JPH0431338A - ガラスおよび磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ガラスと、フロッピーディスク、ハードディ
スク、各種磁気テープ等の磁気記録媒体用の磁気ヘッド
とに関する。

〈従来の技術〉 第１図に示されるように、一対のフェライト製コア１．
２をギャップ５を介して接合し、補強ガラス３により溶
着一体止した磁気ヘッドが知られている。

また、第４図に示されるように、一対のフェライト製コ
ア１．２をギャップ５を介して接合したコアブロック６
を、スライダー８にシールガラス７により封着し、固定
したコンポジットタイプの磁気ヘッドが知られている。

これらの磁気ヘッドを製造するに際しては、図示するよ
うに、コア同士の接合に補強ガラス３を用い、コアブロ
ック６とスライダー８との接合にシールガラス７を用い
る。

これらのガラスは、接合する部材と熱膨張率のマツチン
グがとれていることが必要である。　接合する部材の材
質にもよるが、例えばＭｎ−Ｚｎフェライトを接合する
場合、一般に９０〜１１０ｘ　１０−’ｄｅｇ−’の熱
膨張係数を有することが必要である。

また、シールガラス７や補強ガラス３の組成としては、
高鉛ガラスが一般に使用されている。

そして、ガラス溶着を２度以上行なう場合、すなわち、
例えば第４図に示されるコンポジットタイプの磁気ヘッ
ドを製造する場合、−度目の溶着（１吹溜看）で補強ガ
ラス３によりコア同士を接合してコアブロック６を形成
し、２度目の溶着（２次溶りでコアブロック６とスライ
ダー８とをシールガラス７により接合する。

この場合、１次溶着に用いる補強ガラス３の粘性特性は
、１次溶着により形成されたヘッドギャップ部が２次溶
着の際に動かないように選択される必要がある。　この
ため、シールガラス７等の２次溶着以後に使用されるガ
ラスは、１吹溜蓄に用いられる補強ガラス３よりも低融
点のガラスが使われる。

いずれの場合も、上記熱特性の他に、磁気ヘッドとして
の信頼性を高めるため、優れた化学的耐久性が要求され
る。

特に、大きい面積でガラス部が露出する場合、例えば第
１図〜第３図および第５図に示される構成を有する磁気
ヘッドの補強ガラス３や第４図に示されるコンポジット
ヘッドのシールガラス７には、より一層優れた化学的耐
久性が要求される。

また、ＭＩＧ型磁気ヘッドにおいては、磁性合金薄膜と
ガラスの高い接着強度が要求される。　一般に、ガラス
は磁性合金薄膜との界面で還元され易く、このため、接
着強度が得られず剥離してしまう。　従って、ガラスに
は十分な耐還元性が必要である。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、−船釣に用いられている鉛ガラス等の低融点ガ
ラス（作業温度Ｔｗ＜〜７５０℃）は、上記熱特性を保
ち、かつ化学的耐久性を高めようとする組成操作を行う
と、ガラス化する組成範囲が狭くなる傾向があり、また
失透する場合が多い。

加えて、ガラス化しても、ガラス安定性が低くなる傾向
があり、磁気ヘッド用ガラスとしては使用困難となる場
合が多い。

つまり、従来知られている低融点ガラスにより、一対の
フェライト製コア１．２を溶着したり、あるいはスライ
ダー８にコアブロック６を固定封着しても、化学的耐久
性やガラス安定性が不十分である。

このため、磁気ヘッド保存中や使用中に、補強ガラス３
の変色や腐食等が生じ、また、コンポジットタイプの磁
気ヘッドでは、シールガラス７の表面の風化、腐食等に
より、フロント面に凹部が生じるなどし、磁気ヘッドの
信頼性が低下し、外観不良の問題も生じる。　加えて、
風化や腐食等によって生じた異物が、磁気記録媒体に付
着したり、記録されているデータに悪影響をおよぼす。

また、フェライト製コア１．２のギャップ部対向面に磁
性合金薄膜４を有するメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ
）型の磁気ヘッドの場合は、磁性合金薄膜４と、補強ガ
ラス３との溶着熱処理の際の反応で、界面部のガラスが
還元され易い。

このため磁性合金薄膜４と、補強ガラス３との界面部に
ガラス中の金属成分が析出し易（、そのため界面での剥
離が生じ、生産歩留りが低下し、さらに磁気ヘッドの外
観不良の問題が生じたりする。

さらに、従来の低融点ガラスは、ガラスの耐還元性が不
十分なため、溶着ないし封着可能な温度幅が５°ｄｅｇ
程度と厳しい。

このため、融着ないし封着条件のシビアなコントロール
が必要であり、量産上、非常に不利である。

本発明の目的は、特に磁気ヘッド用に用いたとき、所定
の熱的特性を有し、かつ化学的耐久性に優れ、ガラス化
範囲が広く、ガラス安定性が高（、しかもＭＩＧ型磁気
ヘッドの製造の際、磁性合金薄膜との反応により還元さ
れないガラスと、このようなガラスを用いた信頼性が高
く、外観上問題がない磁気ヘッドとを提供することにあ
る。

