して連続的
に排気しているので、ベルトコンベア３４の駆動部など
ダクト３０内で発生した塵なども半導体ウエハ２０に接
触させることなく確実に排出することができる。その塵
は循環系４８におけるフィルタ４２によって除去される
。また、循環用ファン４４によって不活性ガス供給管５
２からダクト３０、排気管３６へと循環する不活性ガス
は、循環系４８における温度調整用コイル４０によって
所定の一定温度に維持されるとともに、フィルタ４２に
よって高清浄度に維持される。

【００２０】不活性ガスの供給系および循環系の要所に
逆止弁４６を設けることで、不安定な圧力変動が発生し
ても、不活性ガスの流れの逆流を防止し、ダクト３０内
が汚染されるのを確実に防止する。

【００２１】以上によって、ウエハカセット２２に装填
されてベルトコンベア３４によって搬送される半導体ウ
エハ２０は、汚染物質の付着が確実に防止され、高清浄
度を保った状態で搬送されることになり、半導体ウエハ
２０の生産の歩留まりを向上することができる。

【００２２】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウエハ
搬送経路をダクトで覆った上に、ダクト内を不活性雰囲
気にしてあるので、クリーンルームが汚染されても、そ
の汚染による悪影響がウエハ搬送経路にまで及んでくる
こと、すなわち、ウエハに塵などの異物が付着すること
を確実に防止でき、ウエハ生産の歩留まりを向上させる
ことができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るクリーンルーム内に設
置された半導体ウエハ搬送装置を示す概略構成図である
。

【図２】実施例に係るダクトの内部の構造を示す断面図
である。

【図３】実施例に係るダクトに対する不活性ガスの吸排
気経路を示す流れ図である。

【図４】従来例に係るクリーンルーム内に設置された半
導体ウエハ搬送装置を示す概略構成図である。

【符号の説明】

２０　　　　半導体ウエハ　　　　　　　　　　３６　
　　　排気管２２　　　　ウエハカセット　　　　　　
　　３６ａ　　排気枝管２８　　　　ウエハ搬送経路　
　　　　　　　３８　　　　不活性ガスボンベ ３０　　　　ダクト　　　　　　　　　　　　　　　　
４０　　　　温度調整用コイル ３２　　　　クリーンルーム　　　　　　　　４２　　
　　フィルタ３４　　　　ベルトコンベア　　　　　　
　　４４　　　　循環用ファン４６　　　　逆止弁

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　クリーンルーム内に設置されており、
   かつ、そのウエハ搬送経路をダクトで覆ってあるととも
   に、そのダクト内を不活性雰囲気にしてあることを特徴
   とする半導体ウエハの搬送装置。