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記（１）〜（４）の本発明によっ
て達成される。

（１）ＳｉＯ，を１０〜３５重量％、Ｂ、Ｏ。

を０〜１０重量％、ＣｄＯを１〜１５重量％、Ｔｅｎｔ
を０．５〜１５重量％、Ｔｊ２．Ｏを１〜１５重量％、
Ｂｉ２Ｏ５を１〜１５重量％、Ｌｉ＊　０１Ｎａ、Ｏ，
に、ＯおよびＲｂ２０から選ばれる１種以上を１〜１８
重量％、Ａ℃友０３を０〜５重量％、ＺｎＯを０〜６重
量％、Ａｓｓ　Ｏｓを０〜０．５重量％含有し、残部Ｐ
ｂＯであることを特徴とするガラス。

（２）一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
合わせ、補強ガラスにより溶着一体化した磁気ヘッドで
あって、 前記補強ガラスが、上記（１）に記載のガラスであるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。

（３）一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
合わせ、補強ガラスにより溶着一体化したコアブロック
を、スライダーにシールガラスにより固定封着した磁気
ヘッドであって、前記補強ガラスおよび／またはシール
ガラスが、上記（１）に記載のガラスであることを特徴
とする磁気ヘッド。

（４）前記補強ガラスが、上記（１）に記載のガラスで
あり、前記シールガラスが、Ｓｉｎ。

を２〜３３重量％、Ｂａ　Ｏｓを１〜１５重量％、Ｃｄ
Ｏを１〜１５重量％、Ｔ　ｅ　Ｏ＊を０．５〜１５重量
％、Ｔｌ２Ｏを１〜１５重量％、ＢｉｔＯｎを１〜１５
重量％、Ａｌ２ｇ　Ｏｘを０〜５重量％およびＺｎＯを
０〜６重量％含有し、残部ＰｂＯである上記（３）に記
載の磁気ヘッド。

（５）前記一対のフェライト製コア間のギャップ部に磁
性合金薄膜を形成した上記（２）ないしく４）のいずれ
かに記載の磁気ヘッド。

〈作用〉 本発明のガラスは、Ｓｉ　Ｏｘのネットワーク形成物質
と、Ｃｄ０１７４２．ＯｌＴ　ｅ　Ｏ２、ＢｉｔＯｎお
よびＰｂＯの５種の修飾成分とを含有し、さらにアルカ
リ金属酸化物を含有するガラスである。

Ｓｉｎ、と、前記５種の修飾成分と、アルカリ金属酸化
物とを所定量含有させることにより、特に、磁気ヘッド
の各部材の接合に用いられる補強ガラスやシールガラス
に適した熱膨張係数や粘度婢の熱的特性を有し、耐還元
性および化学的耐久性が高く、しがもガラス化範囲が広
く、ガラス安定性が高いガラスが実現すまた、本発明の
磁気ヘッドは、各部材の接合に用いられるガラス、例え
ば、コア同士の接合（以下、溶着という。）に用いられ
る補強ガラスやコアブロックとスライダーとの接合（以
下、封着という。）に用いられるシールガラスとして、
前記本発明のガラスを適用したものである。

補強ガラスとしてこのようなガラスを用いた本発明の磁
気ヘッドは、そのガラス部の化学的耐久性が優れている
ため、磁気ヘッドとしての信頼性が向上する。

加えて、補強ガラスとしてＭＩＧ型磁気ヘッドの溶着に
用いても、磁性合金薄膜との反応によりガラスが還元さ
れることなく、良好な接着、補強を行うことができる。

これにより、補強ガラスと、磁性合金薄膜の界面近傍で
の剥離を防止でき、高い接着強度を有し、外観上問題が
ないＭＩＧ型磁気ヘッドが実現し、生産歩留りや量産性
が向上する。

また、シールガラスに、このようなガラスを用いた本発
明のコンポジットタイプの磁気ヘッドでは、シールガラ
ス表面の変色、風化、腐食、侵食等を防止でき、信頼性
の高い磁気ヘッドが実現する。

さらに、ガラス安定性の向上により、溶着可能な温度幅
が３０ｄｅｇ程度までひろがり、過酷な溶着条件・状態
や封着条件・状態のものでも、表面失透等の不安定さを
現出させることなく溶着を行うことができ、生産歩留り
や量産性を向上させることができる。

なお、本発明者は、ガラス安定性が高（、しかも化学的
耐久性が高い低融点ガラスとして、ｒ　Ｓ　ｉ　Ｏｔを
２〜４５重量％、Ｂ２０．を１〜２１重量％、ＣｄＯを
１〜１５重量％、ＴｅＯ２を０．５〜１５重量％、Ｔｆ
ｆ２０を１〜１５重量％、Ｂ　ｉ　２０　ｓを１〜１５
重量％、ＡβＲｏｓを０〜５重量％およびＺｎＯを０〜
６重量％含有し、残部ＰｂＯであるガラス。」を提案し
ているが、前記の明細書には、ＣｄＯ，ＴｅＯ２，Ｔρ
ｚ　Ｏｓ　、　Ｂｉｔ　ＯｎおよびＰｂＯの５種の修飾
成分と、アルカリ金属酸化物とを併用した具体例は記載
されていない。

また、前記ガラスは、主にコンポジットタイプの磁気ヘ
ッドのシールガラスとして好適なものであり、ＭＩＧ型
磁気ヘッドの補強ガラスとして使用するには、耐還元性
が不十分である。

このため、ＭＩＧ型磁気ヘッドの補強ガラスとして使用
する場合、溶着の際、磁性合金薄膜との反応によりガラ
スが還元され、補強ガラスと、磁性合金薄膜の界面近傍
で剥離することがある。

本発明により得られる効果は、Ｓ　ｉ　Ｏｚと、Ｃｄ０
１Ｔｅｒａ　、Ｔｌ２ｔ　Ｏ，Ｂｉ２０ｍおよびｐｂｏ
の５種の修飾成分と、Ｌｉｔ　ＯｌＮａｇ　Ｏ，Ｋｉ　
ＯおよびＲｂ２Ｏから選ばれる１種以上のアルカリ金属
酸化物とを併用する場合にのみ発現するものである。

〈発明の具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

本発明の特に磁気ヘッド用として好適なガラスは、ネッ
トワーク形成物質として５ｉｎ２を含有する。

Ｓｉ　Ｏ２の含有量は１０〜３５重量％、好ましくは２
０〜３１重量％とする。

前記範囲未満では安定したガラスを得ることが困難とな
り、前記範囲をこえると必要な熱特性が得られなくなる
。

また、Ｂ２０．の含有量は、０〜１０重量％、好ましく
は０〜５重量％とする。

前記範囲をこえると化学的耐久性が著しく劣化する。

この場合、本発明のガラスにはガラス安定性を向上させ
る点でＢ２０．が必須成分として含まれることが好まし
い。

Ｂ２Ｏ３を必須成分とする場合、Ｂ、Ｏ，の含有量は、
０．５〜１０重量％、特に０．５〜５重量％であること
が好ましい。

前記範囲未満ではＢｘ　Ｏｓの添加効果があられれない
傾向にある。

本発明のガラスには、さらにＬ　ｉ　ｚ　０１Ｎａ２０
．に２０およびＲｂ、Ｏから選ばれる１種以上のアルカ
リ金属酸化物が含有される。

これらの含有量は合計で１〜１８重量％、好ましくは１
〜１１重量％とする。

前記範囲未満では必要な熱特性を得ることができない。

　すなわち、熱膨張係数ａが９０×１０−’／ｄｅｇ以
下となり、Ｔｗは７５０℃をこえてしまう。

前記範囲をこえると、逆に熱膨張係数αが１３０　Ｘ　
１０−’／ｄｅｇ以上になってしまい、かつ、化学的耐
久性が劣化してしまう。

なお、Ｔｗとは、ガラスの粘度が１０４ｐｏｉｓｅとな
る温度であり、通常、作業温度と呼ばれる。

また、前記アルカリ金属酸化物のうち、アルカリ混合効
果を得るために、Ｎ　ａ　ｘ　Ｏおよびに２０の１種以
上、特にＮａ２Ｏおよびに、０を含有することが好まし
い。

この場合、Ｎ　ａ　２０の含有量は、０，５〜８重量％
、特に０．５〜５重量％、Ｋ、Ｏの含有量は、０，５〜
１２重量％、特に０．５〜８重量％であることが好まし
い。

そして本発明のガラスは、修飾成分としてさらにＣｄＯ
，Ｔｅａ、、Ｔｊ２．０、ＰｂＯおよびＢ１２ｏ３を含
有する。

ＣｄＯの含有量は、１〜１５重量％、好ましくは２〜１
２重量％とする。

前記範囲未満ではＣｄＯの効果が発現ゼず、ＣｄＯは劇
薬、毒物なので前記範囲をこえる範囲では使用しないこ
とが好ましい。

なお、１５重量％以下で十分に効果が発現する。

Ｔ　ｅ　Ｏａの含有量は、０．５〜１５重量％、好まし
くは１〜８重量％とする。

前記範囲未満ではＴ　ｅ　Ｏｚの効果が発現せず、前記
範囲をこえると失透傾向が強（なる。

丁ρ２０の含有量は１〜１５重量％、好ましくは２〜１
２重量％とする。

前記範囲未満ではＴρ２０の効果が発現せず、前言己範
囲をこえると化学的耐久性が劣化する。

Ｂ　Ｌ　２０　ｇの含有量は１〜１５重量％、好ましく
は１〜８重量％とする。

前記範囲未満でばＢ２０．の効果が発現しない。

前記範囲をこえると耐還元性が低下する。

すなわち、ＭＩＧ型磁気ヘッドのガラス溶着において、
磁性合金薄膜との界面でＢｉの金属結晶が析出しやすく
なる。

そして残部がＰｂＯである。

この場合ｐｂｏ含有量は、１７〜８２，５重量％、特に
３０〜７５重量％であることが好ましい。

また、本発明のガラスには、修飾成分とじてさらにＡｆ
ｆ−０−、ＺｎＯおよびＡｓ２０ｍから選ばれる１種以
上が含有される場合がある。

ＡＩ２．２０３の含有量は、０〜５重量％、好ましくは
０〜３重量％とする。

前記範囲をこえると熱的特性（熱膨張係数α、作業温度
Ｔｗ）のコン１−ロールが困難となる。

この場合、本発明のガラスには化学的耐久性の向上やガ
ラス安定性の向上の点でＡｊ２２０゜が必須成分として
含まれることが好ましい。

ＡＪ２２０．を必須成分とする場合１ ．１２．Ｏ，の含有量は、０．５−５重量％、特に０．
５〜３重量％であることが好ましい。

前記範囲未満では／Ｍ！２Ｏ３の添加効果があられれな
い傾向にある。

ＺｎＯの含有量は、０〜６重量％、好ましくは０〜４重
量％とする。

前記範囲をこえるとガラス安定性が失われる傾向にある
。

ＡＳ２Ｏ３の含有量は、０〜０．５重量％とする。

前記範囲をこえるとＰｂ−Ａｓ合金がコロイドとして生
成しやすくなる。

この場合、本発明のガラスには清澄作用が発現する点で
Ａｓ５ｅｓが必須成分として含まれることが好ましい。

Ａｓ５ｅｓを必須成分とする場合、 Ａｓｓ　Ｏｘの含有量は、０．１〜０．５重量％である
ことが好ましい。

前記範囲未満ではＡｓｚ　Ｏｓの添加効果があられれな
い傾向にある。

なお、本発明には必要に応じ、Ｇ　ｅ　Ｏ２、Ｂａｄ、
ＳｒＯ，Ｃａｂ、ＭｇＯ等から選ばれる１種以上が合計
で１５重量％以下、特に１０重量％以下含有していても
よい。

本発明のガラスの製造は、例えば下記のように行なえば
よい。

まず、目的とするガラス組成に応じて原料を所定の組成
に配合し、大気中で十分に溶融した後、冷却する。

ＰｂＯ以外の原料には特に制限はないが、ＰｂＯの原料
には、Ｐｂ５Ｏ−ではなく　ｐｂ。

を用いる。

このようにして得られる本発明のガラスの作業温度Ｔｗ
は、５００〜７５０℃程度、熱膨張係数は、１００〜３
００℃にて９０〜１１０×１０−’ｄｅｇ−’程度テア
ル。

本発明のガラスを磁気ヘッドに使用する場合は、補強ガ
ラスやシールガラス等のそれぞれの用途に応じ、熱膨張
係数、作業温度Ｔｗ、粘度等の熱的特性を適宜選択すれ
ばよい。

また、本発明のガラスは、磁気ヘッド以外にもＩＣパッ
ケージ等の各種電子部品等にも用いることができる。　
この場合も磁気ヘッドと同様に熱的特性が適合し、優れ
た化学的耐久性を有する製品が実現する。

次に、本発明のガラスを、磁気ヘッドの補強ガラスとシ
ールガラスとに用いる場合を例にとり、本発明の磁気ヘ
ッドと共に説明する。

第１図および第２図に、本発明のＭＩＧ型磁気ヘッドの
好適実施例を示す。

第１図に示される磁気ヘッドは、第１コア１と第２コア
２とがギャップ５を介して対向して構成され、第１コア
１と第２コア２とは、補強ガラス３により溶着一体化さ
れている。　また、第１コア１のギャップ部対向面に、
磁性合金薄膜４が形成されている。

そして、このようなコアブロックに巻線が施され、磁気
ヘッドとされる。

また、第２図に示される磁気ヘッドは、磁性合金薄膜４
が第１コア１および第２コア２の双方のギャップ部対向
面に形成されている他は、第１図に示される磁気ヘッド
と同様の構成である。

第３図に示される磁気ヘッドは、磁気ヘッドフロント面
のギャップ５両側に補強ガラス３が露出した構成のＭＩ
Ｇ型磁気ヘッドであり、図示例では、ギャップ５両側に
磁性合金薄膜４が形成されている。

第５図に示される磁気ヘッドは、モノリシックタイプの
浮上型のＭＩＧ型磁気ヘッドであり、図示例では、第１
コア１のギャップ部対向面に磁性合金薄膜４が形成され
ている。

そして、第２コア２はスライダ機能を有するように構成
されている。

この場合、磁気ヘッドのコアの窓形状には特に制限はな
いが１巻線の巻回作業が容易であり、さらに磁気ヘッド
としてより優れた動特性が得られる点で、図示されるよ
うに第１コア１と第２コア２の対向部をそれぞれ凹状に
したいわゆるＯ型態タイプが好ましい。

なお、図示されるＯ型態タイプの磁気ヘッドでは、コア
の接合強度の補強ガラス３への依存性が高いため、本発
明のガラスの効果が特に顕著に発揮される。

第１図〜第３図および第５図に示されるような磁気ヘッ
ドにおいて、補強ガラス３には本発明のガラスを用いる
。

第１図、第２図および第５図に示される構成では、ギャ
ップ５を介して第１コア１と第２コア２とを対向させ、
ガラスファイバ等の補強ガラス原料を巻線窓やコアブロ
ック裏面側に配置し、熱処理を行ない、補強ガラス３を
形成する。

また、第３図に示される構成では、ギャップ５両側およ
びコアブロック裏面側のそれぞれにガラス原料を配置し
て同時に熱処理を行なうことにより補強ガラス３を形成
する。　次いで、フロント面を研磨等により平滑化する
。

なお、第３図に示される構成では、コアブロック裏面側
の補強ガラス３を、高Ｓｉ　Ｏｔの強度の高いガラスで
構成し、フロント面側のギャップ５両側の補強ガラス３
を本発明のガラスで構成してもよい。

この場合、強度の高い高Ｓｉ０ｇガラスは一般に本発明
のガラスより作業温度Ｔｗが高いため、コアブロック裏
面側を強度の高い前記ガラスで溶着し、さらにフロント
面側を本発明のガラスで溶着する。

このような構成とすることにより、本発明の効果が実現
した上で、さらに強度の高い磁気ヘッドが得られる。

第４図には、本発明の磁気ヘッドの好適実施例であるＭ
ＩＧ型のコンポジットタイプの磁気ヘッドの１例が示さ
れる。

コアブロック６は、例えば第１図あるいは第２図に示さ
れるコアブロックと同様に構成される。

そして、このコアブロック６をスライダー８のコアブロ
ック挿入用切り欠き部に挿入し、磁気ヘッド封着用のシ
ールガラス７にて両者を接合・封着（２吹溜着）し、巻
線９を巻回して磁気ヘッドとする。

このようなコンポジットタイプの磁気ヘッドにおいて、
補強ガラス３および／またはシールガラス７、特に補強
ガラス３には本発明のガラスを用いる。

そして、封着に際しては、封着温度を作業温度Ｔｗ近辺
とし、通常の方法により行なう。

なお、前記の溶着や封着に際しては、本発明のガラスの
特性上、溶着条件や封着条件が緩和され、溶着ないし封
着温度に３０ｄｅｇ程度の幅ができる。

ここで、最適なコンポジットタイプの特にＭＩＧ型の磁
気ヘッドには、補強ガラス３に前記の本発明のガラスを
用い、シールガラス７に下記のガラスを用いる。

〈シールガラス〉 Ｌ滅 Ｓｉｎ、　　　：２〜３３重量％、 特に１０〜１７重量％ Ｂ、Ｏｓ　　　：１〜１５重量％、 特に１〜７重量％ ＣｄＯ：１−１５重量％、 特に２〜１０重量％ Ｔｅｎｔ　　　：　０．５〜１５重量％、特に２〜７重
量％ ＴＩ２．Ｏ：１〜１５重量％、 特に２〜１０重量％ Ｂ　ｉ　ｓ　Ｏｘ　　：　１〜１５重量％、特に２〜１
２重量％ Ａρ、０．：０〜５重量％、 特に０．５〜４重量％ ＺｎＯ：　０〜６重量％、 特に１〜４重量％ 残部ＰｂＯ この場合、ＰｂＯの含有量は、３０〜７５重量％、特に
４７〜７３重量％が好ましい。

また、ＧｅＯｘ　、Ｂａｄ、ＭｇＯ，ＣａＯ１ＳｒＯ等
の１種以上が０〜４重量％含有していてもよい。

然１目り二 作業温度Ｔｗ　：　５００〜５８０’Ｃ熱膨張係数（１
００−３００’Ｃ）　　：　９０　Ｘ　１０−’〜１１
０Ｘ　１０−’ｄｅｇ− そして、封着温度（２吹溜着温度）は５００〜５８０℃
程度である。

なお、このシールガラスは、Ｃｄ０１ Ｔ　ｅ　Ｏ＊　、Ｔ　Ｉ２ｘ　Ｏ％Ｂ　１　ｚ　Ｏｍ　
８　Ｊ：　Ｕ　Ｐ　ｂ　０の５種の修飾成分を含有し、
アルカリ含有量が零であるにも拘らず、Ｔｗが小さく、
熱膨張係数が高く、チタン酸カルシウムのスライダーや
フェライト製コアの熱膨張にマツチする。

そして、ガラス安定性および化学的耐久性が高い。

このためコンポジットタイプの磁気ヘッドのシールガラ
スとして最適である。

本発明において、第１コア１および第２コア２はフェラ
イトから構成される。

用いるフェライトに特に制限はないが、Ｍ　ｎ　−Ｚ　
ｎフェライトまたはＮｉ−Ｚｎフェライトから目的に応
じて選択することが好ましい。

なお、フェライト製の第１コアおよび第２コア２の１０
０〜３００℃での熱膨張係数は、９０Ｘ１０−’〜１５
０Ｘ１０−’ｄｅｇ−’程度である。

磁性合金薄膜４は、第１コア１および第２コア２よりも
高い飽和磁束密度を有し、記録時に密度の高い磁束を発
生させ、高い保磁力を有する磁気記録媒体に有効な記録
を行なうために設けられる。

本発明において、磁性合金薄膜４は、ＦｅおよびＳｉを
含有する磁性合金から構成されることが好ましい。　こ
の合金は、ガラス溶着時の熱に対して安定性が高い。

このような磁性合金としては、Ｆｅ−Ａρ−Ｓｉ系合金
（センダスト）　、Ｆｅ−Ｇａ−３ｉ系合金（ＳＯＦＭ
ＡＸ）あるいはＦｅ−Ｓｉ合金が好ましい。

Ｆ　ｅ　−Ａ　Ｑ　−Ｓ　ｉ系合金としては、センダス
トの他、Ａ氾２〜６重量％、Ｓｉ６〜１２重量％で残部
Ｆｅであるものが好ましい。

Ｆｅ−Ｇａ−５ｉ系合金としては、 ＳＯＦＭＡＸの他、Ｇａ５〜１５重量％、Ｓｉ７〜２０
重量％、残部Ｆｅであるものが好ましい。

Ｆｅ−Ｓｉ合金としては、ＳＬｏ、５〜１０重量％で残
部Ｆｅであるものが好ましく、特に、Ｓｉ１〜６重量％
で残部Ｆｅであるものが好ましい。

これらには、Ｃｒ等の添加元素が３重量％程度以下含有
されていてもよい。

磁性合金薄膜４の膜厚は、好ましくは０．２〜５ｐ、さ
らに好ましくは０．５〜３−である。

フェライトコアと磁性合金薄膜４間には、溶着を行なう
際の磁性合金薄膜４とフェライトコア相互の反応を防止
し、さらに界面の密着力を向上するため、非晶質ガラス
等の下地膜を形成してもよい。

あるいは、フェライトコアと磁性合金薄膜４問および／
または磁性合金薄膜４とギャップ５間にはＣｒ、非晶質
ガラス等の下地膜を形成してもよい。

なお、下地膜は図示されていない。

磁性合金薄膜４や下地膜は、スパッタ法、蒸着法、ＣＶ
Ｄ法等の公知の各種気相成膜法により形成されることが
好ましく、特にスパッタ法により形成されることが好ま
しい。

ギャップ５は、非磁性材質から構成される。

特に、ギャップ５には、接着強度を高めるためガラスを
用いることが好ましい。　この場合、ギャップ５には、
例えば、前記の非晶質ガラス下地膜と同一あるいは同系
のガラス、例えば、鉛−シリカ系のガラス、シリカ−ア
ルカリ系のガラス等を用いればよい。

また、ギャップ５は、前記のガラスのみで形成されてい
てもよいが、ギャップ形成速度を高めるため、図示のよ
うにギャップ５１とギャップ５３との２層で構成される
ことが好ましい。

この場合、ギャップ５１には酸化ケイ素、特にＳｉＯ２
を用い、ギャップ５３には前記の非晶質ガラス下地膜と
同一あるいは同系のガラスを用いることが好ましい。

ギャップ５の形成方法には制限はないが、特にスパッタ
法を用いることが好ましい。

スライダー８は、チタン酸カリウム、チタン酸カルシウ
ム、チタン酸ストロンチウム等の非磁性セラミックス等
が用いられる。　なお、このような非磁性セラミックス
の１００〜３００℃での熱膨張係数は９０Ｘ１０−’〜
１２０×１０−’ｄｅｇ−’程度である。

以上では、コアのギャップ部対向面に高飽和磁束密度の
磁性合金薄膜を有するＭＩＧ型の磁気ヘッドを例に挙げ
説明したが、本発明の磁気ヘッドはこれに限定されるも
のではない。　例えば、磁性合金薄膜４のないノーマル
タイプの磁気ヘッド、１対のフェライト製コアの少なく
とも一方のコアのギャップ部対向面に、コアより飽和磁
束密度の低い磁性合金薄膜を形成したいわゆるデュアル
・ギャップ・レングス（ＤＧＬ）型のＭＩＧ型磁気ヘッ
ド、さらにはフェライト製コアより飽和磁束密度の高い
磁性合金薄膜と、飽和磁束密度の低い磁性合金薄膜とを
形成したいわゆるエンハンスト・デュアル・ギャップ・
レングス（ＥＤＧ）型のＭＩＧ型磁気ヘッドであっても
よい。

これらの場合も前述したＭＩＧ型磁気ヘッドと同様、優
れた化学的耐久性、耐還元性およびガラス安定性が得ら
れる。

本発明は、いわゆるラミキー１−タイプやバルクタイプ
等のトンネルイレーズ型あるいはイレーズヘッドを有し
ないリードライト型などのオーバーライド記録を行なう
フロッピーヘッド、モノリシックタイプや前述したコン
ポジットタイプの浮上型の計算機用ヘッド、回転シリン
ダを用いるＶＴＲ用ヘッドやＤＡＴ用ヘッドなどの各種
磁気ヘッドに適用される。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。

［実施例１コ 表１に示される本発明のガラスＡ〜Ｅｇよび比較用のガ
ラスＦ〜Ｋを用意した。

また、本発明の効果をより一層明瞭に示すため、公知組
成のガラスのほか、本発明者が発明し、未だ出願公開さ
れていない比較用のガラスも用意した。

表１には、ガラス組成、１００〜３００℃での熱膨張係
数α１゜。−８゜。および作業温度Ｔｗを記載した。　
なお、本発明のガラスＡ〜Ｅはガラス安定性も良好であ
った。

ギヤツブ部対向面に磁性合金薄膜４が形成されている第
１コア１と、第２コア２とをギャップ５を介して接合一
体止して第５図に示されるＭＩＧ型のモノリシックタイ
プの磁気ヘッドサンプルＮｏ、　　１　、Ｎｏ、　　３
、Ｎ０１８、ＮＯ６９およびＮｏ、１０と、比較サンプ
ルＮＯ１２、Ｎｏ、４〜Ｎｏ、　７およびＮｏ、１１と
を製造した。

各サンプルのコアの溶着に用いた補強ガラスは、表２に
示されるとおりであり、表中には溶着温度を併記した。

コア１．２の材質にはＭｎ−Ｚｎフェライトを用い、Ｎ
ｏ、　９のみは単結晶フェライトを用いた。　Ｎ００８
以外の各コアの１００〜３００℃での熱膨張係数は、１
２５〜１３５Ｘ１０−’ｄｅｇ−’であった。　また、
Ｎ０１８のコアの１００〜３００℃での熱膨張係数は、
１４５〜１５５　Ｘ　１０−’ｄｅｇ″１であった。　
なお、各サンプルのコアの窓は、図示されるように、い
わゆる０型窓タイプとした。

磁性合金薄膜４には、Ｆ　ｅ　ｓｓ　Ｓ　Ｌ　＋　ｏＡ
　４２　ｓ（重量％）を用い、直流での飽和磁束密度は
１１０００Ｇ、周波数５００　ｋＨｚでの初透磁率は２
１００、保磁力は０．１５であった。　なお、成膜はス
パッタ法により行ない、膜厚は１．８−とした。

ギャップ５１にはＳ　ｉ　Ｏ２を用い、スパッタにより
形成し、その膜厚は０．４−とした。

サンプルＮｏ、　３．４．５．６．７および１１のギャ
ップ５３には、 ３５ＳｉＯ，−２Ａｎ、Ｏ，−１，５Ｂ、０゜４　Ｎ　
ａ　−０−５、５Ｋ　ｚ　Ｏ４８Ｐ　ｂ　０−４ＺｎＯ
（重量％）の組成を有し、作業温度Ｔｗが７８０℃のガ
ラスを用いた。

サンプルＮｏ、　　１．２．８．９および１０には、同
系のより低粘度のガラスをギャップガラスとした。

なお、ギャップ５３はスパッタにより形成し、その膜厚
は０．２−とした。

また、第１コアｌと磁性合金薄膜４間には、スパッタに
より１００人程度のＣｒ膜を形成し、磁性合金薄膜４と
ギャップ５１間には、スパッタにより３００人程度のＣ
ｒ膜を形成した。

各サンプルにつき下記の試験を行なった。

１）耐還元性の評価 補強ガラス３の溶着後に、ガラスと磁性合金薄膜の界面
近傍における金属結晶の析出状態を電子顕微鏡にて観察
した。

評価基準は下記の通りとした。

○・・・金属結晶の析出なし △・・・径１−程度の金属結晶が析出 ×・・・径数−の金属結晶が多数析出 ２）生産歩留りの評価 評価基準は下記の通りとした。

０・・・１００個加工して完成品９５個以上Ｏ・・・１
００個加工して完成品５０個以上９５個未満 △・・・１００個加工して完成品５個以上５０個未満 ×・・・１００個加工して完成品５個未満３）引っ張り
試験 磁気ヘッド加工工程の中間、つまり、補強ガラスでコア
を溶着した半完成品に対し、溶着されているコアが破断
するまで第１コア１を引っ張る。

そして、コアが破断したときの引っ張り強度を求める。

また、引っ張り試験にて割れたコアの破断状態を観察す
る。

破断モードには、大別して磁性合金薄膜４と補強ガラス
３の界面付近で割れる場合（Ｍ−Ｇ界面）と、補強ガラ
ス３内で割れる場合（補強ガラス内）との２つがある。

Ｍ−Ｇ界面・・・補強ガラス３と、磁性合金薄膜４とが
反応し、補強ガラスが還 元され、界面における接着強度 が低下することにより生じる。

補強ガラス内・・・補強ガラスが、補強ガラス３と、磁
性合金薄膜４とが反応し ても還元されないだけの耐還元 性を有する。　このため、界面 での接着強度が高く、破断は補 強ガラス内にて生じる。

４）化学的耐久性（耐湿・耐水性）の評価サンプルに対
し、耐湿試験および耐水試験を行ない、鏡面研磨された
補強ガラス表面の変色度合で評価した。

耐湿試験は、６０℃、９５％ＲＨの環境中に、１０日間
時間放置することにより行なった。

耐水試験は、室温のイオン交換水中に、９６時間浸漬す
ることにより行なった。

これらの結果は表２に示されるとおりである。

表１および表２に示される結果から、本発明の効果が明
らかである。

なお、サンプルＮｏ、　８に用いた補強ガラスＣは、α
＋ｏｏ−ｓｏｏが１１５　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’ｄｅｇ−’で
あり、他のガラスに比べα１．、。−８゜。を約１０×
１０−’ｄｅｇ−’高くしである。　このため、化学的
耐久性を少し犠牲にしている。

また、サンプルＮｏ、　９に用いた補強ガラスＤは、α
＋ｏａ−ｓｏｏが９０　Ｘ　１０−’ｄｅｇ−’であり
、Ｍｎ−Ｚｎフェライト製コアに、センダスト等の磁性
合金薄膜を形成した通常のＭＩＧ型磁電磁気ヘッド強ガ
ラスには使われない。　ここでは、耐還元性の評価を行
なうために前記のとおり、単結晶フェライトを用いて溶
着を行なった。　従って生産歩留りおよび引っ張り強度
の評価は行なっていない。

［実施例２］ 実施例１と同様にして、第１図に示されるように、磁性
合金薄膜４を有する第１コア１と第２コア２とを、ギャ
ップ５を介して補強ガラス３により接合一体止してコア
ブロックを形成し、第４図に示されるＭＩＧ型のコンポ
ジットタイプの磁気ヘッド用のコアブロック６とした。

そして実施例１と同様の試験を行なったところ、同等の
結果が得られた。

次に、コアブロック６をチタン酸カルシウムスライダー
８にシールガラス７により固定・封！！（２法治着）し
た。

チタン酸カルシウムスライダー８の１００〜３００℃で
の熱膨張係数は１０５〜１１５Ｘ１０−’ｄｅｇ−’で
あった。

シールガラス７の組成、Ｑ　ｔｏｏ−３００およびＴｗ
は表３に示されるとおりである。

また、シールガラス７と、コアブロック６との組み合わ
せは表４に示されるとおりである。

表　　　４ サンプル　　コアブロック　　シール Ｎｏ、　　　　の補強ガラス　　ガラス１２（本発明） １３（本発明） １４（本発明） １５（本発明） １６（本発明） １７（本発明） 封着（２法治ｓＦ）温度 （”Ｃ） 完成したコンポジットタイプの磁気ヘッドサンプルＮｏ
、１２〜Ｎｏ、１７に対し、化学的耐久性、すなわち耐
湿性（６０℃、９５％、１０日間）と、耐水性（イオン
交換水、室温、１２時間浸漬）とを評価したところ、耐
湿性試験後でのシールガラス表面の変色はなく、耐水性
試験後のシールガラスの段差は５０ｎｍ程度以下と微小
であった。

なお、コンポジットタイプの磁気ヘッドのシールガラス
の場合、耐還元性が低くてもほとんど問題がない。

また、前記の本発明のガラスＡ、ＢおよびＣをコンポジ
ットタイプの磁気ヘッドのシールガラスに適用した場合
も、実施例１と同様に高い化学的耐久性が得られた。

以上の結果から本発明の効果が明らかである。

〈発明の効果〉 本発明のガラスは、特に磁気ヘッドの補強ガラスやシー
ルガラス、より好ましくは補強ガラスに適した熱膨張係
数や粘度等の熱的特性と、優れた化学的耐久性、耐還元
性等の化学的安定性とを有する。

このため、本発明のガラスを磁気ヘッドに適用した場合
、磁気ヘッドを加工、使用、保存する環境中で、ガラス
の変色や変質等の化学的変化が防止され、磁気ヘッドの
信頼性が向上する。

そして、本発明のガラスは、ＭＩＧ型磁気ヘッドの各部
材の接合用の補強ガラスとして使用したとき、磁性合金
薄膜との間に過剰な酸化・還元反応が生じない。

これにより、磁性合金薄膜と、ガラスとの界面でのガラ
ス構成成分の析出が防止され、ガラス強度の低下や、磁
性合金薄膜とこれらのガラスとの界面での剥離、あるい
は磁気ヘッドの外観不良を防止できる。

このため、高い接着強度を有し、外観不良のないＭＩＧ
型磁気ヘッドが実現する。　また、生産歩留りが向上す
る。

さらに、本発明のガラスは、溶着ないし封着可能な温度
幅が広いため、溶着・封着条件が緩和され、量産性が格
段と向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明のＭＩＧ型磁気ヘッドの
１例が示される部分断面図である。 第３図は、本発明のＭＩＧ型磁気ヘッドの１例が示され
る斜視図である。 第４図は、本発明のコンポジットタイプのＭＩＧ型磁気
ヘッドの１例が示される斜視図である。 第５図は、本発明のモノリシックタイプのＭＩＧ型磁気
ヘッドの１例が示される斜視図である。 符号の説明 １・・・第１コア ２・・・第２コア ３・・・補強ガラス ４・・・磁性合金薄膜 ５．５１．５３・・・ギャップ ６・・・コアブロック ７・・・シールガラス ８・・・スライダー ９・・・巻線 Ｆ　ＩＧ、　１ ら ＦＩＧ・２ へ 特許出願人　ティーデイ−ケイ株式会社代　　理　　人
　　弁理士　　　石　　井　　隔間　　　　　弁理士　
　　増　　１）　達　　哉Ｇ。 ら Ｇ、４

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＳｉＯ＿２を１０〜３５重量％、Ｂ＿２Ｏ＿３を
   ０〜１０重量％、ＣｄＯを１〜１５重量％、ＴｅＯ＿２
   を０．５〜１５重量％、Ｔｌ＿２Ｏを１〜１５重量％、
   Ｂｉ＿２Ｏ＿３を１〜１５重量％、Ｌｉ＿２Ｏ、Ｎａ＿
   ２Ｏ、Ｋ＿２ＯおよびＲｂ＿２Ｏから選ばれる１種以上
   を１〜１８重量％、 Ａｌ＿２Ｏ＿３を０〜５重量％、ＺｎＯを０〜６重量％
   、Ａｓ＿２Ｏ＿３を０〜０．５重量％含有し、残部Ｐｂ
   Ｏであることを特徴とするガラス。
2. （２）一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
   合わせ、補強ガラスにより溶着一体化した磁気ヘッドで
   あって、 前記補強ガラスが、請求項１に記載のガラスであること
   を特徴とする磁気ヘッド。
3. （３）一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
   合わせ、補強ガラスにより溶着一体化したコアブロック
   を、スライダーにシールガラスにより固定封着した磁気
   ヘッドであって、前記補強ガラスおよび／またはシール
   ガラスが、請求項１に記載のガラスであることを特徴と
   する磁気ヘッド。
4. （４）前記補強ガラスが、請求項１に記載のガラスであ
   り、前記シールガラスが、ＳｉＯ＿２を２〜３３重量％
   、Ｂ＿２Ｏ＿３を１〜１５重量％、ＣｄＯを１〜１５重
   量％、ＴｅＯ＿２を０．５〜１５重量％、Ｔｌ＿２Ｏを
   １〜１５重量％、Ｂｉ＿２Ｏ＿３を１〜１５重量％、Ａ
   ｌ＿２Ｏ＿３を０〜５重量％およびＺｎＯを０〜６重量
   ％含有し、残部ＰｂＯである請求項３に記載の磁気ヘッ
   ド。
5. （５）前記一対のフェライト製コア間のギャップ部に磁
   性合金薄膜を形成した請求項２ないし４のいずれかに記
   載の磁気ヘッド。